首頁  資訊  商機(jī)   下載  拆解   高校  招聘   雜志  會展  EETV  百科   問答  電路圖  工程師手冊   Datasheet  100例   活動中心  E周刊閱讀   樣片申請
EEPW首頁 >> 主題列表 >> euv

ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同

  •   近日,中芯國際與ASML達(dá)成12億美元交易購買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作,有媒體報道稱“除了EUV光刻機(jī),中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機(jī)?!钡沁@一說法很快被ASML官方澄清,該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)?! 】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈,這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個小科普,EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,而DUV是“深紫外線”的意思,通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級,實(shí)際上也是如此?! SML澄清與中
  • 關(guān)鍵字: 中芯國際  ASML  DUV  EUV    

中國芯片業(yè)為什么搞不過一家荷蘭公司

  • 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財報,這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機(jī),中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺?! ∮腥苏f阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€能讓臺積電折腰的公司,這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī),是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟,沒有刀,再好的師傅也雕不出來花?! ∪绻腥魏螐S商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修,阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻,廠商就要付給他們以小時計的美金?! ≡?jīng),某上市公司的光刻機(jī)出問題后,排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
  • 關(guān)鍵字: EUV  光刻機(jī)  ASML  

全球最大光刻機(jī)廠CEO:拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢

  • 拜登上任在即,他會緩解緊張的中美科技局勢嗎?近期,全球最大光刻機(jī)制造商ASML的CEO表示,即使總統(tǒng)換屆,兩國在包括光刻機(jī)在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域,仍將出現(xiàn)進(jìn)一步的對抗。也有人發(fā)表看法,發(fā)展芯片,開源指令集架構(gòu)RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」?  離美國新任總統(tǒng)拜登的上任越來越近了?! ≡谶^去川普任職期內(nèi),中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中,總部位于荷蘭的光刻機(jī)制造商ASML也是其中之一?! ∮捎诿绹膲毫?,其最新價值約2億美元的光刻機(jī)已停止向中國銷售?! ∮捎诖ㄆ盏呐e動常常出其不意而且瘋狂
  • 關(guān)鍵字: EUV  光刻機(jī)  ASML  

阿斯麥ASML全新EUV光刻機(jī)將于2021年中期發(fā)貨

  • 14日訊,《科創(chuàng)板日報》記者從ASML獲悉,其公布了EUV路線圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格,這是30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米,并計劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
  • 關(guān)鍵字: ASML  EUV  光刻機(jī)  

在EUV光刻技術(shù)上,日本公司壟斷了光刻膠的供應(yīng)

  • 雖然將會有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個市場是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導(dǎo)體光刻技術(shù),但是毫無疑問,這就是光刻技術(shù)的未來。與任何未來一樣,它為一些光刻材料市場開拓者提供了在新市場中建立自己的機(jī)會。尤其是目前由兩家日本公司生產(chǎn)使用EUV光刻機(jī)所使用的技術(shù)處理材料,而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學(xué)將在2021年開始為下一代芯片提供光刻材料,這可能有助于減小智能手機(jī)和其他設(shè)備的芯片尺寸,并使它們更加節(jié)能。這
  • 關(guān)鍵字: EUV  光刻膠  

斥資440億元采購EUV光刻機(jī)?臺積電:不評論傳聞

  • 9月30日訊,此前有媒體報道,由于先進(jìn)制程推進(jìn)順利和訂單量擴(kuò)大,臺積電將加大EUV光刻機(jī)的采購力度,預(yù)計到2021年底采購量為55臺左右。臺積電方面回復(fù)稱:公司不評論市場傳聞。據(jù)了解,一臺EUV光刻機(jī)售價近8億元,55臺EUV光刻機(jī)價值約440億元。相關(guān)閱讀:臺積電明年底前將累計采購55臺EUV光刻機(jī):花費(fèi)超440億元出處:快科技 作者:萬南芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下,這其中最關(guān)鍵的核心設(shè)備就要數(shù)EUV光刻機(jī)了,目前全世界只有荷蘭ASML(阿斯麥)可以制造。來自Digitimes的報道稱,臺積電打算在
  • 關(guān)鍵字: EUV  光刻機(jī)  臺積電  

華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)?ASML華裔工程師:天方夜譚

  • 9月16日,中國科學(xué)院院長白春禮在國新辦發(fā)布會上介紹稱,“率先行動”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局,集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱,從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計劃第二階段。對此,首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱,目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機(jī)構(gòu),目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類定位、分類管理、分類評價、分類資源配置?!斑@個工作還沒有完,只是進(jìn)行了一部分,所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機(jī)構(gòu)全部做完,
  • 關(guān)鍵字: 華為  中科院  EUV  光刻機(jī)  ASML  

10億元一臺EUV光刻機(jī)!芯片產(chǎn)能數(shù)量曝光:夠華為手機(jī)用嗎?

  • 相信大家都知道,在前幾天,ASML重磅官宣了一條大新聞,正式在中國寶島臺灣建設(shè)了第一家海外培訓(xùn)中心—亞洲培訓(xùn)中心,這家培訓(xùn)中心標(biāo)配了14名培訓(xùn)技師,一年大約可以培養(yǎng)超過360名EUV光刻機(jī)操作工程師,能夠讓芯片生產(chǎn)加工企業(yè)更好的掌握和使用EUV光刻機(jī),從而可以進(jìn)一步提高5nm/3nm芯片的良品率,其實(shí)ASML在臺灣建設(shè)這座亞洲培訓(xùn)中心,最大的目的就是為了直接幫助臺積電培養(yǎng)更多的光刻機(jī)操作工程師,因為在過去兩年時間里,ASML一共售賣了57臺EUV光刻機(jī)產(chǎn)品,其中臺積電就購得了30臺,占據(jù)著絕大部分的份額,
  • 關(guān)鍵字: 臺積電  5nm  EUV  

臺積電:5nm EUV工藝已在量產(chǎn)、明年推出增強(qiáng)版

  • 24日,臺積電舉辦了第26屆技術(shù)研討會,并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺積電的說法,5nm工藝規(guī)劃了兩代,分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV(極紫外光刻)技術(shù),并且已經(jīng)在大規(guī)模量產(chǎn)之中。相較于N7,N5的功耗降低了30%、性能提升了15%,邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版,仍在開發(fā)中,規(guī)劃2021年量產(chǎn),相較于第一代5nm,功耗進(jìn)一步降低10%、性能提升5%,據(jù)稱面向高性能計算平臺做了優(yōu)化。據(jù)手頭資料,臺積電的5nm有望應(yīng)用在蘋果A14芯片(包括Apple Silicon PC處
  • 關(guān)鍵字: 臺積電  5nm  EUV  

臺積電采購30臺EUV光刻機(jī)沖刺7/5nm,ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心

  • 臺積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣,已經(jīng)成為光刻機(jī)龍頭 ASML 在 EUV 機(jī)臺上的最大采購客戶,累計已經(jīng)購買了 30 臺 EUV 設(shè)備。日前,ASML 繼在韓國成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后,也在臺積電先進(jìn)制程的重鎮(zhèn)臺灣臺南,成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。一臺EUV系統(tǒng)需要50個工程師操作一臺造價逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng),重量高達(dá) 180&nbs
  • 關(guān)鍵字: EUV  臺積電  ASML  

Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻:捍衛(wèi)摩爾定律

  • 日前,中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會(CSTIC)在上海開幕,為期19天,本次會議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中,光刻機(jī)一哥ASML(阿斯麥)的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備,EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示,截至2019年第四季度,ASML當(dāng)年共售出53臺EUV NXE:3400系列EUV光刻機(jī),使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬片。他說,EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
  • 關(guān)鍵字: Intel  臺積電  ASML  EUV  光刻  摩爾定律  

華為、蘋果7/5nm需求大 臺積電狂加EUV訂單

  • 2020年因為全球經(jīng)濟(jì)的問題,本來電子行業(yè)會下滑,但是晶圓代工場合不降反升,臺積電Q1季度營收大漲了30%,牢牢坐穩(wěn)了全球晶圓代工一哥的位置。由于華為、蘋果等公司的7nm及5nm工藝需求大,臺積電目前正在瘋狂增加EUV產(chǎn)能。臺積電2018年量產(chǎn)了7nm工藝,不過第一代7nm沒有EUV工藝加持,2019年的7nm EUV工藝才由華為的麒麟990 5G處理器首發(fā),而今年的5nm工藝則會全面上馬EUV工藝。根據(jù)臺積電之前公布的數(shù)據(jù),7nm及7nm EUV工藝目前每月的產(chǎn)能達(dá)到了11萬片晶圓/月,而5nm工藝的月
  • 關(guān)鍵字: 華為  蘋果  5nm  臺積電  EUV  

三星新建5nm晶圓廠:先進(jìn)EUV技術(shù) 2021年投產(chǎn)

  • 隨著時間邁入2020年中,以臺積電和三星為代表的芯片半導(dǎo)體也從7nm逐步向5nm進(jìn)發(fā),實(shí)際上麒麟1020和蘋果A14芯片就是基于臺積電5nm工藝,表現(xiàn)相較7nm將會更上一層樓。很明顯在7nm時代,三星是落后于臺積電的,不過這家巨頭似乎想在5nm時代彎道超車,近日據(jù)媒體報道,三星宣布將于漢城南部的平澤市建造全新的5nm晶圓廠。該工廠是三星在韓國國內(nèi)的第六條晶圓代工產(chǎn)線,將應(yīng)用先進(jìn)的極紫外光微影(ExtremeUltravioletlithography,EUV)制程技術(shù),拿7nmEUV工藝對比,三星5nmE
  • 關(guān)鍵字: 三星  5nm  EUV  

EUV光刻機(jī)斷貨 臺積電5nm工藝搶三星頭彩:A14/麒麟1020首發(fā)

  • 臺積電上周發(fā)布了3月及Q1季度財報,營收同比大漲了42%,淡季不淡。不過接下來的日子半導(dǎo)體行業(yè)可能不太好過了,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)斷貨,要延期交付,好在臺積電今年已經(jīng)在5nm工藝上搶先三星了。根據(jù)ASML之前的報告,3月底他們下調(diào)了1季度營收預(yù)期到24-25億美元,差不多減少了1/4左右的營收,毛利率也下滑到了45-46%之間。此外,ASML的EUV光刻機(jī)也因為種種原因斷貨了,雖然訂單沒有取消,但是交付要延期了,三星、臺積電今年都不太容易快速擴(kuò)張EUV產(chǎn)能。不過臺積電在這次危機(jī)中更有優(yōu)勢地位,他們包
  • 關(guān)鍵字: EUV  臺積電5nm  

三星首次將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM生產(chǎn)

  • 據(jù)ZDnet報道,三星宣布,已成功將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM的生產(chǎn)中。
  • 關(guān)鍵字: 三星  EUV  DRAM  
共194條 7/13 |‹ « 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 »

euv介紹

在半導(dǎo)體行業(yè),EUV一般指EUV光刻,即極紫外光刻。 極紫外光刻(英語:Extreme ultra-violet,也稱EUV或EUVL)是一種使用極紫外(EUV)波長的光刻技術(shù)。 EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源,可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32nm以下的特征尺寸。 根據(jù)瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),這么短的波長可以提供極高 [ 查看詳細(xì) ]

熱門主題

EUV    樹莓派    linux   
關(guān)于我們 - 廣告服務(wù) - 企業(yè)會員服務(wù) - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473