新聞中心

EEPW首頁 > 網(wǎng)絡(luò)與存儲 > 業(yè)界動態(tài) > 鎂光34nm企業(yè)級MLC/SLC NAND閃存明年初量產(chǎn)

鎂光34nm企業(yè)級MLC/SLC NAND閃存明年初量產(chǎn)

作者: 時間:2009-10-21 來源:tcmagazine 收藏

  制程企業(yè)級MLC/SLC 已經(jīng)進入試樣階段,MLC部分的存儲密度可達32Gb,寫入壽命達3萬次,是普通MLC產(chǎn)品的6倍;SLC部分存儲密度為16Gb,寫入壽命同樣為3萬次,是普通SLC產(chǎn)品的3倍.

本文引用地址:http://2s4d.com/article/99114.htm

  這次開發(fā)成功的 MLC/SLC支持ONFI2.1接口規(guī)范(Open Flash Interface),數(shù)據(jù)傳輸率最高可達200MB/S,而且可以采用閃存封裝內(nèi)部集成多片的封裝方案。

  表示,明年初這兩種閃存芯片便可正式量產(chǎn)。



關(guān)鍵詞: 鎂光 NAND 閃存芯片 34nm

評論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉