EEPW首頁(yè) >>
主題列表 >>
3nm finfet
3nm finfet 文章 進(jìn)入3nm finfet技術(shù)社區(qū)
難道是新款麒麟?三星透露3nm芯片新消息,信息量頗大
- 在芯片企業(yè)中,華為海思還是頂流的存在,可以說(shuō),華為海思自研的麒麟系列芯片能夠與高通驍龍8系列、蘋果A系列并駕齊驅(qū)。甚至可以說(shuō),海思麒麟芯片還領(lǐng)先于蘋果、高通,因?yàn)槭卓?nm 5G Soc就是華為海思推出的,NPU也是華為率先用在處理器中,蘋果、高通紛紛效仿。然而,誰(shuí)也沒(méi)有想到的是,美多次修改芯片等規(guī)則,導(dǎo)致臺(tái)積電等企業(yè)不能自由出貨,原因是臺(tái)積電等在芯片生產(chǎn)制造過(guò)程中也使用了相關(guān)美技術(shù)。在這樣的情況,臺(tái)積電等積極爭(zhēng)取自由出貨許可,還不斷加速發(fā)展先進(jìn)技術(shù),目的就是盡可能地降低對(duì)美技術(shù)的依賴,從而實(shí)現(xiàn)自由出貨。
- 關(guān)鍵字: 麒麟 三星 3nm
Intel 4制程技術(shù)細(xì)節(jié)曝光 具備高效能運(yùn)算先進(jìn)FinFET
- 英特爾近期于美國(guó)檀香山舉行的年度VLSI國(guó)際研討會(huì),公布Intel 4制程的技術(shù)細(xì)節(jié)。相較于Intel 7,Intel 4于相同功耗提升20%以上的效能,高效能組件庫(kù)(library cell)的密度則是2倍,同時(shí)達(dá)成兩項(xiàng)關(guān)鍵目標(biāo):它滿足開(kāi)發(fā)中產(chǎn)品的需求,包括PC客戶端的Meteor Lake,并推進(jìn)先進(jìn)技術(shù)和制程模塊。 英特爾公布Intel 4制程的技術(shù)細(xì)節(jié)。對(duì)于英特爾的4年之路,Intel 4是如何達(dá)成這些效能數(shù)據(jù)? Intel 4于鰭片間距、接點(diǎn)間距以及低層金屬間距等關(guān)鍵尺寸(Critic
- 關(guān)鍵字: Intel 4 制程技術(shù) FinFET Meteor Lake
三星3nm工藝搶先量產(chǎn) 專家表態(tài):趕鴨子上架、沒(méi)人用的
- 一如之前預(yù)告的那樣,三星在今天正式宣布了3nm工藝量產(chǎn),這意味著三星在新一代工藝上搶先了臺(tái)積電量產(chǎn),并且首次量產(chǎn)GAA晶體管工藝,技術(shù)上也是全面壓制了臺(tái)積電,后者要到2nm節(jié)點(diǎn)才會(huì)用上GAA工藝。根據(jù)三星所說(shuō),在3nm芯片上,其放棄了之前的FinFET架構(gòu),采用了新的GAA晶體管架構(gòu),大幅改善了芯片的功耗表現(xiàn)。與5nm相比,第一代3nm工藝能夠降低45%的功耗,減少16%的面積,并同時(shí)提升23%的性能,第二代的3nm工藝可以降低50%的功耗,提升30%的性能,同時(shí)面積減少35%,效果更好。對(duì)于三星搶先量產(chǎn)
- 關(guān)鍵字: 三星 3nm
三星否認(rèn)“3nm 芯片量產(chǎn)延后”,稱仍按進(jìn)度于第二季度開(kāi)始量產(chǎn)
- 三星電子今日否認(rèn)了韓國(guó)當(dāng)?shù)孛襟w《東亞日?qǐng)?bào)》有關(guān)延后3nm量產(chǎn)的報(bào)道。《東亞日?qǐng)?bào)》此前報(bào)道稱,由于良率遠(yuǎn)低于目標(biāo),三星3nm量產(chǎn)將再延后?! ∪且晃话l(fā)言人通過(guò)電話表示,三星目前仍按進(jìn)度于第二季度開(kāi)始量產(chǎn)3nm芯片?! ?jù)了解到,昨天韓媒BusinessKorea消息稱,三星為趕超臺(tái)積電,加碼押注3nm GAA技術(shù),并計(jì)劃在2025年量產(chǎn)以GAA工藝為基礎(chǔ)的2nm芯片?! ∠⒎Q,三星在6月初將3nm GAA工藝的晶圓用于試生產(chǎn),成為全球第一家使用GAA技術(shù)的公司。三星希望通過(guò)技術(shù)上的飛躍,快速縮小與臺(tái)
- 關(guān)鍵字: 三星 3nm 芯片工藝
蘋果M3芯片代號(hào)Palma 采用臺(tái)積電3nm工藝
- WWDC2022上蘋果正式發(fā)布了搭載全新M2芯片的全新MacBook Air和 13英寸MacBook Pro機(jī)型。M2備受關(guān)注,然而現(xiàn)在蘋果下一代M系列芯片M3已經(jīng)曝光。數(shù)碼博主 @手機(jī)晶片達(dá)人表示,M3目前正在設(shè)計(jì)當(dāng)中,項(xiàng)目代號(hào)叫做Palma,預(yù)計(jì)2023/ Q3流片,采用臺(tái)積電3nm的工藝。當(dāng)然,這些都還只是傳言,蘋果官方還未公布確切消息,對(duì)新芯片感興趣的小伙伴兒可以持續(xù)關(guān)注跟進(jìn)報(bào)道。
- 關(guān)鍵字: 蘋果 M3 Palma 臺(tái)積電 3nm
功耗降低50% 三星3nm芯片全球首秀:搶先臺(tái)積電量產(chǎn)
- 三星之前制定計(jì)劃在2030年成為全球最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造公司之一,3nm節(jié)點(diǎn)是他們的一個(gè)殺手锏,之前一直被良率不行等負(fù)面?zhèn)髀劺_,日前三星公司終于亮出首個(gè)3nm晶圓,按計(jì)劃將在今年Q2季度量產(chǎn),比臺(tái)積電還要早一些?! ∪涨懊绹?guó)總統(tǒng)參觀了三星位于平澤市附近的芯片工廠,這里是目前全球唯一一個(gè)可以量產(chǎn)3nm工藝的晶圓廠,三星首次公開(kāi)了3nm工藝制造的12英寸晶圓,不過(guò)具體是哪款芯片還不得而知。 對(duì)三星來(lái)說(shuō),3nm節(jié)點(diǎn)是他們押注芯片工藝趕超臺(tái)積電的關(guān)鍵,因?yàn)榕_(tái)積電的3nm工藝不會(huì)上下一代的GAA晶體管技術(shù),三
- 關(guān)鍵字: 三星 3nm
Applied Materials公布適用于3nm與GAA晶體管制造的下一代工具
- 上月,三星代工(Samsung Foundry)部門悄然宣布,其定于 2022 年 2 季度開(kāi)始使用 3GAE 技術(shù)工藝來(lái)生產(chǎn)芯片。作為業(yè)內(nèi)首個(gè)采用 GAA 晶體管的 3nm 制程工藝,可知這一術(shù)語(yǔ)特指“3nm”、“環(huán)柵晶體管”、以及“早期”。不過(guò)想要高效地制造 GAA 晶體管,晶圓廠還必須裝備全新的生產(chǎn)工具。 而來(lái)自應(yīng)用材料(Applied Materials)公司的下一代工具,就將為包括三星在內(nèi)的晶圓廠提供 GAA 芯片的制造支持。(來(lái)自:Applied Materials 官網(wǎng) ,via
- 關(guān)鍵字: 3nm 晶體管
三星正推進(jìn)3nm工藝二季度量產(chǎn) 若實(shí)現(xiàn)將先于臺(tái)積電量產(chǎn)
- 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在7nm和5nm制程工藝的量產(chǎn)時(shí)間上基本能跟上臺(tái)積電節(jié)奏的三星電子,在更先進(jìn)的3nm制程工藝上有望先于臺(tái)積電量產(chǎn),有報(bào)道稱他們正推進(jìn)在二季度量產(chǎn)。三星電子在二季度的展望中提到,他們的技術(shù)領(lǐng)先將通過(guò)首個(gè)大規(guī)模量產(chǎn)的全環(huán)繞柵極晶體管3nm工藝進(jìn)一步加強(qiáng),他們也將擴(kuò)大供應(yīng),確保獲得全球客戶新的訂單,包括美國(guó)和歐洲客戶的訂單。外媒的報(bào)道顯示,三星電子方面已經(jīng)宣布,他們?cè)缙?nm級(jí)柵極全能(3GAE)工藝將在二季度量產(chǎn)。三星電子宣布的這一消息,也就意味著業(yè)界首個(gè)3nm制程工藝即將量產(chǎn),將是首個(gè)采用全
- 關(guān)鍵字: 三星 3nm 臺(tái)積電
5nm及更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)上FinFET的未來(lái):使用工藝和電路仿真來(lái)預(yù)測(cè)下一代半導(dǎo)體的性能
- 雖然柵極間距(GP)和鰭片間距(FP)的微縮持續(xù)為FinFET平臺(tái)帶來(lái)更高的性能和更低的功耗,但在5nm及更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)上,兼顧寄生電容電阻的控制和實(shí)現(xiàn)更高的晶體管性能變得更具挑戰(zhàn)。泛林集團(tuán)在與比利時(shí)微電子研究中心 (imec) 的合作中,使用了SEMulator3D?虛擬制造技術(shù)來(lái)探索端到端的解決方案,運(yùn)用電路模擬更好地了解工藝變化的影響。我們首次開(kāi)發(fā)了一種將SEMulator3D與BSIM緊湊型模型相耦合的方法,以評(píng)估工藝變化對(duì)電路性能的影響。這項(xiàng)研究的目的是優(yōu)化先進(jìn)節(jié)點(diǎn)FinFET設(shè)計(jì)的源漏尺寸和側(cè)墻厚
- 關(guān)鍵字: 泛林 5nm FinFET
外媒稱三星3nm工藝良品率可能仍遠(yuǎn)不及預(yù)期 僅10%-20%
- 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在2月份有報(bào)道稱臺(tái)積電的3nm工藝遇到良品率難題,可能影響到AMD、英偉達(dá)等部分客戶的產(chǎn)品路線圖之后,又出現(xiàn)了三星電子3nm工藝的良品率遠(yuǎn)不及預(yù)期的消息。韓國(guó)媒體的報(bào)道顯示,三星電子3nm制程工藝的良品率,才到10%-20%,遠(yuǎn)不及公司期望的目標(biāo),在提升3nm工藝的良品率方面,也陷入了掙扎。另外,三星4nm工藝制造的良率也不盡如人意,僅為30%-35%。三星電子和臺(tái)積電是目前已順利量產(chǎn)5nm工藝,并在推進(jìn)3nm工藝量產(chǎn)事宜的晶圓代工商,與臺(tái)積電繼續(xù)采用鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FinFET)架構(gòu)不
- 關(guān)鍵字: 三星 3nm 良品率
臺(tái)積電3nm工廠支援生產(chǎn):5nm訂單激增
- 日前,由于蘋果、AMD、聯(lián)發(fā)科等客戶5nm訂單積累太多,臺(tái)積電不得不先把3nm工廠臨時(shí)拉出來(lái)給5nm擴(kuò)產(chǎn)。今年有大量芯片會(huì)升級(jí)5nm工藝或者改進(jìn)版的4nm工藝,蘋果這邊有M1/M1 Pro/M1 Max,M2系列很快也要量產(chǎn)了,產(chǎn)能需求很高。 除了蘋果這個(gè)VVVIP客戶之外,AMD今年也會(huì)有5nm Zen4架構(gòu)處理器及5nm RDNA3架構(gòu)GPU芯片,他們也是最重要的5nm工藝客戶之一。聯(lián)發(fā)科今天發(fā)布了天璣8100/8000處理器,也是臺(tái)積電5nm工藝,投片量也不低,NVIDIA
- 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電 3nm 5nm
臺(tái)積電:投資6000多億建3nm、2nm晶圓廠
- 由于半導(dǎo)體芯片產(chǎn)能緊缺,臺(tái)積電此前宣布三年內(nèi)投資1000億美元,約合6300多億人民幣,主要用于建設(shè)新一代的3nm、2nm芯片廠,蓋長(zhǎng)的需求太高,現(xiàn)在連建筑用的磚塊都要搶購(gòu)了。據(jù)《財(cái)訊》報(bào)道,這兩年芯片產(chǎn)能緊缺,但是比芯片產(chǎn)能更缺的還有一種建材——白磚,連臺(tái)積電都得排隊(duì)搶購(gòu)。這種磚塊是一種特殊的建材,具備隔音、輕量、隔熱、防火、環(huán)保、便利等優(yōu)點(diǎn),重量只有傳統(tǒng)紅磚的一半左右,是很多工廠及房產(chǎn)建設(shè)中都需要的材料。對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō),一方面它們自己建設(shè)晶圓廠需要大量白磚,另一方面它們?cè)诋?dāng)?shù)啬硞€(gè)城市建設(shè)晶圓廠,往往還會(huì)
- 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電 3nm 2nm 晶圓廠
臺(tái)積電3nm良率難提升 多版本3nm工藝在路上
- 近日,關(guān)于臺(tái)積電3nm工藝制程有了新消息,據(jù)外媒digitimes最新報(bào)道,半導(dǎo)體設(shè)備廠商透露,臺(tái)積電3納米良率拉升難度飆升,臺(tái)積電因此多次修正3納米藍(lán)圖。實(shí)際上,隨著晶體管數(shù)量的堆積,內(nèi)部結(jié)構(gòu)的復(fù)雜化,3nm工藝制程的良品率確實(shí)很難快速提升,達(dá)成比較好的量產(chǎn)水平。因此,臺(tái)積電或?qū)⒁?guī)劃包括N3、N3E與N3B等多個(gè)不同良率和制程工藝的技術(shù),以滿足不同廠商的性能需求,正如同去年蘋果在A15上進(jìn)行不同芯片性能閹割一致,即能滿足量產(chǎn)需求,還能平攤制造成本,保持利潤(rùn)。此外,還有消息稱臺(tái)積電將在2023年第一季度開(kāi)
- 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電 3nm 良率
3nm finfet介紹
您好,目前還沒(méi)有人創(chuàng)建詞條3nm finfet!
歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對(duì)3nm finfet的理解,并與今后在此搜索3nm finfet的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對(duì)3nm finfet的理解,并與今后在此搜索3nm finfet的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會(huì)員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473