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【E課堂】絕緣柵型場效應管之圖解

作者: 時間:2017-01-06 來源:網(wǎng)絡 收藏

  增強型:VGS=0時,漏源之間沒有導電溝道,在VDS作用下無iD。耗盡型:VGS=0時,漏源之間有導電溝道,在VDS作用下iD。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/201701/342556.htm

  1. 結構和符號(以N溝道增強型為例)

  在一塊濃度較低的P型硅上擴散兩個濃度較高的N型區(qū)作為漏極和源極,半導體表面覆蓋二氧化硅絕緣層并引出一個電極作為柵極。

    

 

  其他MOS管符號

    

 

  2. 工作原理(以N溝道增強型為例)

    

 

  (1) VGS=0時,不管VDS極性如何,其中總有一個PN結反偏,所以不存在導電溝道。

  VGS =0, ID =0

  VGS必須大于0

  管子才能工作。

    

 

  (2) VGS>0時,在Sio2介質中產(chǎn)生一個垂直于半導體表面的電場,排斥P區(qū)多子空穴而吸引少子電子。當VGS達到一定值時P區(qū)表面將形成反型層把兩側的N區(qū)溝通,形成導電溝道。

  VGS >0→g吸引電子→反型層→導電溝道

  VGS↑→反型層變厚→ VDS ↑→ID↑

    

 

  (3) VGS≥VT時而VDS較小時:

  VDS↑→ID ↑

  VT:開啟電壓,在VDS作

  用下開始導電時的VGS°

  VT = VGS —VDS

    

 

  (4) VGS>0且VDS增大到一定值后,靠近漏極的溝道被夾斷,形成夾斷區(qū)。

  VDS↑→ID 不變

  3. 特性曲線(以N溝道增強型為例)

    

 

  的轉移特性曲線動畫

    

 

  4.其它類型MOS管

  (1)N溝道耗盡型:制造時在柵極絕緣層中摻有大量的正離子,所以即使在VGS=0時,由于正離子的作用,兩個N區(qū)之間存在導電溝道(類似結型)。

    

 

  (2)P溝道增強型:VGS = 0時,ID = 0開啟電壓小于零,所以只有當VGS < 0時管子才能工作。

    

 

  (3)P溝道耗盡型:制造時在柵極絕緣層中摻有大量的負離子,所以即使在VGS=0 時,由于負離子的作用,兩個P區(qū)之間存在導電溝道(類似結型)。

    

 

  5. 場效應管的主要參數(shù)

  (1) 開啟電壓VT :在VDS為一固定數(shù)值時,能產(chǎn)生ID所需要的最小 |VGS | 值。(增強)

  (2) 夾斷電壓VP :在VDS為一固定數(shù)值時,使 ID對應一微小電流時的 |VGS | 值。(耗盡)

  (3) 飽和漏極電流IDSS :在VGS = 0時,管子發(fā)生預夾斷時的漏極電流。(耗盡)

  (4) 極間電容 :漏源電容CDS約為 0.1~1pF,柵源電容CGS和柵漏極電容CGD約為1~3pF。

  (5) 低頻跨導 gm :表示VGS對iD的控制作用。

    

 

  在轉移特性曲線上,gm 是曲線在某點上的斜率,也可由iD的表達式求導得出,單位為 S 或 mS。

  (6) 最大漏極電流 IDM

  (7) 最大漏極耗散功率 PDM

  (8) 漏源擊穿電壓 V(BR)DS 柵源擊穿電壓 V(BR)GS



關鍵詞: 場效應管

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