55nm創(chuàng)新工藝震動(dòng)消費(fèi)類終端ASIC設(shè)計(jì)服務(wù)市場(chǎng)

　　兼容65nm IP、功耗大幅降低堪比40nm，富士通半導(dǎo)體ASIC/COT業(yè)務(wù)部明年將推出兩套創(chuàng)新的55nm工藝模型，對(duì)成本、上市時(shí)間和功耗極其敏感的消費(fèi)終端ASIC設(shè)計(jì)意義重大。

　　近日，在西安舉辦的2011中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)集成電路設(shè)計(jì)分會(huì)年會(huì)上，富士通半導(dǎo)體宣布其ASIC/COT業(yè)務(wù)部將在明年陸續(xù)推出兩套創(chuàng)新的55nm標(biāo)準(zhǔn)單元，可幫助中國(guó)便攜消費(fèi)類終端IC設(shè)計(jì)公司以65nm的成本水平實(shí)現(xiàn)功耗大幅降低、性能堪比40nm工藝的設(shè)計(jì)，引起與會(huì)業(yè)內(nèi)人士的高度關(guān)注，震撼全場(chǎng)。

　　據(jù)悉，富士通半導(dǎo)體這兩套新的55nm工藝是基于65nm技術(shù)而開(kāi)發(fā)，可使客戶保護(hù)以往的投資。其中CS250L是基于對(duì)現(xiàn)有65nm后端工藝而優(yōu)化的全新標(biāo)準(zhǔn)單元、SRAM，可使整體功耗降低20%，芯片面積則節(jié)省15%左右。最大的特點(diǎn)是全套65nm IP不需要重新做移植，GDS可以直接可以使用。

　　另一個(gè)全新的55nm工藝制程CS250S是富士通半導(dǎo)體通過(guò)獲得Suvolta公司的授權(quán)后合作開(kāi)發(fā)的。它是一項(xiàng)革命性的創(chuàng)新技術(shù)，通過(guò)全新設(shè)計(jì)的DDCTM晶體管，可以將現(xiàn)有65nm的功耗降低到原來(lái)的一半，而性能不受到任何影響，同時(shí)可很好地改善工藝生產(chǎn)造成的功耗波動(dòng)。

　　這兩項(xiàng)技術(shù)的推出，對(duì)于既要提高性能和增加功能，又要實(shí)現(xiàn)超長(zhǎng)續(xù)航能力的智能手機(jī)、平板電腦等便攜式消費(fèi)類終端應(yīng)用具有非凡的意義，且能實(shí)現(xiàn)快速上市并控制開(kāi)發(fā)成本。

　　圖1：富士通半導(dǎo)體ASIC/COT部門最新的55nm低功耗工藝 CS250L和CS250S即將上市。

　　承前啟后：55nm工藝非常適合中國(guó)市場(chǎng)

　　低功耗的要求促使芯片設(shè)計(jì)者不得不追逐最新的40nm和28nm工藝，但這意味著巨大風(fēng)險(xiǎn)和投入，無(wú)論是工藝還是IP的投入和成熟度都在一定程度上阻礙了許多想法轉(zhuǎn)變成硅片。

　　據(jù)富士通半導(dǎo)體公司ASIC/COT產(chǎn)品線高級(jí)經(jīng)理劉琿介紹，從2010年開(kāi)始已在中國(guó)看到越來(lái)越多的40nm設(shè)計(jì)，其中不乏幾千萬(wàn)門級(jí)的智能終端IC。但正像劉琿指出的，40nm工藝超過(guò)百萬(wàn)美元的一次NRE費(fèi)用讓人著實(shí)“傷不起”，加上IP方面不菲的投資以及整合驗(yàn)證，使得項(xiàng)目風(fēng)險(xiǎn)很大。因此在40nm時(shí)代，與像富士通半導(dǎo)體這樣有實(shí)力的ASIC設(shè)計(jì)公司合作以降低風(fēng)險(xiǎn)和成本是越來(lái)越多IC公司的選擇。富士通半導(dǎo)體公司早在2008年就推出了40nm ASIC模型和工藝技術(shù)，并在繼續(xù)開(kāi)發(fā)28nm ASIC模型。已將40nm以下的設(shè)計(jì)制造委托給臺(tái)積電，兩者在產(chǎn)品質(zhì)量和設(shè)計(jì)技術(shù)方面都已能很好地協(xié)同，形成了戰(zhàn)略合作關(guān)系，成為富士通半導(dǎo)體的一種服務(wù)優(yōu)勢(shì)。

　　然而40nm工藝幾百萬(wàn)美元的巨額投資和高風(fēng)險(xiǎn)還是令不少對(duì)成本非常敏感的消費(fèi)類應(yīng)用IC設(shè)計(jì)公司望而卻步，特別是實(shí)力本就不算強(qiáng)大的中國(guó)IC設(shè)計(jì)公司。但在蘋果iPad 2 A5處理器的“45nm召喚”下，中國(guó)廠商似乎不能停下追隨的步伐，想著如何迅速推出更高速度、更小占位面積、更低功耗的新一代IC，以便搶占市場(chǎng)先機(jī)。

　　如何以更低的投入最大化地利用主流的65nm工藝去設(shè)計(jì)產(chǎn)品是業(yè)界很多公司都在尋求的目標(biāo)。富士通半導(dǎo)體即將推出的創(chuàng)新55nm工藝可以說(shuō)恰逢其時(shí)，也使中國(guó)消費(fèi)電子IC廠商又多了一種選擇，可不用急于往40nm節(jié)點(diǎn)冒進(jìn)，在實(shí)現(xiàn)接近功耗的同時(shí)不僅能保護(hù)現(xiàn)有在65nm上的IP投資，而且NRE的費(fèi)用仍像65nm一樣處于能承受的水平，因此非常適合中國(guó)的國(guó)情。