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曝iPhone 17全系首發(fā)3nm A19系列芯片:無(wú)緣臺(tái)積電2nm工藝制程

作者: 時(shí)間:2024-11-19 來(lái)源:快科技 收藏

11月19日消息,分析師Jeff Pu在報(bào)告中提到,、 Air首發(fā)搭載芯片, Pro和iPhone 17 Pro Max首發(fā)搭載 Pro芯片,這兩顆芯片都是基于第三代制程(N3P)打造。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/202411/464709.htm

據(jù)悉,iPhone 15 Pro系列首發(fā)的A17 Pro基于第一代制程(N3B)打造,iPhone 16系列的A18和A18 Pro基于第二代制程(N3E)打造。

相比N3E,采用N3P工藝打造的芯片擁有更高的晶體管密度,這意味著iPhone 17系列機(jī)型的能效和性能會(huì)進(jìn)一步提升。

這也意味著iPhone 17系列無(wú)緣臺(tái)積電最新的,蘋(píng)果最快會(huì)在iPhone 18系列上引入臺(tái)積電制程。

資料顯示,臺(tái)積電(N2)工藝最快會(huì)在2025年推出,無(wú)論是在密度還是在能效方面,它都將成為半導(dǎo)體行業(yè)最先進(jìn)的技術(shù)。

N2技術(shù)采用領(lǐng)先的納米片晶體管結(jié)構(gòu),將提供全節(jié)點(diǎn)性能和功率優(yōu)勢(shì),以滿足日益增長(zhǎng)的節(jié)能計(jì)算需求,憑借臺(tái)積電持續(xù)改進(jìn)的戰(zhàn)略,N2及其衍生產(chǎn)品將進(jìn)一步擴(kuò)大臺(tái)積電在未來(lái)的技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)。




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