ASML：EUV光刻機已近極限 追趕技術還是另辟蹊徑？

ASML首席財務官達森（Roger Dassen）表示，EUV技術路線發(fā)展受歐美限制，且光刻機已接近技術極限，此一技術路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進行技術跟隨？還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術路徑？將面臨艱難的抉擇。

據(jù)《芯智訊》報導，臺積電已經(jīng)訂購了High NA EUV（高數(shù)值孔徑極紫外光）光刻機，ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結(jié)束，預計在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關設備訂單。ASML預測其設備的市場需求有望一路走強至2026年，這主要是受益于各國政府推動的芯片制造當?shù)鼗呗浴?/span>

報導說，High NA EUV光刻機的價格相當昂貴，一臺要價超過3.5億歐元。臺積電業(yè)務開發(fā)資深副總裁張曉強（Kevin Zhang）日前表示，由于定價過高，臺積電預計于2026年下半量產(chǎn)的A16（1.6nm）制程，不一定需要用到High NA EUV光刻機，這要看如何在經(jīng)濟與技術間取得最佳的平衡而定。

目前最為積極引入High NA EUV光刻機則是英特爾，其是第一家訂購并完成交付安裝的晶圓制造商，目前英特爾已經(jīng)開始進行Intel 18A工藝的測試，以積累相關經(jīng)驗，后續(xù)將會被用于Intel 14A的量產(chǎn)。

報導指出，ASML已接獲數(shù)十臺High NA EUV光刻機的訂單，其中大部分被英特爾預定，此外三星、臺積電、SK海力士、美光也有訂購。但是由于技術本身和生態(tài)系統(tǒng)的復雜性，ASML 認為在可預見的未來，其EUV技術領域不會面臨來自中國光刻設備公司上海微電子（SMEE）或華為的競爭。

根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，ASML先進的標準型EUV光刻機就擁有超過10萬個零件，涉及到上游5000多家供貨商。它是所有半導體制造設備中技術含量最高的設備，目前全世界沒有一家企業(yè)、甚至可以說沒有一個國家可以獨立完成EUV光刻機的完整制造。

目前ASML仍然是全球唯一的EUV光刻機供貨商，High NA EUV光刻機的發(fā)展已經(jīng)接近當前技術的極限，下一代的0.75 NA的Hyper NA EUV光刻機理論上是可以實現(xiàn)，但是會面臨更多更復雜的技術問題，同時成本也更為驚人。

報導分析說，在ASML現(xiàn)有光刻機技術路線即將走向盡頭的背景之下，對于中國廠商來說在現(xiàn)有技術路線對于ASML之間的差距可能將不會繼續(xù)加速擴大，這有利于大陸廠商的技術追趕。

但是，在EUV技術路線發(fā)展受歐美限制，且該技術路線前景灰暗的情況下，中國大陸廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進行技術跟隨，還是考慮投入資源另辟蹊徑尋找新的技術路徑？將會面臨困難的抉擇。比如佳能去年就推出了面向先進制程的奈米壓印設備，但該技術路線能否成功還有待市場檢驗。