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ASML在2024年投資者日會議上就市場機遇提供最新看法

—— 有望在2030年內(nèi)實現(xiàn)營收和盈利的顯著增長
作者: 時間:2024-11-14 來源:EEPW 收藏

在今日舉辦的2024 年投資者日會議上,將更新其長期戰(zhàn)略以及全球市場和技術(shù)趨勢分析,確認其到2030年的年收入將達到約440 億至 600 億歐元,毛利率約為56%至 60%。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/202411/464637.htm

總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮(Christophe Fouquet)表示:“我們預(yù)計,在下一個十年我們有能力將EUV技術(shù)推向更高水平,并擴展廣泛適用的全景光刻產(chǎn)品組合,使 能夠充分參與和抓住人工智能機遇,從而實現(xiàn)顯著的營收和盈利增長?!?/p>


鑒于半導(dǎo)體在多種社會宏觀趨勢中的關(guān)鍵推動作用,該行業(yè)的長期發(fā)展前景依然樂觀。

除了多個重要終端市場的增長潛力外,得益于人工智能可能成為推動社會生產(chǎn)力和創(chuàng)新的下一個重大驅(qū)動力,ASML 認為,人工智能的崛起為半導(dǎo)體行業(yè)帶來了顯著機遇。

預(yù)計這些發(fā)展趨勢將有助于推動全球半導(dǎo)體銷售額在2030年超過1萬億美元,這意味著 2025-2030 年間半導(dǎo)體市場的年增長率約為 9%。

此外,ASML認為到2030年內(nèi),EUV的銷售也將有上升空間。EUV 技術(shù)的可擴展性具有持續(xù)的成本效益,有望使客戶進一步從多重曝光轉(zhuǎn)向使用低數(shù)值孔徑(0.33 NA)EUV和高數(shù)值孔徑(0.55 NA)EUV的單次曝光工藝,以支持先進邏輯和動態(tài)隨機存取存儲器(DRAM)的發(fā)展。因此,ASML 預(yù)計在 2025-2030 年間,先進邏輯和動態(tài)隨機存取存儲器(DRAM)對EUV光刻設(shè)備需求的年復(fù)合增長率將達到兩位數(shù)。

“半導(dǎo)體終端市場的增長和未來制程節(jié)點發(fā)展對更多光刻設(shè)備的需求,將為ASML的產(chǎn)品和服務(wù)帶來強勁的需求,對此我們充滿信心?!盇SML執(zhí)行副總裁兼首席財務(wù)官戴厚杰(Roger Dassen)表示。“根據(jù)我們對不同市場和技術(shù)情況的評估,預(yù)計到 2030 年,ASML將實現(xiàn)年收入約440 億歐元至 600 億歐元,毛利率約為 56% 至 60%。我們還確認了ASML的資本配置策略,預(yù)計將繼續(xù)通過增加股息和股票回購相結(jié)合的方式為投資者提供可觀的現(xiàn)金回報?!?/p>

堅實的行業(yè)合作伙伴關(guān)系對于ASML的成功至關(guān)重要,ASML將繼續(xù)與行業(yè)和社會共同努力,以保持在 ESG 可持續(xù)發(fā)展領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。



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