MRAM技術(shù)新突破!臺灣清大團(tuán)隊發(fā)表新磁性翻轉(zhuǎn)技術(shù)
全球各半導(dǎo)體大廠如三星、東芝、英特爾等摩拳擦掌競相投入磁阻式隨機(jī)存取存儲器(MRAM),準(zhǔn)備在后摩爾定律世代一較高下。臺灣清華大學(xué)研究團(tuán)隊最新發(fā)表以自旋流操控鐵磁-反鐵磁納米膜層的磁性翻轉(zhuǎn),研究成果已于今年2月19日刊登于材料領(lǐng)域頂尖期刊《自然材料》(NatureMaterials)。
本文引用地址:http://2s4d.com/article/201903/398858.htmMRAM為非揮發(fā)性存儲器技術(shù),斷電時利用納米磁鐵所存儲的數(shù)據(jù)不會流失,是“不失憶”的存儲器。其結(jié)構(gòu)如三明治,上層是自由翻轉(zhuǎn)的鐵磁層,可快速處理數(shù)據(jù),底層則是釘鎖住的鐵磁層,可用作存儲數(shù)據(jù),兩層中則有氧化層隔開。
其運作原理當(dāng)此二鐵磁層磁化方向相同,是低電阻態(tài),代表“1”;二鐵磁層磁化方向相反,為高電阻態(tài),代表“0”。有別于目前主流存儲器SRAM與DRAM,MRAM兼具處理與存儲信息功能,斷電時信息不會流失,電源開啟可實時運作,耗能低、讀寫速度快,成為產(chǎn)業(yè)界看好的明日之星。
不過,當(dāng)中技術(shù)關(guān)鍵就是如何操控釘鎖住的鐵磁層。簡單來說,若要將鐵磁層磁矩方向釘鎖住,只需“黏”上一層反鐵磁層即可,制成的鐵磁-反鐵磁膜層即可應(yīng)用在磁存儲器上。
此現(xiàn)象稱為“交換偏壓”,雖發(fā)現(xiàn)至今已超過60年,其應(yīng)用性極廣,但背后的物理機(jī)制未明。且交換偏壓操控性極為有限,必須將元件升溫,再于外加磁場下降溫,才能改變鐵磁層磁矩的釘鎖方向。
因而世界各研究團(tuán)隊莫不希望突破此困境,尋求突破性的操控技術(shù)。其中一個突破點,就是善用自旋流。臺灣清大研究團(tuán)隊解釋,電子具有電荷,也具有自旋:當(dāng)電荷流動時,即會產(chǎn)生熟悉的電流,若有辦法驅(qū)動自旋流動,即可產(chǎn)生自旋流。
據(jù)了解,臺灣清大研究團(tuán)隊利用自旋流通過鐵磁-反鐵磁膜層,率先展示操控元件“交換偏壓”方向與大小,創(chuàng)下該領(lǐng)域技術(shù)新里程碑。且該技術(shù)可與現(xiàn)有電子元件操控與制程無縫接軌,是MRAM大突破,為自旋電子學(xué)帶來嶄新視野。
然而,發(fā)展過程也非全然順?biāo)?,全球首見的利用自旋流操控交換偏置曾引起審稿委員質(zhì)疑是元件溫度升高所致,與自旋流無關(guān)。不過,通過研發(fā)團(tuán)隊發(fā)新測量技術(shù),排除熱效應(yīng),成功消弭外界專家質(zhì)疑。
目前研究團(tuán)隊已將相關(guān)技術(shù)應(yīng)用到其它結(jié)構(gòu)的納米膜層,而這項突破除學(xué)術(shù)貢獻(xiàn)外,通過相關(guān)計劃,對于存儲器產(chǎn)業(yè)也有決定性影響力。這項技術(shù)在學(xué)理上的存取速度接近SRAM,具閃存非揮發(fā)性特性,平均能耗遠(yuǎn)低于DRAM,具應(yīng)用于嵌入式存儲器潛力,隨著AI、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備與更多的數(shù)據(jù)收集與傳感需求,MRAM市場預(yù)期將迅速成長。
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