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薄膜3D模擬IC:堆疊式 IC 可在更小尺寸中降低成本并提高性能

作者: 時(shí)間:2025-03-07 來(lái)源:IEEE 收藏

盡管數(shù)字技術(shù)不斷進(jìn)步到商業(yè)、工業(yè)和休閑活動(dòng)的各個(gè)領(lǐng)域,但模擬集成電路 (IC) 在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)上仍占有一席之地。今年,收入預(yù)計(jì)將達(dá)到 850 億美元,相當(dāng)于 10% 的年復(fù)合增長(zhǎng)率。推動(dòng)這一需求的是人工智能、物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)和自動(dòng)駕駛汽車(chē)的進(jìn)步,所有這些都依賴(lài)于模擬 IC 來(lái)實(shí)現(xiàn)傳感和電源管理等功能。與僅處理二進(jìn)制信號(hào)的數(shù)字 IC 不同,模擬 IC 可以處理溫度和聲音等連續(xù)信號(hào),因此它們對(duì)于與物理環(huán)境連接至關(guān)重要。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/202503/467747.htm

著眼于這一不斷擴(kuò)大的市場(chǎng),兩家總部位于東京的公司 Oki Electric Industry Co. 和 Nisshinbo Micro Devices 合作開(kāi)發(fā)模擬 IC。這些 IC 還可以垂直堆疊,兩家公司聲稱(chēng)這提高了電子產(chǎn)品小型化和一次集成更多 IC 的努力。 該技術(shù)還通過(guò)在更小的空間內(nèi)實(shí)現(xiàn)更多功能或提高性能來(lái)降低成本并增加功能。

“我們生活在一個(gè)由聲音、光線、溫度和壓力組成的模擬世界,”Nisshinbo 生產(chǎn)工程助理經(jīng)理 Toshihiro Ogata 說(shuō)。模擬 IC 將物理世界和數(shù)字世界連接起來(lái),處理連續(xù)的物理信號(hào),例如自動(dòng)駕駛汽車(chē)中的攝像頭和激光雷達(dá)檢測(cè)到的光線和距離,并將其轉(zhuǎn)換為數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)以支持安全駕駛。

 3D 模擬 IC 開(kāi)發(fā)

3D 模擬 IC 的開(kāi)發(fā)涉及OKI 的晶體薄膜鍵合 (CFB) 工藝,該工藝將模擬 IC 的功能薄膜層從襯底上剝離出來(lái)。(具體過(guò)程是商業(yè)機(jī)密。然后將分離的層粘合到另一個(gè)由絕緣層(如氧化硅)隔開(kāi)的模擬薄膜層上。鍵合是通過(guò)分子之間的吸引力完成的,這種現(xiàn)象稱(chēng)為分子間鍵合。傳統(tǒng)的引線鍵合以電氣方式連接堆疊層。

“與我們的 CFB 堆疊相比,標(biāo)準(zhǔn)堆疊工藝通常使用 TSV [通過(guò)硅通孔,一種連接堆疊芯片的垂直布線方法],并涉及先進(jìn)的加工和特殊設(shè)備,”沖電氣 CFB 開(kāi)發(fā)部總經(jīng)理 Kenichi Tanigawa 說(shuō)。他說(shuō),使用 TSV 連接的堆棧中單個(gè)芯片的厚度從幾十微米到幾百微米不等?!叭欢?,在 CFB 堆棧中,每個(gè)芯片的厚度只有 5 到 10 [微米],這就是為什么可以在廣泛使用的遺留系統(tǒng)上使用低成本的傳統(tǒng)半導(dǎo)體光刻技術(shù)重新布線的原因。”

CFB 堆疊還支持使用多種不同的 3D 集成方法。一個(gè)簡(jiǎn)單而聰明的工藝使用相同的 IC 設(shè)計(jì),其中布線焊盤(pán)沿一個(gè)邊緣排列。在第一層鋪設(shè)完畢后,每個(gè)后續(xù) IC 層的尺寸略微減小并旋轉(zhuǎn) 90 度,使前一層的焊盤(pán)暴露在外。這種方法可用于連接多達(dá)四層 IC。

然而,由于堆疊模擬 IC 非常薄,層之間會(huì)發(fā)生串?dāng)_,這可能會(huì)導(dǎo)致 IC 的信號(hào)干擾、噪聲和性能下降。這就是 Nisshinbo 憑借其專(zhuān)有屏蔽技術(shù)介入的地方。

“我們使用鋁作為使用傳統(tǒng)半導(dǎo)體工藝鋪設(shè)的屏蔽材料,”Nisshinbo 的 Ogata 說(shuō)。他解釋說(shuō),如果電路層的整個(gè)區(qū)域都被屏蔽,“它會(huì)產(chǎn)生一個(gè)大的寄生電容”,指的是電路層之間發(fā)生的不必要的電荷存儲(chǔ),這可能會(huì)干擾電路運(yùn)行?!斑@是因?yàn)?,與工作電壓低于 5 伏的數(shù)字 IC 不同,模擬 IC 可處理高達(dá) 20 或 30 伏的電壓,這會(huì)增加寄生電容?!?/p>

為了防止這種情況,屏蔽僅適用于堆疊芯片之間發(fā)生干擾的關(guān)鍵區(qū)域,這些區(qū)域是 Nisshinbo 根據(jù)其數(shù)十年對(duì)模擬 IC 的研究和工作確定的。Ogata 說(shuō),這種定位減少了信號(hào)干擾,而不會(huì)影響電路功能。

幾何背景下的薄膜 3D 模擬集成電路特寫(xiě)。

集成的優(yōu)勢(shì)

兩家公司指出,薄膜 3D 模擬 IC 堆疊也可用于模擬和數(shù)字 IC 組合的情況。這將使它們能夠用于小芯片,即可以組合以創(chuàng)建更復(fù)雜的器件的模塊化 IC。

“與大型單片器件相比,小芯片具有幾個(gè)優(yōu)勢(shì),”O(jiān)gata 說(shuō)。不是將所有功能都塞進(jìn)一個(gè)大芯片中,而是單獨(dú)處理傳感、處理和電源管理等不同功能。每個(gè)小芯片都可以針對(duì)其特定功能進(jìn)行優(yōu)化,從而降低成本。堆疊小芯片還降低了空間要求,從而實(shí)現(xiàn)了更小的器件。而且制造產(chǎn)量可能會(huì)更高,因?yàn)槿绻粋€(gè)小芯片出現(xiàn)缺陷,則可以在組裝之前識(shí)別并更換小芯片。(而一個(gè)大芯片的缺陷意味著必須丟棄整個(gè)芯片。

盡管如此,在這種先進(jìn)的集成成為現(xiàn)實(shí)之前,這些公司可能會(huì)面臨一些挑戰(zhàn)。

“小芯片方法對(duì)于下一代半導(dǎo)體制造非常重要,”蒙特利爾麥吉爾大學(xué)計(jì)算機(jī)和電氣工程教授 Gordon Roberts 說(shuō)。雖然今天的小芯片已經(jīng)允許某些組件(如 CPU、GPU 和內(nèi)存)混合和匹配,但半導(dǎo)體發(fā)展的下一步將看到更多樣化的組件,如模擬、電源和光學(xué)芯片,使用創(chuàng)新的堆疊和互連技術(shù)無(wú)縫集成。

“能夠使用一種可以廉價(jià)地組裝混合組件袋的工藝將是朝著正確方向邁出的一步,”Roberts 說(shuō)?!叭欢捎谠摴に囀褂脺p薄的半導(dǎo)體器件堆疊在公共襯底上,因此減薄步驟會(huì)引入制造缺陷?!背送{制造良率外,裂紋等缺陷還可能在測(cè)試過(guò)程中滑落,從而導(dǎo)致可靠性問(wèn)題?!耙虼?,需要確定公司如何處理單個(gè)模具并將它們打包在一起,”Roberts 說(shuō)。

沖電氣 (OKI) 和日清紡 (Nisshinbo) 相信他們可以克服這些問(wèn)題,并且已經(jīng)計(jì)劃將他們的新方法用于商業(yè)應(yīng)用。

“將我們的技術(shù)應(yīng)用于小芯片技術(shù)意味著我們將能夠提供一系列不同的模擬 IC”,OKI 的 Tanigawa 說(shuō)?!案鞣N數(shù)字、模擬、光學(xué)和其他半導(dǎo)體器件的異構(gòu)集成將有助于引領(lǐng)未來(lái)新型半導(dǎo)體芯片的開(kāi)發(fā)?!彼a(bǔ)充說(shuō),兩家公司已經(jīng)開(kāi)始基于他們的技術(shù)開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品,并計(jì)劃到 2026 年實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。



關(guān)鍵詞: 薄膜 3D模擬IC 堆疊式IC Chiplet

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