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日本Rapidus計(jì)劃2024年底引入EUV光刻機(jī)

  • 據(jù)日媒報(bào)道，日本芯片公司Rapidus表示，正在北海道建設(shè)芯片工廠，目標(biāo)是2027年量產(chǎn)2nm制程芯片。該公司宣布，決定在2024年年底引入EUV光刻機(jī)，并將派遣員工赴荷蘭阿斯麥學(xué)習(xí)EUV極紫外光刻技術(shù)。目標(biāo)是今年派遣100名員工至IBM、阿斯麥學(xué)習(xí)先進(jìn)芯片技術(shù)。
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蘋果首發(fā)3nm芯片！買手機(jī)的有必要為這么貴的技術(shù)花錢嗎？

  • 最近的數(shù)碼圈非常熱鬧，華為突破工藝封鎖，帶來新的麒麟 9000S 芯片，蘋果也首發(fā) 3 納米制程的芯片 A17，即將上線的還有高通的年度旗艦芯片 8Gen3 等等。手機(jī)性能愈發(fā)強(qiáng)大，很多人會(huì)問：我平時(shí)就是刷視頻、聊天、看新聞，需要這么好的芯片嗎？為什么我們需要越來越先進(jìn)的的芯片制程？我真的需要為這么貴的技術(shù)買單嗎？今天，咱們就來聊聊你關(guān)心的這些問題。什么是芯片制程說起芯片制程，就不得不提到一個(gè)大名鼎鼎的定律：摩爾定律。如果你對(duì)電子產(chǎn)品有一些了解，那么相信你一定聽過這個(gè)定律。這個(gè)定律的具體內(nèi)容是：集成電路上
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開始1-γ芯片制程開發(fā)？美光日本廠擬引入ASML光刻機(jī)

  • 知情人士稱，美國美光科技公司準(zhǔn)備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進(jìn)芯片制造設(shè)備EUV（極紫外光刻機(jī)），以制造下一代存儲(chǔ)芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補(bǔ)貼。日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實(shí)了美光在日的進(jìn)一步投資。他指出，日本政府正與臺(tái)積電討論擴(kuò)大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進(jìn)存儲(chǔ)芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄會(huì)見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團(tuán)，而有關(guān)芯片的詳細(xì)計(jì)劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
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芯片性能有望翻番！臺(tái)積電3nm工藝或于2年內(nèi)準(zhǔn)備就緒

  • 　　10nm都還沒用上，這3nm就要來了，芯片制程工藝是否更新有點(diǎn)快？臺(tái)積電3nm工藝或于2年內(nèi)準(zhǔn)備就緒　　臺(tái)積電董事長劉德音（Dr.Mark Liu）證實(shí)，該公司的下一代3nm芯片制造節(jié)點(diǎn)，正在按計(jì)劃推進(jìn)之中。作為全球知名的芯片代工制造商，臺(tái)積電當(dāng)前正在建設(shè)3nm生產(chǎn)線，且有望明年轉(zhuǎn)入試生產(chǎn)。與5nm制程節(jié)點(diǎn)相比，3nm可提供幾乎翻番的邏輯密度，輔以11%的性能提升、或27%的能效改進(jìn)。　　3nm較5nm制程的增益示例（圖via WCCFTech）　　積電高管在早前的國際固態(tài)電路會(huì)議（ISSCC）演講期
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5nm？3nm？芯片制程的極限究竟在哪里?

  • 現(xiàn)在的集成電路制造技術(shù)其核心就是光刻技術(shù)，這種方法與照相類似，就是將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移到涂有光致抗蝕劑（或稱光刻膠）的硅片上。
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偉創(chuàng)力：提供高可靠性解決方案滿足客戶需求

  • 　　偉創(chuàng)力是電子產(chǎn)品制造服務(wù)領(lǐng)域的著名廠商，發(fā)展至今擁有四個(gè)主要的業(yè)務(wù)部門，主要面向:高可靠性解決方案;高速解決方案;集成網(wǎng)絡(luò)解決方案;工業(yè)與新興行業(yè)等，其中高可靠性解決方案主要包括航空與國防、醫(yī)療、汽車等幾個(gè)重要行業(yè)。電子行業(yè)發(fā)展至今，消費(fèi)類電子的利潤率在不斷降低，而另一方面，汽車的智能化，遠(yuǎn)程醫(yī)療和便攜式醫(yī)療技術(shù)不斷發(fā)展，使得業(yè)界廠商紛紛投入。欲占得市場(chǎng)先機(jī)，必須要有優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品，而優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品的基礎(chǔ)就是必須有高可靠性的設(shè)計(jì)方案。
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芯片制程介紹

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