新聞中心

EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 單臺(tái)1.5億美元 ASML制造新一代EUV光刻機(jī)

單臺(tái)1.5億美元 ASML制造新一代EUV光刻機(jī)

作者: 時(shí)間:2021-09-05 來(lái)源:ZOL 收藏

據(jù)《連線》雜志報(bào)道,在美國(guó)康涅狄格州郊區(qū)的一間潔凈室中,ASML的工程師們正在為一臺(tái)單臺(tái)造價(jià)1.5億美元的新機(jī)器制造關(guān)鍵部件,該部件是新一代系統(tǒng)的組成部分,會(huì)采用一些新技術(shù)來(lái)最大限度地減少其使用的光波長(zhǎng),包括縮小芯片的特征尺寸并提升性能。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/202109/428027.htm

單臺(tái)1.5億美元 ASML制造新一代EUV光刻機(jī)
ASML的工程師正在裝配系統(tǒng)組件(圖片來(lái)自ASML)

      要知道,當(dāng)前的機(jī)器已經(jīng)像一輛公共汽車那么大,包含10萬(wàn)個(gè)零部件和兩公里長(zhǎng)的電纜,運(yùn)輸這些組件需要40個(gè)貨運(yùn)集裝箱、三架貨機(jī)和20輛卡車,能夠買得起這種設(shè)備的公司只有少數(shù)幾家,大部分供貨給了臺(tái)積電、三星和英特爾。至于新一代,則可以讓科技產(chǎn)業(yè)在未來(lái)十年繼續(xù)保持高速發(fā)展。

      在康涅狄格州的工作室內(nèi),可以看到一塊巨大的鋁被雕刻成一個(gè)框架,最終形成一個(gè)面罩或“標(biāo)線”,以納米精度移動(dòng),反射一束極紫外光。同時(shí),新機(jī)器還引入了一種新方法在芯片上產(chǎn)生更小的特征——更大的數(shù)值孔徑,允許光以不同的角度穿過(guò)光學(xué)器件來(lái)提高成像的分辨率,這需要更大的鏡面,以及新的軟件和硬件精確控制組件。

      據(jù)了解,新機(jī)器的成品組件預(yù)計(jì)在2021年底運(yùn)往荷蘭Veldhoven,之后在2022年初添加到首臺(tái)下一代EUV機(jī)器的原型機(jī)。使用新系統(tǒng)制造的第一批芯片可能由英特爾制造,英特爾曾表示,到2023年其會(huì)獲得其中的一臺(tái)設(shè)備。

單臺(tái)1.5億美元 ASML制造新一代EUV光刻機(jī)
只有少數(shù)公司買得起ASML的巨型機(jī)器(圖片來(lái)自ASML)

      通過(guò)使用非凡的工程縮小用于制造芯片的光波長(zhǎng),EUV可以延續(xù)技術(shù)的領(lǐng)先性,從而推動(dòng)智能手機(jī)、云計(jì)算、AI、生物技術(shù)、機(jī)器人等領(lǐng)域的快速發(fā)展。“摩爾定律的消亡論被夸大了?!甭槭±砉W(xué)院研究新型晶體管架構(gòu)的教授Jesús del Alamo認(rèn)為,“我認(rèn)為它會(huì)持續(xù)很長(zhǎng)一段時(shí)間?!?/p>




關(guān)鍵詞: ASML EUV 光刻機(jī)

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉