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賽靈思與臺積電開展7nm工藝和3D IC技術合作

作者: 時間:2015-06-19 來源:人民郵電報 收藏

  公司(Xilinx, Inc.)日前宣布與公司(TSMC)已經(jīng)就7nm工藝和3D IC技術開展合作,共同打造其下一代All ProgrammableFPGA、MPSoC和3D IC。該技術代表著兩家公司在先進工藝和CoWoS 3D堆疊技術領域連續(xù)第四代攜手合作,同時也將成為公司的第四代FinFET技術。雙方合作將為帶來多節(jié)點擴展的優(yōu)勢,并進一步延續(xù)其在28nm、20nm和16nm工藝節(jié)點所實現(xiàn)的出色的產(chǎn)品、執(zhí)行力和市場成功。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/275982.htm

  公司總裁兼CEO Moshe Gavrielov表示:“公司是我們在28nm、20nm和16nm實現(xiàn)“三連冠(3Peat)”成功的堅實基礎。其出色的工藝技術、3D堆疊技術和代工廠服務,讓賽靈思在出色的產(chǎn)品、優(yōu)異的品質(zhì)、強大的執(zhí)行力以及領先的市場地位上享有無與倫比的聲譽。我們相信臺積電公司的7nm技術將會為賽靈思帶來更大的變革。”

  臺積電公司總經(jīng)理兼聯(lián)合CEO劉德音博士表示,臺積電公司非常高興能夠和賽靈思一起實現(xiàn)其第四代突破性產(chǎn)品。此次合作將為賽靈思帶來向新一代擴展和3D集成的優(yōu)勢。



關鍵詞: 賽靈思 臺積電

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