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碳化硅 mosfet
碳化硅 mosfet 文章 最新資訊
東芝推出應(yīng)用于工業(yè)設(shè)備的具備增強(qiáng)安全功能的SiC MOSFET柵極驅(qū)動(dòng)光電耦合器
- 東芝電子元件及存儲(chǔ)裝置株式會(huì)社(“東芝”)近日宣布,最新推出一款可用于驅(qū)動(dòng)碳化硅(SiC)MOSFET的柵極驅(qū)動(dòng)光電耦合器——“TLP5814H”。該器件具備+6.8 A/–4.8 A的輸出電流,采用小型SO8L封裝并提供有源米勒鉗位功能。今日開始支持批量供貨。在逆變器等串聯(lián)使用MOSFET或IGBT的電路中,當(dāng)下橋臂[2]關(guān)閉時(shí),米勒電流[1]可能會(huì)產(chǎn)生柵極電壓,進(jìn)而導(dǎo)致上橋臂和下橋臂[3]出現(xiàn)短路等故障。常見的保護(hù)措施有,在柵極關(guān)閉時(shí),對(duì)柵極施加負(fù)電壓。對(duì)于部分SiC MOSFET而言,具有比硅(Si
- 關(guān)鍵字: 東芝 SiC MOSFET 柵極驅(qū)動(dòng) 光電耦合器
三安與意法半導(dǎo)體重慶8英寸碳化硅晶圓合資廠正式通線
- 服務(wù)多重電子應(yīng)用領(lǐng)域、全球排名前列的半導(dǎo)體公司意法半導(dǎo)體 (STMicroelectronics,簡(jiǎn)稱ST) ,和中國(guó)化合物半導(dǎo)體龍頭企業(yè)(涵蓋LED、碳化硅、光通信、RF、濾波器和氮化鎵等產(chǎn)品)三安光電近日宣布,雙方在重慶設(shè)立的8英寸碳化硅晶圓合資制造廠(即“安意法半導(dǎo)體有限公司”,以下簡(jiǎn)稱安意法)現(xiàn)已正式通線。這一里程碑標(biāo)志著意法半導(dǎo)體和三安正朝著于2025年年底前實(shí)現(xiàn)在中國(guó)本地生產(chǎn)8英寸碳化硅這一目標(biāo)穩(wěn)步邁進(jìn),屆時(shí)將更好地滿足中國(guó)新能源汽車、工業(yè)電源及能源等市場(chǎng)對(duì)碳化硅日益增長(zhǎng)的需求。三安光電和意法
- 關(guān)鍵字: 安意法 意法半導(dǎo)體 碳化硅 碳化硅晶圓
碳化硅與硅:為什么 SiC 是電力電子的未來
- 在這里,我們比較了碳化硅 (SiC) 與硅以及在汽車和可再生能源等行業(yè)的電力電子中的應(yīng)用。我們將探討硅和碳化硅之間的顯著差異,并了解 SiC 為何以及如何塑造電力電子的未來。硅 (Si) 到碳化硅 (SiC):改變電力電子的未來電力電子技術(shù)在過去幾年中取得了前所未有的進(jìn)步。硅 (Si) 等傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料一直主導(dǎo)著電力電子和可再生能源行業(yè)。然而,碳化硅 (SiC) 的出現(xiàn)徹底改變了這一領(lǐng)域,為卓越的性能和效率鋪平了道路。無與倫比的效率、熱性能和高壓能力使碳化硅成為用于電子和半導(dǎo)體器件的下一代半導(dǎo)體材料。硅與
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800V與碳化硅成為新能源汽車電驅(qū)的新寵,器件性能與可靠性還有上升空間
- 1 我國(guó)能源汽車已突破1000萬輛,今年將增長(zhǎng)24%據(jù)賽迪顧問 2024 年 12 月發(fā)布的數(shù)據(jù)預(yù)測(cè)顯示,我國(guó)新能源汽車的新車全球市占率有望穩(wěn)居七成以上,我國(guó)從汽車大國(guó)邁向汽車強(qiáng)國(guó)的步伐更加堅(jiān)實(shí)。據(jù)中國(guó)汽車工業(yè)協(xié)會(huì)的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,2024年我國(guó)汽車產(chǎn)銷分別完成3128.2萬輛和3143.6萬輛,同比分別增長(zhǎng)3.7%和4.5%,繼續(xù)保持在3000萬輛以上規(guī)模,產(chǎn)銷總量連續(xù)16年穩(wěn)居全球第一。其中,新能源汽車產(chǎn)銷首次突破1000萬輛,分別達(dá)到1288.8萬輛和1286.6萬輛,同比分別增長(zhǎng)34.4%和35.5
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第 4 代碳化硅技術(shù):重新定義高功率應(yīng)用的性能和耐久性
- 簡(jiǎn)介本白皮書重點(diǎn)介紹 Wolfspeed 專為高功率電子應(yīng)用而設(shè)計(jì)的第 4 代碳化硅 (SiC) MOSFET 技術(shù)?;谠谔蓟鑴?chuàng)新領(lǐng)域的傳承,Wolfspeed 定期推出尖端技術(shù)解決方案,重新定義行業(yè)基準(zhǔn)。在第 4 代發(fā)布之前,第 3 代碳化硅 MOSFET 憑借多項(xiàng)重要設(shè)計(jì)要素的平衡,已在廣泛用例中得到驗(yàn)證,為硬開關(guān)應(yīng)用的全面性能設(shè)定了基準(zhǔn)。市場(chǎng)上的某些廠商只關(guān)注特定品質(zhì)因數(shù)?(FOM),如導(dǎo)通損耗、室溫下的 RDS(on) 或 RDS(on) × Qg,而 Wolfspeed 則采用了一
- 關(guān)鍵字: Wolfspeed 碳化硅 高功率應(yīng)用
英飛凌推出采用Q-DPAK和TOLL封裝的全新工業(yè)CoolSiC? MOSFET 650 V G2
- 電子行業(yè)正在向更加緊湊而強(qiáng)大的系統(tǒng)快速轉(zhuǎn)型。為了支持這一趨勢(shì)并進(jìn)一步推動(dòng)系統(tǒng)層面的創(chuàng)新,全球功率系統(tǒng)、汽車和物聯(lián)網(wǎng)領(lǐng)域的半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)者英飛凌科技股份公司正在擴(kuò)展其CoolSiC? MOSFET 650 V單管產(chǎn)品組合,推出了采用Q-DPAK和TOLL封裝的兩個(gè)全新產(chǎn)品系列。這兩個(gè)產(chǎn)品系列采用頂部和底部冷卻并基于CoolSiC? Generation 2(G2)?技術(shù),其性能、可靠性和易用性均有顯著提高。它們專門用于中高功率開關(guān)模式電源(SMPS)開發(fā),包括AI服務(wù)器、可再生能源、充電樁、電動(dòng)交通工
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開關(guān)性能大幅提升!M3S 與M2 SiC MOSFET直觀對(duì)比
- 安森美 (onsemi)的1200V 分立器件和模塊中的 M3S 技術(shù)已經(jīng)發(fā)布。M3S MOSFET 的導(dǎo)通電阻和開關(guān)損耗均較低,提供 650 V 和 1200 V 兩種電壓等級(jí)選項(xiàng)。本白皮書側(cè)重于探討專為低電池電壓領(lǐng)域的高速開關(guān)應(yīng)用而設(shè)計(jì)的先進(jìn) onsemi M3S 650 V SiC MOSFET 技術(shù)。通過各種特性測(cè)試和仿真,評(píng)估了 MOSFET 相對(duì)于同等競(jìng)爭(zhēng)產(chǎn)品的性能。第一篇介紹SiC MOSFET的基礎(chǔ)知識(shí)、M3S 技術(shù)和產(chǎn)品組合(三代進(jìn)化,安森美 EliteSiC MOSFET 技術(shù)發(fā)展解析
- 關(guān)鍵字: 電源轉(zhuǎn)換 電動(dòng)汽車 MOSFET
英飛凌達(dá)成200mm碳化硅(SiC)新里程碑:開始交付首批產(chǎn)品
- ●? ?英飛凌開始向客戶提供首批采用先進(jìn)的200 mm碳化硅(SiC)晶圓制造技術(shù)的SiC產(chǎn)品●? ?這些產(chǎn)品在奧地利菲拉赫生產(chǎn),為高壓應(yīng)用領(lǐng)域提供一流的SiC功率技術(shù)●? ?200 mm SiC的生產(chǎn)將鞏固英飛凌在所有功率半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)英飛凌200mm SiC晶圓英飛凌科技股份公司在200 mm SiC產(chǎn)品路線圖上取得重大進(jìn)展。公司將于2025年第一季度向客戶提供首批基于先進(jìn)的200 mm SiC技術(shù)的產(chǎn)品。這些產(chǎn)品在位于奧地利菲
- 關(guān)鍵字: 英飛凌 碳化硅 SiC 200mm碳化硅
深圳平湖實(shí)驗(yàn)室在SiC襯底激光剝離技術(shù)領(lǐng)域取得重要進(jìn)展
- 據(jù)深圳平湖實(shí)驗(yàn)室官微消息,為降低材料損耗,深圳平湖實(shí)驗(yàn)室新技術(shù)研究部開發(fā)激光剝離工藝來替代傳統(tǒng)的多線切割工藝,其工藝過程示意圖如下所示:激光剝離工藝與多線切割工對(duì)照:有益效果:使用激光剝離工藝,得到6/8 inch SiC襯底500μm和350μm產(chǎn)品單片材料損耗≤120 μm,出片率提升40%,單片成本降低約22%。激光剝離技術(shù)在提高生產(chǎn)效率、降低成本方面具有顯著效果,該工藝的推廣,對(duì)于快速促進(jìn)8 inch SiC襯底產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程有著重要意義。不僅為SiC襯底產(chǎn)業(yè)帶來了輕資產(chǎn)、高效益的新模式,也為其他硬質(zhì)
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第4代碳化硅技術(shù):重新定義高功率應(yīng)用的性能和耐久性
- 簡(jiǎn)介本白皮書重點(diǎn)介紹 Wolfspeed 專為高功率電子應(yīng)用而設(shè)計(jì)的第 4 代碳化硅 (SiC) MOSFET 技術(shù)。基于在碳化硅創(chuàng)新領(lǐng)域的傳承,Wolfspeed 定期推出尖端技術(shù)解決方案,重新定義行業(yè)基準(zhǔn)。在第 4 代發(fā)布之前,第 3 代碳化硅 MOSFET 憑借多項(xiàng)重要設(shè)計(jì)要素的平衡,已在廣泛用例中得到驗(yàn)證,為硬開關(guān)應(yīng)用的全面性能設(shè)定了基準(zhǔn)。市場(chǎng)上的某些廠商只關(guān)注特定品質(zhì)因數(shù) (FOM),如導(dǎo)通損耗、室溫下的 RDS(on) 或 RDS(on) × Qg,而 Wolfspeed 則采用了一種更為廣泛
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詳談碳化硅蝕刻工藝——干法蝕刻
- 碳化硅(SiC)作為一種高性能材料,在大功率器件、高溫器件和發(fā)光二極管等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。其中,基于等離子體的干法蝕刻在SiC的圖案化及電子器件制造中起到了關(guān)鍵作用,現(xiàn)分述如下:干法蝕刻概述碳化硅反應(yīng)離子蝕刻碳化硅反應(yīng)離子蝕刻案例ICP的應(yīng)用與優(yōu)化1、干法蝕刻概述干法蝕刻的重要性精確控制線寬:當(dāng)器件尺寸進(jìn)入亞微米級(jí)(<1μm)時(shí),等離子體蝕刻因其相對(duì)各向異性的特性,能夠精確地控制線寬,成為SiC蝕刻的首選方法?;瘜W(xué)穩(wěn)定性挑戰(zhàn):SiC的化學(xué)穩(wěn)定性極高(Si-C鍵合強(qiáng)度大),使得濕法蝕刻變得困難。濕法
- 關(guān)鍵字: 碳化硅 蝕刻工藝 干法蝕刻
第二代 CoolSiC? MOSFET G2分立器件 1200 V TO-247-4HC高爬電距離
- 采用TO-247-4HC高爬電距離封裝的第二代CoolSiC? MOSFET G2 1200V 12mΩ至78mΩ系列以第一代技術(shù)的優(yōu)勢(shì)為基礎(chǔ),加快了系統(tǒng)設(shè)計(jì)的成本優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)高效率、緊湊設(shè)計(jì)和可靠性。第二代產(chǎn)品在硬開關(guān)工況和軟開關(guān)拓?fù)涞年P(guān)鍵性能指標(biāo)上都有顯著改進(jìn),適用于所有常見的交流-直流、直流-直流和直流-交流各種功率變換。產(chǎn)品型號(hào):■ IMZC120R012M2H■ IMZC120R017M2H■ IMZC120R022M2H■ IMZC120R026M2H■&
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低壓電源MOSFET設(shè)計(jì)
- 低壓功率MOSFET設(shè)計(jì)用于以排水源電壓運(yùn)行,通常低于100 V,但具有與高壓設(shè)計(jì)相同的功能。它們非常適合需要高效效率和處理高電流的應(yīng)用,即使電源電壓很低。關(guān)鍵功能包括以下內(nèi)容: 低抗性(RDS(ON))以減少傳導(dǎo)過程中的功率損失,從而提高能源效率。當(dāng)設(shè)備打開時(shí),低壓MOSFET的排水源電阻特別低,從而地減少了功率損耗。這對(duì)于效率至關(guān)重要,因?yàn)榈蚏D(ON)意味著在傳導(dǎo)過程中降低電阻損失高開關(guān)速度,用于快速切換操作;在DC-DC轉(zhuǎn)換器和高頻切換電路等應(yīng)用中至關(guān)重要。由于其先進(jìn)的結(jié)構(gòu)和材料,低壓MOSFE
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碳化硅大風(fēng),吹至半導(dǎo)體設(shè)備
- 2025年以來,碳化硅產(chǎn)業(yè)迎來關(guān)鍵發(fā)展節(jié)點(diǎn),正式步入8英寸產(chǎn)能轉(zhuǎn)換的重要階段。在這一背景下,繼中國(guó)電科30臺(tái)套SiC外延設(shè)備順利發(fā)貨之后,碳化硅設(shè)備領(lǐng)域又傳動(dòng)態(tài):中導(dǎo)光電拿下SiC頭部客戶重復(fù)訂單。 近日,中導(dǎo)光電的納米級(jí)晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備NanoPro-150獲得國(guó)內(nèi)又一SiC頭部客戶的重復(fù)訂單,該設(shè)備用于SiC前道工藝過程缺陷檢測(cè)。此外,1月初,該設(shè)備產(chǎn)品還成功贏得了國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)頭部企業(yè)的重復(fù)訂單。 中導(dǎo)光電表示,公司將在SiC晶圓納米級(jí)缺陷檢測(cè)領(lǐng)域投入更多的研發(fā)資源,通過高精度多
- 關(guān)鍵字: 碳化硅 半導(dǎo)體設(shè)備
如何使用開關(guān)浪涌抑制器替代傳統(tǒng)的線性浪涌抑制器
- 在工業(yè)電子設(shè)備中,過壓保護(hù)是確保設(shè)備可靠運(yùn)行的重要環(huán)節(jié)。本文將探討如何使用開關(guān)浪涌抑制器替代傳統(tǒng)的線性浪涌抑制器,以應(yīng)對(duì)長(zhǎng)時(shí)間的過壓情況。與傳統(tǒng)線性浪涌抑制器不同,開關(guān)浪涌抑制器能夠在持續(xù)浪涌的情況下保持負(fù)載正常運(yùn)行,而傳統(tǒng)線性浪涌抑制器則需要在電源路徑中的 MOSFET 散熱超過其處理能力時(shí)切斷電流。可靠的工業(yè)電子設(shè)備通常配備保護(hù)電路,以防止電源線路出現(xiàn)過壓,從而保護(hù)電子設(shè)備免受損壞。過壓現(xiàn)象可能在電源線路負(fù)載快速變化時(shí)發(fā)生,線路中的寄生電感可能導(dǎo)致高電壓尖峰。這個(gè)問題可通過輸入保護(hù)電路來解決,比如圖
- 關(guān)鍵字: 過壓保護(hù) 開關(guān)浪涌 MOSFET
碳化硅 mosfet介紹
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歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對(duì)碳化硅 mosfet的理解,并與今后在此搜索碳化硅 mosfet的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
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