新聞中心

EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > ASML開(kāi)始供應(yīng)透射率超過(guò)90%retical的EUV系統(tǒng)

ASML開(kāi)始供應(yīng)透射率超過(guò)90%retical的EUV系統(tǒng)

作者: 時(shí)間:2021-05-21 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏

ASML 公司近日宣布將會(huì)自今年開(kāi)始,提供透射率超過(guò) 90% retical的極紫外(EUV)系統(tǒng)。ASML 韓國(guó)市場(chǎng)經(jīng)理 MyoungKuy Lee 在 SMC 韓國(guó)研討會(huì)上說(shuō),該公司將開(kāi)始生產(chǎn)透射率超過(guò) 90.6% 的薄片。Lee 表示通過(guò)和 Teradyne 公司的共同合作,這些薄片已經(jīng)確保了 400 瓦的功率耐久性。這家位于荷蘭的工廠設(shè)備制造商在 2016 年首次開(kāi)發(fā)了多晶硅 EUV 薄膜。當(dāng)時(shí),它的透光率為78%。它在 2018 年開(kāi)發(fā)出的透光率約為 80%,另一種在 2020 年超過(guò) 85%。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/202105/425774.htm


關(guān)鍵詞:

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專(zhuān)區(qū)

關(guān)閉