富士通導(dǎo)入0.18微米FRAM生產(chǎn)技術(shù)
富士通半導(dǎo)體發(fā)展新一代內(nèi)存技術(shù)鐵電隨機(jī)內(nèi)存(Ferroelectric Random Access Memory;FRAM)技術(shù)已久,日前正式以0.18微米制程生產(chǎn)SPI FRAM產(chǎn)品,包括MB85RS256A、MB85RS128A和MB85RS64A系列,容量分別為256Kb、128Kb和64Kb等,目前已開始提供客戶樣品。
本文引用地址:http://2s4d.com/article/121679.htm鐵電隨機(jī)內(nèi)存的材料,是鈣鈦礦類型結(jié)構(gòu)(ABO3)的PZT,在施加和排除外電場(chǎng)后,PZT的電極化仍然存在,有非易失性的特質(zhì),在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)上所消耗的電量非常小,富士通半導(dǎo)體在1998年就將鐵電隨機(jī)內(nèi)存結(jié)合到微電腦中,是發(fā)展鐵電隨機(jī)內(nèi)存的先驅(qū)之一。
鐵電隨機(jī)內(nèi)存屬于非易失性,但在其他各方面則類似于隨機(jī)內(nèi)存,如閃存和電可擦除只讀存儲(chǔ)器(EEPROM)等,鐵電隨機(jī)內(nèi)存的特點(diǎn)是寫入速度更快,擦寫次數(shù)更快,且同時(shí)具有低耗電特性;以讀寫速度來(lái)看,鐵電隨機(jī)內(nèi)存比EEPROM讀寫速度快3萬(wàn)倍、擦寫次數(shù)高出10萬(wàn)倍、耗電少200倍。
富士通半導(dǎo)體指出,鐵電隨機(jī)內(nèi)存技術(shù)將SRAM的快速讀寫和非揮發(fā)性閃存等特性,都整合至1顆芯片,日前已開始用0.18微米制程生產(chǎn)SPI FRAM產(chǎn)品家族,包括MB85RS256A、 MB85RS128A和MB85RS64A等3款系列,提供的內(nèi)存容量分別為256Kb、128Kb和64Kb等,目前開始提供客戶樣品。
富士通進(jìn)一步指出,這3款芯片的工作電壓范圍介于3.0~3.6V之間,可承受的讀寫次數(shù)達(dá)100億次,并能將資料保存在55°環(huán)境下長(zhǎng)達(dá)10年,其工作頻率已提高至最大25MHz。
再者,因?yàn)殍F電隨機(jī)內(nèi)存產(chǎn)品在寫入的處理過(guò)程中,不需要電壓增壓器,很適合低功率應(yīng)用,且因?yàn)榫哂袠?biāo)準(zhǔn)內(nèi)存針腳配置的8針腳塑料SOP封裝,因此和EEPROM芯片兼容。
富士通表示,這款鐵電隨機(jī)內(nèi)存獨(dú)立芯片可用于測(cè)量、工廠自動(dòng)化應(yīng)用和眾多需要數(shù)據(jù)擷取、高速寫入和高耐用性等功能的相關(guān)產(chǎn)業(yè),未來(lái)富士通會(huì)進(jìn)一步擴(kuò)充鐵電隨機(jī)內(nèi)存的產(chǎn)品線陣容,并以開發(fā)制造經(jīng)驗(yàn)用于整合芯片設(shè)計(jì)和生產(chǎn)上,緊密互相配合。
評(píng)論