日本昭和電工擬建設上海第二工廠 增產(chǎn)半導體材料

據(jù)悉，日本昭和電工日前宣布，計劃建設上海第二工廠，增產(chǎn)半導體材料。

昭和電工株式會社（簡稱昭和電工）表示，為了強化電子材料用高純度氣體事業(yè)，決定在上海的生產(chǎn)基地-上海昭和電子化學材料有限公司（以下簡稱“SSE”）的旁邊取得第二工廠建設用地，建設高純度一氧化二氮和高純度八氟環(huán)丁烷的生產(chǎn)設施，以及高壓氣體危險品倉庫。第二工廠擬于2021年下半年投產(chǎn)。

上海第二工廠計劃面積約10,000平方米，計劃高純度一氧化二氮年生產(chǎn)能力1,000噸，計劃高純度八氟環(huán)丁烷年生產(chǎn)能力600噸。 

高純度一氧化二氮主要是半導體及顯示屏制造時的氧化膜的氧來源的特種氣體，高純度八氟環(huán)丁烷主要是這種氧化膜的微細加工（蝕刻）時的特種氣體。

昭和電工表示，由于5G等信息通信領域的發(fā)展，預計今后中國大陸的半導體及顯示屏市場（有機EL電視機等）將會擴大。

另外，昭和電工還表示，由于預計中國臺灣地區(qū)的半導體市場同樣也會擴大，本公司的現(xiàn)地生產(chǎn)子公司“臺灣昭和化學品生產(chǎn)股份有限公司”也將新建年產(chǎn)150噸高純度八氟環(huán)丁烷的生產(chǎn)設施（計劃2020年春投產(chǎn)）。本次在上海和臺灣的投資總額約為30億日元（約合人民幣1.9億元）。

目前，昭和電工在川崎事業(yè)所和韓國基地生產(chǎn)高純度一氧化二氮，并在川崎事業(yè)所和上?；兀⊿SE第一工廠）生產(chǎn)高純度八氟環(huán)丁烷。