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臺(tái)積電2nm良率提高6%:可為客戶節(jié)省數(shù)十億美元

  • 臺(tái)積電將于明年下半年開(kāi)始量產(chǎn)其2nm(N2)制程工藝,目前臺(tái)積電正在盡最大努力完善該技術(shù),以降低可變性和缺陷密度,從而提高良率。一位臺(tái)積電員工最近對(duì)外透露,該團(tuán)隊(duì)已成功將N2測(cè)試芯片的良率提高了6%,為公司客戶“節(jié)省了數(shù)十億美元”。這位自稱(chēng) Kim 博士的臺(tái)積電員工沒(méi)有透露該代工廠是否提高了 SRAM 測(cè)試芯片或邏輯測(cè)試芯片的良率。需要指出的是,臺(tái)積電在今年1月份才開(kāi)始提供 2nm 技術(shù)的穿梭測(cè)試晶圓服務(wù),因此其不太可能提高之前最終將以 2nm 制造的實(shí)際芯片原型的良率,所以應(yīng)該是指目前最新的2nm技術(shù)的
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臺(tái)積電2nm制程設(shè)計(jì)平臺(tái)準(zhǔn)備就緒,預(yù)計(jì)明年末開(kāi)始量產(chǎn)

  • 在歐洲開(kāi)放創(chuàng)新平臺(tái)(OIP)論壇上,臺(tái)積電表示電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)工具和第三方IP模塊已為性能增強(qiáng)型N2P/N2X制程技術(shù)做好準(zhǔn)備。目前,Cadence和Synopsys的所有主要工具以及Siemens EDA和Ansys的仿真和電遷移工具,都已經(jīng)通過(guò)N2P工藝開(kāi)發(fā)套件(PDK)版本0.9的認(rèn)證,該版本PDK被認(rèn)為足夠成熟。這意味著各種芯片設(shè)計(jì)廠商現(xiàn)在可以基于臺(tái)積電第二代2nm制程節(jié)點(diǎn)開(kāi)發(fā)芯片。據(jù)悉,臺(tái)積電計(jì)劃在2025年末開(kāi)始大規(guī)模量產(chǎn)N2工藝,同時(shí)A16工藝計(jì)劃在2026年末開(kāi)始投產(chǎn)。臺(tái)積電N2系
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日本政府將向Rapidus投資13億美元,力推2027年量產(chǎn)2nm芯片

  • 日本政府正加速推進(jìn)本土尖端芯片制造業(yè)的發(fā)展,計(jì)劃在2025財(cái)年向芯片制造商Rapidus投資2000億日元(約合12.9億美元),以刺激私營(yíng)部門(mén)的進(jìn)一步投資和融資。Rapidus計(jì)劃在2027年實(shí)現(xiàn)2nm芯片的量產(chǎn),但這一目標(biāo)需耗資高達(dá)5萬(wàn)億日元。盡管日本政府已同意向Rapidus提供9200億日元補(bǔ)貼,剩余約4萬(wàn)億日元的資金缺口仍是關(guān)注焦點(diǎn)。為此,政府計(jì)劃通過(guò)擔(dān)保債務(wù)和國(guó)家機(jī)構(gòu)投資等方式支持公司融資,并計(jì)劃將該提案納入即將敲定的經(jīng)濟(jì)刺激計(jì)劃中。根據(jù)計(jì)劃,政府投資規(guī)模將取決于私營(yíng)部門(mén)的資金貢獻(xiàn),但公共部門(mén)
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iPhone 17全系無(wú)緣臺(tái)積電2nm工藝制程

  • 對(duì)于iPhone 17系列將搭載的芯片將是由臺(tái)積電第三代3nm制程工藝,也就是由N3P制程工藝代工的A19和A19 Pro,iPhone 17和iPhone 17 Air搭載A19芯片,iPhone 17 Pro和iPhone 17 Pro Max搭載A19 Pro芯片。這也意味著iPhone 17系列無(wú)緣臺(tái)積電最新的2nm工藝制程,蘋(píng)果最快會(huì)在iPhone 18系列上引入臺(tái)積電2nm制程。資料顯示,臺(tái)積電2nm(N2)工藝最快會(huì)在2025年推出,臺(tái)積電CEO魏哲家在近幾個(gè)季度的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上表示2
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曝iPhone 17全系首發(fā)3nm A19系列芯片:無(wú)緣臺(tái)積電2nm工藝制程

  • 11月19日消息,分析師Jeff Pu在報(bào)告中提到,iPhone 17、iPhone 17 Air首發(fā)搭載A19芯片,iPhone 17 Pro和iPhone 17 Pro Max首發(fā)搭載A19 Pro芯片,這兩顆芯片都是基于臺(tái)積電第三代3nm制程(N3P)打造。據(jù)悉,iPhone 15 Pro系列首發(fā)的A17 Pro基于臺(tái)積電第一代3nm制程(N3B)打造,iPhone 16系列的A18和A18 Pro基于臺(tái)積電第二代3nm制程(N3E)打造。相比N3E,采用N3P工藝打造的芯片擁有更高的晶體管
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iPhone17 Pro系列將采用2nm制程芯片,臺(tái)積電加快試產(chǎn)但有挑戰(zhàn)

  • 市場(chǎng)消息傳出,臺(tái)積電正在提前試產(chǎn)2nm芯片,預(yù)期將在明年iPhone17上首度亮相,但也面臨一些挑戰(zhàn)。兩位消息人士透露,臺(tái)積電去年12月已向蘋(píng)果和NVIDIA在內(nèi)的最大客戶展示首款「N2」原型的制程測(cè)試結(jié)果;2nm制造設(shè)備已于第二季開(kāi)始進(jìn)駐寶山廠并進(jìn)行安裝、于第三季試產(chǎn),比市場(chǎng)預(yù)期的第四季還早。市場(chǎng)解讀,臺(tái)積電在量產(chǎn)前加快速度是為了確保良率穩(wěn)定。有報(bào)導(dǎo)稱(chēng),蘋(píng)果可能已預(yù)留臺(tái)積電所有2nm產(chǎn)能,和首次用于iPhone 15 Pro 的3nm芯片一樣。雖然臺(tái)積電能制造芯片,但需要其他供應(yīng)商協(xié)助,2nm更是凸顯出
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良品率還不到20%!三星2nm工藝仍舊不堪大用

  • 在不靠譜這臺(tái)路上,三星似乎一直很靠譜……根據(jù)集邦咨詢的最新報(bào)告,三星的2nm工藝仍然面臨極大困難,目前的良品率只有可憐的10-20%,完全無(wú)法投入量產(chǎn)。受此壓力,三星計(jì)劃在海外更大規(guī)模地裁員,從美國(guó)得克薩斯州的泰勒工廠撤回更多人員。事實(shí)上,據(jù)稱(chēng)三星晶圓廠的整體良品率都不到50%,尤其是在3nm及更先進(jìn)工藝上非常差勁。要知道,臺(tái)積電的整體良率約有60-70%。三星官方的計(jì)劃是,2025年量產(chǎn)2nm,包括SF2、SF2P、SF2X、SF2A、SF2Z等多個(gè)不同版本,2027年繼續(xù)量產(chǎn)1.4nm。據(jù)悉,三星2n
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消息稱(chēng)三星電子再獲 2nm 訂單,為安霸 Ambarella 代工高級(jí)駕駛輔助系統(tǒng)芯片

  • IT之家?9 月 11 日消息,韓媒 The Elec 今日援引行業(yè)消息源報(bào)道稱(chēng),三星電子又收獲一份 2nm 制程先進(jìn)工藝代工訂單,將為美國(guó)無(wú)廠邊緣 AI 半導(dǎo)體企業(yè)安霸 Ambarella 生產(chǎn) ADAS(IT之家注:高級(jí)駕駛輔助系統(tǒng))芯片。知情人士表示,三星近期成功中標(biāo)安霸的代工訂單,相關(guān)產(chǎn)品預(yù)計(jì)于 2025 年流片,計(jì)劃 2026 年量產(chǎn)。根據(jù)三星今年 6 月公布的 2nm 家族路線圖,初代 SF2 工藝將于 2025 年量產(chǎn),而面向車(chē)用環(huán)境的 SF2A 量產(chǎn)時(shí)間落在 2027 年。若市場(chǎng)
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臺(tái)積電9月啟動(dòng)半年期MPW服務(wù),首次納入2nm制程

  • 市場(chǎng)消息指出,晶圓代工龍頭臺(tái)積電即將于9月啟動(dòng)半年一次的MPW服務(wù)客戶送件。最受矚目的是有望提供2nm制程選項(xiàng),顯示臺(tái)積電2025年投產(chǎn)2nm照時(shí)程進(jìn)入準(zhǔn)備階段,借MPW服務(wù)吸引下游設(shè)計(jì)公司。MPW是Multi Project Wafer縮寫(xiě),代表多計(jì)劃晶圓,將多客戶芯片設(shè)計(jì)樣品匯整到同片測(cè)試晶圓投片,可分?jǐn)偩A成本,快速完成芯片試產(chǎn)和驗(yàn)證。臺(tái)積電稱(chēng)呼MPW為“CyberShuttle”晶圓共乘服務(wù)。市場(chǎng)消息,臺(tái)積電3nm晶圓價(jià)格達(dá)2萬(wàn)美元,2nm晶圓單價(jià)更高達(dá)2.4萬(wàn)至2.5萬(wàn)美元,對(duì)中小IC設(shè)計(jì)公司是
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消息稱(chēng)臺(tái)積電本周試產(chǎn) 2nm 制程:蘋(píng)果拿下首波產(chǎn)能,有望用于 iPhone 17 系列

  • IT之家 7 月 15 日消息,臺(tái)媒工商時(shí)報(bào)消息,臺(tái)積電 2nm 制程本周試產(chǎn),蘋(píng)果將拿下首波產(chǎn)能。臺(tái)積電 2nm 制程芯片測(cè)試、生產(chǎn)與零組件等設(shè)備已在二季度初期入廠裝機(jī),本周將在新竹寶山新建晶圓廠進(jìn)行 2nm 制程試產(chǎn),并計(jì)劃 2025 年量產(chǎn),消息稱(chēng)預(yù)計(jì)由 iPhone 17 系列搭載。IT之家注:iPhone 15 Pro 搭載采用臺(tái)積電 3nm 工藝(N3B)制造的 A17 Pro 芯片;M4 iP
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三星宣布獲首個(gè)2nm AI芯片訂單

  • 自三星電子官網(wǎng)獲悉,7月9日,三星電子宣布將向日本人工智能公司Preferred Networks提供采用2nm GAA工藝和先進(jìn)2.5D封裝技術(shù)的Interposer-Cube S(I-Cube S)一站式半導(dǎo)體解決方案。據(jù)介紹,2.5D先進(jìn)封裝I-Cube S技術(shù)是一種異構(gòu)集成封裝技術(shù),通過(guò)將多個(gè)芯片集成在一個(gè)封裝中,從而提高互連速度并縮小封裝尺寸。聲明中稱(chēng),Preferred Networks的目標(biāo)是借助三星領(lǐng)先的代工和先進(jìn)的封裝產(chǎn)品,開(kāi)發(fā)強(qiáng)大的AI加速器,以滿足由生成式AI驅(qū)動(dòng)的日益增長(zhǎng)的計(jì)算需求
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臺(tái)積電試產(chǎn)2nm制程工藝,三星還追的上嗎?

  • 據(jù)外媒報(bào)道,臺(tái)積電的2nm制程工藝將開(kāi)始在新竹科學(xué)園區(qū)的寶山晶圓廠風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),生產(chǎn)設(shè)備已進(jìn)駐廠區(qū)并安裝完畢,相較市場(chǎng)普遍預(yù)期的四季度提前了一個(gè)季度。芯片制程工藝的風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)是為了確保穩(wěn)定的良品率,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn),風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)之后也還需要一段時(shí)間才會(huì)量產(chǎn)。在近幾個(gè)季度的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上,臺(tái)積電CEO魏哲家是多次提到在按計(jì)劃推進(jìn)2nm制程工藝在2025年大規(guī)模量產(chǎn)。值得一提的是,臺(tái)積電在早在去年12月就首次向蘋(píng)果展示了其2nm芯片工藝技術(shù),預(yù)計(jì)蘋(píng)果將包下首批的2nm全部產(chǎn)能。臺(tái)積電2nm步入GAA時(shí)代作為3n
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搶奪臺(tái)積電2nm代工訂單有多難?

  • 三星既沒(méi)有獲得客戶的大批量訂單,又在先進(jìn)制程上遭遇英特爾和臺(tái)積電的雙重打擊。
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4nm→2nm,三星或升級(jí)美國(guó)德州泰勒晶圓廠制程節(jié)點(diǎn)

  • 根據(jù)韓國(guó)媒體Etnews的報(bào)導(dǎo),晶圓代工大廠三星正在考慮將其設(shè)在美國(guó)德州泰勒市的晶圓廠制程技術(shù),從原計(jì)劃的4納米改為2納米,以加強(qiáng)與臺(tái)積電美國(guó)廠和英特爾的競(jìng)爭(zhēng)。消息人士稱(chēng),三星電子最快將于第三季做出最終決定。報(bào)導(dǎo)指出,三星的美國(guó)德州泰勒市晶圓廠投資于2021年,2022年開(kāi)始興建,計(jì)劃于2024年底開(kāi)始分階段運(yùn)營(yíng)。以三星電子DS部門(mén)前負(fù)責(zé)人Lee Bong-hyun之前的說(shuō)法表示,到2024年底,我們將開(kāi)始從這里出貨4納米節(jié)點(diǎn)制程的產(chǎn)品。不過(guò),相較于三星泰勒市晶圓廠,英特爾計(jì)劃2024年在亞利桑那州和俄亥
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可量產(chǎn)0.2nm工藝!ASML公布Hyper NA EUV光刻機(jī):死胡同不遠(yuǎn)了

  • 6月16日消息,ASML去年底向Intel交付了全球第一臺(tái)High NA EUV極紫外光刻機(jī),同時(shí)正在研究更強(qiáng)大的Hyper NA EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)可將半導(dǎo)體工藝推進(jìn)到0.2nm左右,也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機(jī)孔徑數(shù)值只有0.33,對(duì)應(yīng)產(chǎn)品命名NXE系列,包括已有的3400B/C、3600D、3800E,以及未來(lái)的4000F、4200G、4X00。該系列預(yù)計(jì)到2025年可以量產(chǎn)2nm,再往后就得加入多重曝光,預(yù)計(jì)到2027年能實(shí)現(xiàn)1.4nm的量產(chǎn)。High NA光刻機(jī)升級(jí)到了
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