傳臺積電取消32nm工藝
據(jù)稱,全球第一大半導(dǎo)體代工廠臺積電已經(jīng)完全取消了下一代32nm工藝,算上一直不順利的40nm工藝真可謂是屋漏偏逢連夜雨了。
本文引用地址:http://2s4d.com/article/100149.htm臺積電方面尚未就此發(fā)表官方評論,不過已經(jīng)有多個(gè)消息來源確認(rèn)了這一點(diǎn)。
不過這并不意味著臺積電的新工藝研發(fā)就走進(jìn)了死胡同。
事實(shí)上,臺積電在今年八月底就已經(jīng)在全球首家成功使用28nm工藝試制了64Mb SRAM單元,并在三種不同工藝版本上實(shí)現(xiàn)了相同的良品率。
按照規(guī)劃,臺積電將在明年前三個(gè)季度分別開始試產(chǎn)28nm高性能高K金屬柵極(28HP)、28nm低功耗高K金屬柵極(28HPL)和 28nm低功耗氮氧化硅(28LP)三種新工藝,這樣就根本沒有32nm工藝的空間了,但是根據(jù)臺積電此前的說法,在32nm工藝階段研發(fā)中取得的很多成果都會用于28nm,比如硅氧氮化物(SiON)/多晶硅(poly Si)材料。
另一方面,業(yè)界客戶對32nm工藝的需求并不高,但整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)對全代工藝28nm的熱情卻相當(dāng)高漲,既有臺積電,也有IBM技術(shù)聯(lián)盟、東芝和NEC等,只有Intel準(zhǔn)備獨(dú)自跨越到22nm,不過那是為其處理器產(chǎn)品準(zhǔn)備的。
如果這樣看,與其說是臺積電取消了32nm,倒不如說是跨過了這一階段。
當(dāng)然了,40nm工藝上的深刻教訓(xùn)也讓我們對臺積電缺乏足夠的信心,但愿在28nm工藝上能夠一切順利。
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