三星:硅技術(shù)尺寸微縮還將延續(xù)
三星電子公司執(zhí)行副總裁兼研發(fā)中心總經(jīng)理Kinam Kim在近日IMEC技術(shù)論壇上表示,業(yè)界有人認(rèn)為芯片特征尺寸微縮極限在5nm左右,而他并不同意這一說法,他相信存在眾多可能的途徑來克服硅微縮過程中所遇到的障礙,使硅產(chǎn)業(yè)越過納米量級(jí)。
本文引用地址:http://2s4d.com/article/95014.htmEEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 三星:硅技術(shù)尺寸微縮還將延續(xù)
三星電子公司執(zhí)行副總裁兼研發(fā)中心總經(jīng)理Kinam Kim在近日IMEC技術(shù)論壇上表示,業(yè)界有人認(rèn)為芯片特征尺寸微縮極限在5nm左右,而他并不同意這一說法,他相信存在眾多可能的途徑來克服硅微縮過程中所遇到的障礙,使硅產(chǎn)業(yè)越過納米量級(jí)。
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評(píng)論