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影響MOSFET性能的一些因素

作者: 時間:2013-09-26 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏


  在追求不斷提高能效的過程中,的芯片和封裝也在不斷改進。盡管四十多年來我們對這種器件有了很多了解,但目前將它們有效地應(yīng)用于電源產(chǎn)品依然面臨挑戰(zhàn)。根據(jù)具體應(yīng)用建立FET性能模型并采用電子表格記錄數(shù)據(jù)的經(jīng)驗豐富的設(shè)計人員,亦未能從熟悉的模型中獲得滿意的結(jié)果。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/228186.htm

  除了器件結(jié)構(gòu)和加工工藝,的性能還受其他幾個周圍相關(guān)因素的影響。這些因素包括封裝阻抗、印刷電路板(PCB)布局、互連線寄生效應(yīng)和開關(guān)速度。事實上,真正的開關(guān)速度取決于其他幾個因素,例如切換的速度和保持柵極控制的能力,同時抑制柵極驅(qū)動回路電感帶來的影響。同樣,低柵極閾值還會加重Ldi/dt問題。

  正因為了解電路中晶體管的性能很重要,所以我們將選用半橋拓撲。這種拓撲是電力電子裝置最常用的拓撲之一。這些例子重點介紹了同步壓降轉(zhuǎn)換器——一個半橋拓撲的具體應(yīng)用。

  共源極電感效應(yīng)

  影響MOSFET性能的一些因素

  圖1為具備雜散電感和電阻(由封裝鍵合線、引線框以及電路板布局和互連線帶來)等寄生效應(yīng)的半橋電路。共源電感(CSI)傾向于降低控制FET(高邊FET)的導(dǎo)通和關(guān)斷速度。如果與柵極驅(qū)動串聯(lián),通過CSI的電壓加至柵極驅(qū)動上,可使FET處于導(dǎo)通狀態(tài)(條件:V = -Ldi/dt),從而延遲晶體管的關(guān)斷。這也會增大控制FET的功耗,如圖2所示。

  影響MOSFET性能的一些因素

  更高的功耗會導(dǎo)致轉(zhuǎn)換效率降低。另外,由于雜散電感,電路出現(xiàn)尖峰電壓的可能性很高。如果這些尖峰電壓超過器件的額定值,可能會引起故障。

  為了消除或使這種寄生電感最小化,設(shè)計人員必須采用類似無引腳或接線柱的DirecFET等封裝形式,并采用使互連線阻抗最小化的布局。與標(biāo)準封裝不同,DirecFET無鍵合線或引線框。因此,它可極大地降低導(dǎo)通電阻,同時大幅降低開關(guān)節(jié)點的振鈴,抑制開關(guān)損耗。  緩和C dv/dt感應(yīng)導(dǎo)通

  影響性能的另一個因素是C dv/dt感應(yīng)導(dǎo)通(和由此產(chǎn)生的擊穿)。C dv/dt通過柵漏電容CGD的反饋作用(引起不必要的低邊FET導(dǎo)通),使低邊(或同步)FET出現(xiàn)柵極尖峰電壓。

  實際上,當(dāng)Q2的漏源極的電壓升高時,電流就會經(jīng)由柵漏電容CGD 流入總柵極電阻RG ,如圖3(a)所示。因此,它會導(dǎo)致同步FET Q2的柵極出現(xiàn)尖峰電壓。當(dāng)該柵極電壓超出規(guī)定的閾值時,它就會被迫導(dǎo)通。圖3(b)顯示的,正是在圖3(a)所示 典型同步壓降轉(zhuǎn)換器拓撲中,同步FET Q2在這種工作模式下的主要波形。

  若要準確地確定低邊或同步 Q2的這種現(xiàn)象帶來的功耗,需要對其漏源電壓VDS_Q2 進行一段時間的鉗位控制。在鉗位控制時段,其功耗約為:

  影響MOSFET性能的一些因素

  在這個等式中,Vcl 代表VDS_Q2 的鉗位電壓值;fs代表開關(guān)頻率;Irrm 代表峰值反向恢復(fù)電流;tcl 代表反向恢復(fù)電流由Irrm 降至零所需的時間。

  由上式可以看出,C dv/dt感應(yīng)損耗是Vin、dv/dt和開關(guān)頻率的函數(shù),反過來,它也會受驅(qū)動速度、柵極電荷Qg、反向恢復(fù)電荷Qrr和布局的影響。因此,要想抑制這種不必要的導(dǎo)通,需要選擇具備低荷比(QGD/QGS1)的適用同步MOSFET Q2。在QGD/QGS1中,QGD代表柵漏米勒電荷,QGS1代表柵極電壓達到閾值之前的柵源電荷。盡管降低CDS 或增大CGS可降低C dv/dt感應(yīng)電壓,但Q2的C dv/dt感應(yīng)導(dǎo)通還取決于漏源電壓 VDS-Q2 和閾值電壓Vth。由于柵極閾值電壓會隨著溫度的升高而降低,因此這個問題在溫度升高情況下會進一步惡化。因此,低閾值FET對C dv/dt問題尤其敏感。

  在實際應(yīng)用中,要想評估同步MOSFET Q2,需要了解柵極電容的柵極電荷性能。因此,聰明的辦法是調(diào)查C dv/dt感應(yīng)導(dǎo)通,這需要查看累積的米勒電荷。為避免Q2錯誤導(dǎo)通,設(shè)計人員必須確保當(dāng)漏源電壓VDS-Q2 達到輸入電壓時,它必須比柵源電容的總電荷低。

  最大限度降低封裝寄生效應(yīng)

  簡單的數(shù)學(xué)分析表明,解決這個問題的最佳辦法是選擇小于1的電荷比QGD/QGS1。防止C dv/dt感應(yīng)導(dǎo)通的其他因素包括低驅(qū)動漏極阻抗(《1 歐姆)、具備低RG的FET設(shè)計、外置的G-S電容器和具備最低寄生效應(yīng)和電壓振鈴的Q2封裝。

  同步MOSFET Q2的導(dǎo)通電阻RDS(on) 及其封裝,在抑制C dv/dt導(dǎo)通方面具備同等的重要性。實際上,近幾年來,MOSFET供應(yīng)商對各種封裝進行了大幅改進,使通態(tài)電阻變得很低并最大限度降低寄生效應(yīng)。例如以7引腳D2PAK封裝為例,相對于同等的標(biāo)準D2PAK封裝,在相同漏源電壓VDS條件下,它的導(dǎo)通電阻降低0.4 mΩ,同時大幅改進了電流處理功能。采用7引腳D2PAK封裝的典型代表是IRFS3004-7PPBF。該MOSFET的額定電壓為40 V,導(dǎo)通電阻為1.4 mΩ,漏電流(ID)為240 A。同樣的芯片采用傳統(tǒng)的D2PAK封裝,其通態(tài)電阻為1.8 mΩ,額定漏電流為195 A。

  其他改進的功率封裝包括功率四方扁平無引腳封裝(PQFN)和DirectFET等封裝。PQFN封裝具備多種變體。不過,與其他的封裝不同,DirectFET未采用任何鍵合線和引線框,使封裝電阻和寄生電感降至最低,如圖4所示。

  影響MOSFET性能的一些因素

  圖5和圖6為無芯片封裝的電阻和寄生電感的測量值與不同類型MOSFET封裝的頻率的對比情況。

  影響MOSFET性能的一些因素

  影響MOSFET性能的一些因素

  從這些圖可以看出,DirectFET封裝與DPAK、D2PAK、SO8 和微型引線框封裝(MLP)等其他封裝相比,相對于頻率帶來的電阻和電感可忽略不計。此外,DirecFET相對于帶引腳的封裝,其寄生感應(yīng)值的變化最小,因為能夠帶來電阻和電感的封裝已被降至最低程度。隨著不久前對DirecFET材料和結(jié)構(gòu)的改進,這種封裝的電阻降至0.15 mΩ

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