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ST和Exagan攜手開啟GaN發(fā)展新章節(jié)

作者: 時間:2021-08-22 來源:CTIMES 收藏

氮化鎵()是一種III/V族寬能隙化合物半導(dǎo)體材料,能隙為3.4eV,電子遷移率為1,700 cm2/Vs,而硅的能隙和電子遷移率則分別為1.1 eV和1,400cm2/Vs。因此,的固有特性,讓組件具有更高的擊穿電壓和更低的通態(tài)電阻,亦即相較于同尺寸的硅基組件,可處理更大的負(fù)載、效能更高,而且物料清單成本更低。
在過去的十多年里,產(chǎn)業(yè)專家和分析人士一直在預(yù)測,GaN功率開關(guān)組件的黃金時期即將到來。相較于應(yīng)用廣泛的MOSFET硅功率組件,GaN功率組件具備更高的效率和更強的功耗處理能力,這些優(yōu)勢正是當(dāng)下高功耗、高密度系統(tǒng)、巨量數(shù)據(jù)服務(wù)器和計算機所需要的。

選用困境
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本文引用地址:http://2s4d.com/article/202108/427729.htm

圖一 : GaN功率組件具備高效率和強大功耗處理能力的優(yōu)勢。

一方面隨著GaN組件人氣逐漸提升,而且頻繁地出現(xiàn)在日常用品當(dāng)中,諸如手機充電器等終端產(chǎn)品的用戶都開始探索并了解GaN,開箱、拆解影片在社群軟件中持續(xù)曝光,而許多科技媒體更是不遺余力地介紹GaN產(chǎn)品各項優(yōu)勢。
但另一方面,GaN組件的特性也意味著在使用它時,開發(fā)人員需要有更縝密的設(shè)計,例如閘極驅(qū)動,電壓和電流轉(zhuǎn)換速率,電流等級,噪聲源和耦合規(guī)劃等對于導(dǎo)通和關(guān)斷所帶來的影響。因此,某些工業(yè)產(chǎn)品制造商仍會因擔(dān)心潛在PCB重新設(shè)計或采購問題而避免使用GaN。

把握先機的重要性
在了解到GaN的發(fā)展?jié)摿螅?a class="contentlabel" href="http://2s4d.com/news/listbylabel/label/ST">ST開始強化在此復(fù)合材料上的投入和生態(tài)系統(tǒng)的研發(fā)。
2020年3月,意法半導(dǎo)體()收購了的大部分股權(quán)。是法國的一家擁有獨特的外延層生長技術(shù)的創(chuàng)新型企業(yè),而且是為數(shù)不多之有能力在8吋(200 mm)晶圓上大規(guī)模部署并制造GaN芯片的廠商。

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圖二 : 并購是其長期投資功率化合物半導(dǎo)體技術(shù)計劃的一部分。

ST并購Exagan是其長期投資功率化合物半導(dǎo)體技術(shù)計劃的一部分。此次收購提升了ST在車用、工業(yè)和消費性高頻大功率GaN的技術(shù)累積,其有助于開發(fā)計劃和業(yè)務(wù)擴大,透過與Exagan簽署的協(xié)議,ST將成為一家提供耗盡模式 / depletion-mode(D模式)和加強模式 / enhancement-mode(E模式)兩種GaN組件產(chǎn)品組合的公司。
D模式高電子遷移率晶體管(HEMT)采用「常開」芯片結(jié)構(gòu),具有一條自然導(dǎo)電通道,無需在閘極上施加電壓。D模式則是GaN基組件的自然存在形式,一般是透過共源共閘結(jié)構(gòu)來整合低壓硅MOSFET。另一方面,「常開」或E模式組件具有一條P-GaN溝道,需要在閘極施加電壓才能導(dǎo)通。這兩種模式都越來越頻繁地出現(xiàn)在消費性、工業(yè)、電信和汽車應(yīng)用中。
同年9月,ST推出首款MASTERGAN1,該系列產(chǎn)品采用半橋拓?fù)湔弦粋€閘極驅(qū)動器和兩個加強式GaN晶體管,并且是目前市場上首見整合兩個加強式GaN晶體管的系統(tǒng)級封裝,為設(shè)計高成本效益的筆記本電腦、手機等產(chǎn)品電源提供新的選擇。

加速GaN的大規(guī)模應(yīng)用
更大的晶圓,更高的規(guī)模經(jīng)濟效益
一項新技術(shù)只有在確保生產(chǎn)效率的條件才能得到大規(guī)模應(yīng)用。在本世紀(jì)初,當(dāng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)還在努力解決GaN晶體中因大量缺陷而導(dǎo)致組件無法應(yīng)用的問題,在某種程度上取得一些成就并改善了情況。
然而,只有制程不斷優(yōu)化,工程師才能使用GaN功率組件來設(shè)計產(chǎn)品。Exagan的研發(fā)解決了這一問題 —在提升產(chǎn)品良率的同時,使用8吋晶圓加工芯片。
Exagan負(fù)責(zé)協(xié)調(diào)PowerGaN系統(tǒng)和應(yīng)用生態(tài)系統(tǒng)的產(chǎn)品應(yīng)用總監(jiān)Eric Moreau表示,當(dāng)開始創(chuàng)辦Exagan時,就已經(jīng)掌握了生長外延層的專業(yè)知識。但是Exagan的目標(biāo)是想超越產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。當(dāng)時,大家都在使用6吋(150mm)晶圓。如果能夠克服8吋晶圓的挑戰(zhàn),Exagan將能提供大規(guī)模市場滲透所需的產(chǎn)品良率和規(guī)模經(jīng)濟效益。

如何利用現(xiàn)有的CMOS晶圓廠
無論采用哪一種技術(shù),工程師第一個考慮的是取得廠商的供貨保證,特別當(dāng)設(shè)計產(chǎn)量很大的產(chǎn)品。在獲得Exagan的技術(shù)、外延制程技術(shù)和專業(yè)知識后,ST現(xiàn)在正在將這項技術(shù)整合至現(xiàn)有晶圓廠,而無需投入巨資采購專門的制造設(shè)備。工廠可以獲得更高的產(chǎn)品良率,更快速地提升產(chǎn)能—這意味著成本效益更高的解決方案和可靠性更高的供應(yīng)鏈指日可待。

技術(shù)融合升級對于產(chǎn)業(yè)的意義
厚積薄發(fā)
工程師想要說服管理者采用GaN,就必須證明GaN的價值主張。理論參數(shù)固然重要,但決策者更看重現(xiàn)實價值。有效展示電路性能是設(shè)計團隊解決這一挑戰(zhàn)的方法之一。事實上,GaN組件可以大幅降低導(dǎo)通和開關(guān)損耗,進而降低冷卻系統(tǒng)的物料列表成本。
此外,更佳的開關(guān)性能就能使用更小、更輕的無源組件,即電容和電感。更高的功率密度則能讓工程師研發(fā)出更功率配置更緊密的系統(tǒng)(尺寸可縮小到四分之一)。因此,即使硅組件(MOSFET或IGBT)成本較高,GaN組件所能帶來的利益仍然讓其在競爭中處于優(yōu)勢。
透過收購Exagan,ST將擁有強大的GaN IP組合,能夠同時提供E型和D型兩種GaN產(chǎn)品,規(guī)劃明確之未來十年產(chǎn)品開發(fā)藍(lán)圖。ST GaN業(yè)務(wù)部門經(jīng)理Roberto Crisafulli表示,「透過引進Exagan獨有的專業(yè)知識技術(shù),ST將進一步鞏固其在GaN技術(shù)領(lǐng)域的地位。此舉將有助于強化ST在新型復(fù)合材料功率半導(dǎo)體領(lǐng)域之世界領(lǐng)先地位?!?br/>
開路先鋒
四十年前,隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)開始用硅制造晶體管,硅被廣泛用于電子產(chǎn)品。正是有了這樣一個基礎(chǔ),硅組件的創(chuàng)新至今方興未艾。
如果制造商還看不到一項技術(shù)某些積極的成果,他們就不能找到合適的理由推動此項技術(shù)。透過整合和Exagan的技術(shù)后,ST有信心為未來的GaN投資和創(chuàng)新奠定穩(wěn)固的基礎(chǔ)。簡而言之,今日的GaN就是40年前的硅,目前雖然還只是鋒芒初綻,但其發(fā)展?jié)摿Σ豢尚∮U。



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