Intel 22nm光刻工藝背后的故事

　　去年九月底的舊金山秋季IDF 2009論壇上，Intel第一次向世人展示了22nm工藝晶圓，并宣布將在2011年下半年發(fā)布相關(guān)產(chǎn)品。

　　當(dāng)然了，新型半導(dǎo)體工藝的實(shí)現(xiàn)并不是Intel一家就能做到的，背后默默貢獻(xiàn)半導(dǎo)體設(shè)備的功臣卻往往不為人所知。Arete Research LLC公司的分析師Jagadish Iyer在一份報(bào)告中指出，Intel即將最終決定22nm光刻工藝設(shè)備的供應(yīng)商，最終入圍的是荷蘭ASML Holding NV和日本尼康兩家。

　　其實(shí)在更早的45nm世代，ASML和尼康也曾雙雙成為Intel的光刻設(shè)備供應(yīng)商，但在32nm節(jié)點(diǎn)上Intel首次應(yīng)用了沉浸式光刻技術(shù)，只有尼康一家提供相關(guān)設(shè)備，如今ASML又要回來了。

　　此番ASML提供的光刻機(jī)為“NXT:1950i”，每臺(tái)平均售價(jià)4000萬歐元(5440萬美元)，負(fù)責(zé)40%的前道(FEOL)光刻層;尼康的光刻機(jī)則是“S620D”，報(bào)價(jià)3000萬美元，負(fù)責(zé)60%的后道(BEOL)光刻層。Intel的22nm工藝將有45個(gè)光刻層，其中55%需要進(jìn)行沉浸式光刻。

　　在22nm工藝上，Intel會(huì)繼續(xù)使用193nm沉浸式光刻，而最近披露的一份路線圖顯示它會(huì)一直延續(xù)到11nm工藝節(jié)點(diǎn)，這也就意味著極紫外(EUV)光刻又被推后了。

　　Jagadish Iyer估計(jì)到今年底的時(shí)候Intel能每月生產(chǎn)大約5000塊22nm晶圓，2011-2012年間四座晶圓廠全力開工，每座每月可生產(chǎn)大約4.5萬塊22nm晶圓，一個(gè)月合計(jì)18萬塊左右。