華潤上華推出高性價比0.25微米Scalable BCD工藝平臺
華潤微電子有限公司旗下的華潤上華科技有限公司(后簡稱“華潤上華”)宣布已完成0.25微米Scalable BCD工藝平臺開發(fā),其更低成本和更高的可移植性可滿足客戶多樣化的產(chǎn)品設計需求,進一步提高了華潤上華BCD系列工藝平臺的技術優(yōu)勢。
本文引用地址:http://2s4d.com/article/133243.htm華潤上華的0.25微米Scalable BCD工藝平臺為0.5微米前段制程與0.25微米后段制程,由之前0.25微米24V BCD工藝平臺延伸而來,核心器件工作電壓為5V,提供DMOS工作電壓為12V至45V的高壓器件與功率器件,其擊穿電壓由20V延伸到80V。該工藝廣泛應用于DC-DC電源轉換、LED照明驅動及LED背光驅動IC。
該工藝后段采用鋁制程,最多可支持5層鋁連線,具有低Rdson的優(yōu)秀性能表現(xiàn),提供多種優(yōu)化的器件結構,以幫助客戶提升成本效益的設計優(yōu)勢。與華潤上華的0.25微米24V BCD工藝相比,0.25微米Scalable BCD工藝平可以將芯片DMOS工作電壓延伸更高至45V。同時該工藝能提供多段式電壓的選擇,可藉由調(diào)整設計而不額外增加光罩層數(shù),具有低成本、高可移植性的優(yōu)勢,能夠滿足多樣化的產(chǎn)品設計需求。
與此同時,華潤上華0.25微米Scalable BCD工藝平臺可提供經(jīng)驗豐富的ESD 解決方案與ESD設計支持,設計支持部分可提供完整的PDK 與優(yōu)化的設計流程,以滿足客戶芯片設計的需求。
評論