EUV需求看俏 ASML頻傳捷報(bào)

　　全球最大芯片光刻設(shè)備市場供貨商阿斯麥 (ASML) 公布最新2017第二季財(cái)報(bào)。ASML表示，由于不論邏輯芯片和DRAM客戶都積極準(zhǔn)備將EUV導(dǎo)入芯片量產(chǎn)階段，EUV光刻機(jī)目前第二季已累積27臺(tái)訂單總計(jì)28億歐元。

　　ASML 第二季營收凈額 (net sales)21億歐元，毛利率(gross margin)為45%。在第二季新增8臺(tái)EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺(tái)，總值高達(dá)28億歐元。

　　ASML預(yù)估2017第三季營收凈額(net sales)約為22億歐元，毛利率(gross margin)約為43%。因?yàn)槭袌鲂枨蠛偷诙镜膹?qiáng)勁財(cái)務(wù)表現(xiàn)，ASML預(yù)估2017全年?duì)I收增長可達(dá)25%。

　　ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得Peter Wennink表示，ASML今年的主要營收貢獻(xiàn)來自內(nèi)存芯片客戶，尤其在DRAM市場需求的驅(qū)動(dòng)下，這部分的營收預(yù)估將比去年增長50%，而來自邏輯芯片方面的營收也可望增長15%。

　　此外，ASML近年來積極推行系統(tǒng)升級(jí)業(yè)務(wù)，該部分的營收貢獻(xiàn)可望在今年成長 20%。Peter Wennink指出，綜合市場和各業(yè)務(wù)領(lǐng)域“捷報(bào)”，認(rèn)為這一成長動(dòng)能將可延續(xù)到2018年。

　　在產(chǎn)品線方面，深紫外光( DUV )光刻推出最新浸潤式光刻系統(tǒng)TWINSCAN NXT: 2000i，具備多項(xiàng)硬件技術(shù)創(chuàng)新，讓客戶得以在7納米和5納米制程節(jié)點(diǎn)上，同時(shí)用浸潤式光刻和EUV系統(tǒng)進(jìn)行量產(chǎn)，并達(dá)到2.5納米的迭對精度( on-product overlay )。

　　另一方面，3D NAND客戶對于KrF干式光刻系統(tǒng)的需求持續(xù)升高，目前 TWINSCAN XT:860的未出貨訂單已累積超過20臺(tái)。TWINSCAN XT:860系統(tǒng)的生產(chǎn)力可達(dá)到每天曝光5,300片晶圓。

　　極紫外光( EUV )光刻機(jī)方面，荷蘭總部已經(jīng)成功升級(jí)的EUV光源整合進(jìn) NXE:3400B系統(tǒng)中，并達(dá)成每小時(shí)輸出125片晶圓的生產(chǎn)力指標(biāo)。日前ASML則宣布EUV光源已可達(dá)250W，已突破最關(guān)鍵的量產(chǎn)技術(shù)環(huán)節(jié)。ASML預(yù)計(jì)在第三季會(huì)有3臺(tái)NXE:3400B EUV光刻系統(tǒng)完成出貨。

　　至此，ASML指出，EUV系統(tǒng)已經(jīng)成功達(dá)成所有計(jì)劃中的關(guān)鍵效能指標(biāo)，下一階段，將專注于達(dá)成滿足客戶在量產(chǎn)時(shí)所需的相關(guān)可靠度(availability) 指標(biāo)，并持續(xù)提升系統(tǒng)生產(chǎn)力。

　　展望2017年第三季，ASML預(yù)估整體銷售凈額可達(dá)22億歐元，毛利率約落在 43%，其中包含約3億歐元的EUV營收認(rèn)列。