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搞定晶圓貼合/堆疊材料 3D IC量產(chǎn)制程就位

作者: 時(shí)間:2013-08-14 來(lái)源:新電子 收藏

  三維晶片(IC)商用量產(chǎn)設(shè)備與材料逐一到位。IC貼合與堆疊制程極為復(fù)雜且成本高昂,導(dǎo)致廠與封測(cè)業(yè)者遲遲難以導(dǎo)入量產(chǎn)。不過(guò),近期半導(dǎo)體供應(yīng)鏈業(yè)者已陸續(xù)發(fā)布新一代IC制程設(shè)備與材料解決方案,有助突破3DIC生產(chǎn)瓶頸,并減低薄化、貼合和堆疊的損壞率,讓成本盡快達(dá)到市場(chǎng)甜蜜點(diǎn)。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/158964.htm

  工研院材化所高寬頻先進(jìn)構(gòu)裝材料研究室研究員鄭志龍強(qiáng)調(diào),3DIC材料占整體制程成本三成以上,足見(jiàn)其對(duì)終端晶片價(jià)格的影響性。

  工研院材化所高寬頻先進(jìn)構(gòu)裝材料研究室研究員鄭志龍表示,高昂成本向來(lái)是3DIC量產(chǎn)時(shí)程一拖再拖的主要因素,由于成本與制程良率息息相關(guān),因此改良3DIC制造設(shè)備與材料,使整體生產(chǎn)流程更上軌道,已然成為供應(yīng)鏈業(yè)者當(dāng)務(wù)之急。尤其3DIC新增的矽穿孔(TSV)、晶圓薄化、暫時(shí)貼合(TemporaryBonding)和堆疊等制程步驟,更是半導(dǎo)體設(shè)備和材料商全力搶攻的重點(diǎn)。

  據(jù)悉,2.5D矽中介層(Interposer)或3DIC包含矽穿孔、暫時(shí)貼合、重分布層(RDL)、底部填充(Underfill)、堆疊及成型(Molding)等關(guān)鍵制程,樣樣都為半導(dǎo)體業(yè)者帶來(lái)嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。鄭志龍指出,晶圓在矽穿孔制程之前或之后,須以特殊膠材暫時(shí)與機(jī)具貼合,進(jìn)行晶圓薄化的動(dòng)作,將晶圓磨薄并剝離后再進(jìn)入導(dǎo)電材料填充、堆疊和成型等階段,系傳統(tǒng)平面式制程不曾面臨的難題,復(fù)雜度可見(jiàn)一斑。

  由于薄晶圓應(yīng)力承受度較差,須從一開(kāi)始的材料摻雜著手,確保在后段制程中不易破碎;而暫時(shí)貼合膠材也要具備耐高溫、強(qiáng)固貼合且容易剝離等特性,才能提高3DIC制程良率。鄭志龍強(qiáng)調(diào),包括IBM、陶氏化學(xué)(DowChemical)和杜邦(DuPont)等半導(dǎo)體材料研發(fā)暨供應(yīng)商,皆已分別提出3DIC材料摻雜技術(shù)論文,以及新的貼合材料與制程方案;同時(shí),臺(tái)商勤友和志圣也已發(fā)表相關(guān)貼合設(shè)備,有助推進(jìn)3DIC量產(chǎn)步伐。

  事實(shí)上,勤友日前甫與IBM簽訂合作計(jì)劃,將授權(quán)IBM的復(fù)合雷射剝離制程技術(shù),開(kāi)發(fā)全新半導(dǎo)體晶圓貼合和剝離設(shè)備,提高3DIC生產(chǎn)速度與良率。此外,志圣亦開(kāi)始出貨3DIC真空晶圓壓膜機(jī)及貼合設(shè)備,并已取得一線晶圓代工廠和封測(cè)業(yè)者的訂單,協(xié)力打造3DIC產(chǎn)線。

  另一方面,3DIC還須導(dǎo)入堆疊制程,包括晶片到晶圓(C2W)、晶片到晶片(C2C)或晶圓到晶圓(W2W)等三種型式;接合方法則有氧化物融熔(OxideFusion)、金屬-金屬(Metal-Metal)、聚合物黏著(PolymerAdhesive)等,以實(shí)現(xiàn)立體晶片架構(gòu)。

  鄭志龍?zhí)寡?,堆疊系3DIC制程中最重要卻也相對(duì)困難的環(huán)節(jié),不僅要考量裸晶良率(KGD)問(wèn)題,還須仰賴(lài)高度客制化的設(shè)備和材料技術(shù),才能達(dá)到量產(chǎn)良率。目前美日半導(dǎo)體設(shè)備暨材料廠均各自押寶特定技術(shù),并投資大筆資金開(kāi)發(fā)依存性相當(dāng)高的材料和設(shè)備,拉攏半導(dǎo)體制造業(yè)者;而鴻浩、肥特補(bǔ)、南亞、長(zhǎng)春化工和長(zhǎng)興化工等臺(tái)商在臺(tái)積電高呼將增加國(guó)內(nèi)采購(gòu)比重后,亦積極展開(kāi)研發(fā),未來(lái)可望在3DIC市場(chǎng)搶占一席之地。

  與此同時(shí),工研院材化所亦致力研發(fā)3DIC暫時(shí)貼合、堆疊、電鍍液和RDL層感光材料,正陸續(xù)導(dǎo)入電光所建置的奈米晶圓產(chǎn)線進(jìn)行測(cè)試與驗(yàn)證,一旦技術(shù)成熟并技轉(zhuǎn)后,臺(tái)商在3DIC上游供應(yīng)鏈將更具競(jìng)爭(zhēng)力。



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