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清純半導體和微碧半導體推出第3代SiC MOSFET產品

作者: 時間:2025-04-23 來源:全球半導體觀察 收藏

近日,和VBsemi()分別推出了其第三代碳化硅(SiC)MOSFET產品平臺,標志著功率半導體技術在快充效率、高功率密度應用等領域取得了重大突破。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/202504/469708.htm

01推出產品平臺

4月21日,官微宣布,推出碳化硅(SiC)MOSFET技術平臺,該平臺首款主驅芯片(型號:S3M008120BK)的常溫導通電阻低至8mΩ,比導通電阻系數(shù)Rsp達到2.1 mΩ·cm2,處于國際領先水平。source:清純半導體(圖為清純半導體1、2、3代產品比電阻Rsp變化)

在此之前,清純半導體第一代產品的比導通電阻為3.3 mΩ·cm2左右,2023年發(fā)布的第二代產品為2.8 mΩ·cm2,2024年進一步降低至2.4 mΩ·cm2。該平臺通過專利技術和工藝完善,在降低導通電阻的同時,保持了與前兩代相近的優(yōu)良短路耐受特性。這使得新能源汽車電機驅動器能夠進一步釋放SiC高功率密度及高能量轉化效率潛力,提高續(xù)航里程。

source:清純半導體(圖為清純半導體1、2、3代產品比電阻Rsp變化)

source:清純半導體(圖為S3M008120BK芯片輸出特性)

據(jù)悉,該產品額定電壓為1.2kV,額定電流超過220A,室溫閾值電壓典型值為2.7~2.8V。在等效的芯片面積下,與上一代技術相比導通損耗降低約20%,能夠以更高的效率、更小的封裝和更高的可靠性實現(xiàn)應用設計。

source:清純半導體(圖為S3M008120BK芯片與2代同類產品反向恢復波形對比)

在動態(tài)性能方面,S3M008120BK在相同芯片尺寸下寄生電容進一步降低,提高了開關速度,且顯著改善了MOSFET體二極管的反向恢復特性,峰值電流Irrm實現(xiàn)了近30%的降低,同時軟度tb/ta得到了大幅優(yōu)化,電壓過沖Vrrm也得到了顯著改善。

清純半導體表示,新品繼承了前兩代產品在可靠性方面的優(yōu)勢,包括通過了傳統(tǒng)柵極可靠性試驗對HTGB的考核等加嚴可靠性試驗的測試。其結果表明,第三代產品更適合主驅等多芯片并聯(lián)應用場景,以確保系統(tǒng)在長期使用后依然具有較優(yōu)的均流特性。

值得注意的是,今年1月9日,清純半導體與士蘭微電子深化8英寸SiC量產線技術支撐與代工合作。士蘭微電子的8英寸SiC功率器件芯片制造生產線預計2025年一季度封頂,四季度末初步通線,2026年一季度試生產。雙方將共同開發(fā)包括溝槽型SiC MOSFET等新產品,清純半導體將為士蘭微電子8寸碳化硅量產線提供技術支撐,士蘭微電子則為清純半導體提供獨家代工服務。近期,士蘭微官方表示,其已完成第Ⅳ代平面柵SiC-MOSFET 技術的開發(fā),性能指標接近溝槽柵SiC器件的水平。第Ⅳ代SiC芯片與模塊已送客戶評測,基于第Ⅳ代SiC芯片的功率模塊預計將于2025年上量。

02VBsemi第三代發(fā)布

近期,VBsemi()針對電動汽車直流快充、儲能系統(tǒng)(ESS)及雙向充電(V2G)等關鍵領域,推出多款基于第三代SiC技術的MOSFET產品。

官方資料顯示,VBsemi的第三代采用先進SiC工藝,開關損耗降低50%以上,系統(tǒng)效率突破96%。與IGBT方案相比,其顯著減少熱能損耗,簡化冷卻設計。

source:VBsemi(圖為VBsemi MOSFET為快充與儲能優(yōu)化設計)

據(jù)悉,其具備高功率密度。小封裝(如T0247、T02474L)支持高電流輸出,節(jié)省PCB空間。例如VBsemi VBP112MC100在100A電流下導通電阻僅21mΩ,適合大功率密集部署。其全系列器件已通過嚴格的動態(tài)參數(shù)測試,確保高溫、高濕等嚴苛環(huán)境下的穩(wěn)定性。  

在近日舉辦的慕尼黑上海電子展上,VBsemi展示了其在功率半導體領域的最新技術與產品,包括VBP112MC100、STD45N10F7-VB、VBGQT1102、VBGM1102、VBGL1103、VBGL1805、VBGE1805等,吸引了眾多行業(yè)同仁和客戶的關注。




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