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瑞薩科技開發(fā)高可靠性銅電子熔絲技術(shù)

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作者:電子產(chǎn)品世界 時(shí)間:2006-10-10 來(lái)源:eepw 收藏


--全球第一款熔融狀態(tài)切斷的熔絲可防止低介電系數(shù)材料開裂--



科技公司(Renesas Technology Corp.)宣布開發(fā)出一種用于65nm(納米)工藝的,其低介電常數(shù)不會(huì)導(dǎo)致低介電系數(shù)材料的開裂,因此具有很高的可靠性。

這種新技術(shù)在全球首次實(shí)現(xiàn)了利用熔融狀態(tài)下切斷銅熔絲的方法來(lái)防止低介電系數(shù)材料的開裂。該技術(shù)已經(jīng)應(yīng)用于65nm制造工藝的試驗(yàn)階段,且已被證實(shí)可提供以下卓越的性能:1.一根熔絲切斷所需的時(shí)間少于10μs。2.在熔絲完好無(wú)損的條件下,熔絲切斷后的電流值可以減少到5位數(shù)或更大值。3.切斷的熔絲的高溫老化測(cè)試沒(méi)有顯示出退化,這表明了一種高度的可靠性。

科技將出席2006年先進(jìn)金屬處理會(huì)議(ADMETA2006):第16屆亞洲會(huì)議于9月25日在日本東京舉行。

<背景>
熔絲廣泛用于大規(guī)模集成電路(LSI)器件,包括存儲(chǔ)器修補(bǔ)和穩(wěn)壓電路的冗余電路*1。熔絲是這類器件的一種重要構(gòu)成技術(shù)。過(guò)去,都是采用激光切斷等技術(shù)來(lái)切斷熔絲。不過(guò)最近幾年,采用電流切斷的電子熔絲的開發(fā)工作獲得了進(jìn)展。一般地說(shuō),電子熔絲具有以下的特性。

a)熔絲能夠在成型后切斷,進(jìn)而有助于實(shí)現(xiàn)更高的產(chǎn)量。
b)無(wú)需使用激光微調(diào)系統(tǒng),可以有效地控制設(shè)備的投資成本。
此外,一種類型的電子熔絲,也就是銅熔絲,可以使用制造工藝中常用類型的銅布線工藝。除了上述的優(yōu)勢(shì)外,還具備以下的優(yōu)勢(shì)。
c)無(wú)需在生產(chǎn)線上增加額外的工序,有助于控制成本。
d)銅布線可以繼續(xù)用于未來(lái)的超精細(xì)制造工藝,因此,在引入新的超精細(xì)工藝時(shí)可以降低開發(fā)成本。

不過(guò),切斷銅熔絲的電流技術(shù)還存在以下問(wèn)題。
(A)低介電系數(shù)材料是一種易碎材料*3,熔絲上可能發(fā)生開裂。
(B)銅可能被迫進(jìn)入裂縫中,導(dǎo)致熔絲區(qū)域出現(xiàn)空隙。
(C)如果熔絲是在這種條件下切斷,如上所述,裂縫中的銅就會(huì)使布線短路。這種熔絲區(qū)域上的布線線跡的連接是不能容忍的。

這個(gè)問(wèn)題成為了進(jìn)一步縮小芯片尺寸的障礙。因此,在努力實(shí)現(xiàn)更加精細(xì)的制造工藝時(shí),找到防止低介電系數(shù)材料開裂的方法就成為了一個(gè)重要的課題。

<技術(shù)細(xì)節(jié)>
在這個(gè)背景下,科技開發(fā)出了一種用于65nm工藝的高度可靠的銅,在熔絲切斷時(shí),不會(huì)引起低介電系數(shù)材料的開裂。
下面描述了這種新開發(fā)的技術(shù)。

1)抑制熔絲和低介電系數(shù)材料之間熱應(yīng)力的技術(shù)
在非常短的時(shí)間內(nèi)施加一個(gè)大電流是可靠地切斷熔絲的一種有效方法,但是這種方法有可能造成低介電系數(shù)材料的開裂。發(fā)生開裂的過(guò)程如下。

(a)當(dāng)電流流過(guò)熔絲時(shí),其溫度會(huì)突然(在100ns內(nèi))升至大約500℃。
(b)然而,低介電系數(shù)材料的導(dǎo)熱效果很差,所以其溫度的提升比較緩慢。
(c)因此,熔絲和低介電系數(shù)材料之間的溫度差額會(huì)突然增加,出現(xiàn)熱應(yīng)力。
(d)這種應(yīng)力特別集中在熔絲之上的區(qū)域,而這正是使低介電系數(shù)材料發(fā)生開裂的地方。
為了解決這個(gè)問(wèn)題,瑞薩科技用1.2V晶體管代替3.3V晶體管,來(lái)提供切斷熔絲的電流。

早期的3.3V晶體管在廣泛的飽和區(qū)*4 具有電流-電壓特性(I-V特性),所以當(dāng)熔絲電阻隨溫度上升而增加時(shí),電流仍然保持恒定。不過(guò),由于阻值是隨著熔絲溫升而增加的,就會(huì)產(chǎn)生大量的熱(電流2



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