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KLA-Tencor 快速有效解決客戶良率問題 與中國半導體行業(yè)一同成長

  • 　　看好中國半導體行業(yè)未來持續(xù)的蓬勃發(fā)展，工藝控制與成品率管理解決方案提供商KLA-Tencor (科天)透過半導體檢測與量測技術，以最快的速度及最有效的方式 ，幫助客戶解決在生產(chǎn)時面對的良率問題。KLA-Tencor立志于幫助中國客戶一起提升良率，降低生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率，并與中國半導體行業(yè)一同成長。　　KLA-Tencor中國區(qū)總裁張智安表示，KLA-Tencor成立至今40年，現(xiàn)于全球17國擁有6000多位員工。2016財年，KLA-Tencor營收表現(xiàn)來到30億美元。從硅片檢
  • 關鍵字： KLA-Tencor  EUV  

半導體押寶EUV ASML突破瓶頸 預計2018年可用于量產(chǎn)

  • 　　摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問世以來，全球半導體產(chǎn)業(yè)均能朝此一定律規(guī)則前進發(fā)展，過去數(shù)十年來包括光微影技術(Photolithography)等一系列制程技術持續(xù)的突破，才得以讓半導體產(chǎn)業(yè)能依照摩爾定律演進，進而帶動全球科技產(chǎn)業(yè)研發(fā)持續(xù)前進。 　　但為延續(xù)產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展，光是依賴于傳統(tǒng)微影技術仍不夠，因此芯片制造商也正在苦思試圖進行一次重大且最具挑戰(zhàn)的變革，即發(fā)展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術，該技術也成為臺積電、英特爾(Intel)等
  • 關鍵字： ASML  EUV   

基于Hyper-V虛擬化技術實現(xiàn)故障轉移

  • 航空氣象要素對飛行安全的影響越來越大，氣象探測設備的重要性也越來越高。成陽國際機場配備了風廓線雷達，能夠為航空飛行提供機場上空的風速風向和溫度?；诒Ｕ巷L廓線雷達正常運行的目的，通過Hyper-V虛擬化技術和故障轉移集群的方法，結合人為干預設備的試驗，實現(xiàn)了風廓線雷達系統(tǒng)的故障轉移功能，平均故障修復時間提高了95%。
  • 關鍵字： 故障轉移集群  Hyper-V  風廓線雷達  平均故障修復時間  

半導體產(chǎn)業(yè)中重要一環(huán) EUV光刻最新進展如何

  • 　　ASML宣稱它的Q2收到4臺EUV訂單，預期明年EUV發(fā)貨達10臺以上。 　　EUV光刻設備一再延遲，而最新消息可能在2020年時能進入量產(chǎn)，而非?？赡軕迷?nm節(jié)點。 　　業(yè)界預測未來在1znm的存儲器生產(chǎn)中可能會有2層或者以上層會采用它，及在最先進制程節(jié)點(7 or 5nm)的邏輯器件生產(chǎn)中可能會有6-9層會使用它。 　　ASML計劃2018年時它的EUV設備的產(chǎn)能再擴大一倍達到年產(chǎn)24臺，每臺售價約1億美元，目前芯片制造商己經(jīng)安裝了8臺，正在作各種測試。 　　半導體顧問公司的分析師Ro
  • 關鍵字： 半導體  EUV  

重回摩爾定律兩大武器... EUV＋三五族 成大勢所趨

  • 　　英特爾在14奈米及10奈米制程推進出現(xiàn)延遲，已影響到處理器推出時程，也讓業(yè)界及市場質(zhì)疑：摩爾定律是否已達極限?不過，英特爾仍積極尋求在7奈米時代重回摩爾定律的方法，其中兩大武器，分別是被視為重大微影技術世代交替的極紫外光(EUV)，以及開始采用包括砷化銦鎵(InGaAs)及磷化銦(InP)等三五族半導體材料。 　　摩爾定律能否持續(xù)走下去，主要關鍵在于微影技術難度愈來愈高。目前包括英特爾、臺積電、三星等大廠，主要采用多重曝光(multi-patterning)的浸潤式微影(immersionlitho
  • 關鍵字： 摩爾定律  EUV  

EUV微影技術準備好了嗎？

  • 　　又到了超紫外光(EUV)微影技術的關鍵時刻了?？v觀整個半導體發(fā)展藍圖，研究人員在日前舉辦的IMEC技術論壇(ITF)上針對EUV微影提出了各種大大小小即將出現(xiàn)的挑戰(zhàn)。 　　到了下一代的10nm節(jié)點，降低每電晶體成本將會變得十分棘手。更具挑戰(zhàn)性的是在7nm節(jié)點時導入EUV微影。更進一步來看，當擴展到超越5nm節(jié)點時可能就需要一種全新的晶片技術了。 　　目前最迫在眉睫的是中期挑戰(zhàn)。如果長久以來一直延遲的EUV微影系統(tǒng)未能在2017年早期就緒的話，7nm制程將會成為一個昂貴的半節(jié)點。 　　不過，研究人
  • 關鍵字： EUV  SanDisk  

臺積電采購EUV 2018年或邁入7納米時代

  • 按照現(xiàn)在量產(chǎn)產(chǎn)品工藝進展的速度，幾乎可以預見的是，2018年上7納米的愿望很美好，但是實際情況卻困難重重，幾乎是不太可能的事，即便在技術上能實現(xiàn)，在商業(yè)上來看也不能算是理性的選擇。
  • 關鍵字： 臺積電  7納米  EUV  

2016年EUV降臨 半導體格局生變

  • 　ASML公司第3代極紫外光(EUV)設備已出貨6臺。這預示著預示了全球兩家頂級大廠未來采用EUV光刻技術，在10nm的量產(chǎn)關鍵技術選項中幾乎同步，或者說臺積電在10nm時順利趕上業(yè)界龍頭英特爾。
  • 關鍵字： 半導體  EUV  

EUV將在7納米節(jié)點發(fā)威？

  • 　　核心提示：荷蘭半導體設備大廠 ASML 現(xiàn)在勉為其難地承認了其客戶私底下悄悄流傳了好一陣子的情況：大多數(shù)半導體廠商仍將采用傳統(tǒng)浸潤式微影技術來生產(chǎn)10奈米制程晶片，而非延遲許久的超紫外光微影(EUV)技術;不過這恐怕將使得10奈米節(jié)點因為無法壓低每電晶體成本，而成為不受歡迎的制程。 　　荷蘭半導體設備大廠 ASML 現(xiàn)在勉為其難地承認了其客戶私底下悄悄流傳了好一陣子的情況：大多數(shù)半導體廠商仍將采用傳統(tǒng)浸潤式微影技術來生產(chǎn)10奈米制程晶片，而非延遲許久的超紫外光微影(EUV)技術;不過這恐怕將使得
  • 關鍵字： EUV  7納米  

KLA-Tencor推出Teron? SL650 光罩檢測系統(tǒng)

  • 　　KLA-Tencor 公司(納斯達克股票代碼：KLAC)宣布推出 Teron? SL650，該產(chǎn)品是專為集成電路晶圓廠提供的一種新型光罩質(zhì)量控制解決方案，支持 20nm 及更小設計節(jié)點。Teron SL650 采用 193nm光源及多種 STARlight? 光學技術，提供必要的靈敏度和靈活性，以評估新光罩的質(zhì)量，監(jiān)控光罩退化，并檢測影響成品率的光罩缺陷，例如在有圖案區(qū)和無圖案區(qū)的晶體增長或污染。此外，Teron SL650 擁有業(yè)界領先的產(chǎn)能，可支持更快的生產(chǎn)周期，以滿足檢驗
  • 關鍵字： KLA-Tencor  SL650  EUV  

EUV遭受新挫折 半導體10nm工藝步伐蹉跎

  • 當半導體工藝發(fā)展到10nm水平時，傳統(tǒng)的光刻工藝將面臨前所未有的挑戰(zhàn)，所有經(jīng)典物理的規(guī)律在量子水平下都有可能失效，必須在硅材料之外尋找一種新的、實用的思路來進一步延續(xù)集成電路的發(fā)展。
  • 關鍵字： EUV  10nm  

EUV光刻技術或助力芯片突破摩爾定律

  • 　　據(jù)美國科技博客Business Insider報道，在近50年的科技發(fā)展中，技術變革的速度一直遵循著摩爾定律。一次又一次的質(zhì)疑聲中，英特爾堅定不移地延續(xù)著摩爾定律的魔力。 　　摩爾定律是由英特爾聯(lián)合創(chuàng)始人GordonMoore提出，內(nèi)容為：當價格不變時，集成電路上可容納的晶體管數(shù)目，約每隔18個月便會增加一倍，性能也將提升一倍。換言之，每一美元所能買到的電腦性能，將每隔18個月翻兩倍以上。這一定律揭示了信息技術進步的速度。 　　在幾十年來，芯片技術得以快速變革和發(fā)展，變得更加強大，節(jié)省了更
  • 關鍵字： EUV  摩爾定律  

ASML提升新EUV機臺技術生產(chǎn)效率

  • 　　微影設備大廠ASML積極提升極紫外線(EUV)機臺技術的生產(chǎn)效率，在2012年購并光源供應商Cymer后，大幅提升光源效率，從2009年至今光源效率分別為2009年2瓦、2010年5瓦、2011年10瓦，2012年提升至20瓦，目前已達55瓦，每小時晶圓產(chǎn)出片數(shù)為43片，預計2013年底前，可達到80瓦的目標，2015年達250瓦、每小時產(chǎn)出125片。 　　半導體生產(chǎn)進入10納米后，雖然可采用多重浸潤式曝光方式，但在一片晶圓上要進行多次的微影制程曝光，將導致生產(chǎn)流程拉長，成本會大幅墊高，半導體大廠為
  • 關鍵字： ASML  EUV  

ASML：量產(chǎn)型EUV機臺2015年就位

  • 　　極紫外光(EUV)微影技術將于2015年突破量產(chǎn)瓶頸。傳統(tǒng)浸潤式微影技術在半導體制程邁入1x奈米節(jié)點后將面臨物理極限，遂使EUV成為產(chǎn)業(yè)明日之星。設備供應商艾司摩爾(ASML)已協(xié)同比利時微電子研究中心(IMEC)和重量級晶圓廠，合力改良EUV光源功率與晶圓產(chǎn)出速度，預計2015年可發(fā)布首款量產(chǎn)型EUV機臺。 　　ASML亞太區(qū)技術行銷協(xié)理鄭國偉提到，ASML雖也同步投入E-Beam基礎研究，但目前對相關設備的開發(fā)計劃仍抱持觀望態(tài)度。 　　ASML亞太區(qū)技術行銷協(xié)理鄭國偉表示，ASML于2012年
  • 關鍵字： ASML  EUV  

全球半導體代工業(yè)正孕育惡戰(zhàn)

  • 　　5月7日消息，全球代工市場規(guī)模繼2011年增長7%，達328億美元之后，2012年再度增長16%，達到393億美元，預計2013年還將有14%的增長。 　　臺積電與英特爾以前是“河水不犯井水”，但是隨著英特爾開始接受Altera的14nm FPGA訂單，明顯在與臺積電搶單，兩大半導體巨頭開始出現(xiàn)較為明顯的碰撞。目前，臺積電已誓言將加速發(fā)展先進制程技術，希望在10nm附近全面趕上英特爾。 　　而另一家代工廠格羅方德近日也發(fā)出聲音，要在兩年內(nèi)，在工藝制程方面趕上臺積電。 　　
  • 關鍵字： 半導體代工  EUV  
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