十年后半導(dǎo)體制程微縮之挑戰(zhàn)在成本而非技術(shù)

　　晶圓代工大廠臺(tái)積電(TSMC)資深研發(fā)副總裁蔣尚義(Shang-Yi Chiang)在日前于美國舉行的ARM技術(shù)論壇(TechCon)上表示，在接下來十年以FinFET技術(shù)持續(xù)進(jìn)行半導(dǎo)體制程微縮的途徑是清晰可見的，可直達(dá) 7納米節(jié)點(diǎn)，但在 7納米節(jié)點(diǎn)以下，半導(dǎo)體制程微縮的最大挑戰(zhàn)來自于經(jīng)濟(jì)，并非技術(shù)。

　　蔣尚義表示，他有信心半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)將在接下來十年找到克服7納米以下節(jié)點(diǎn)技術(shù)障礙的解決方案;但也指出，新技術(shù)雖然能實(shí)現(xiàn)7納米以下節(jié)點(diǎn)制程芯片量產(chǎn)，卻可能得付出高昂代價(jià)：「當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)，我們也看到晶圓制造價(jià)格比前一代制程增加了許多?！?/p>

　　在ARM技術(shù)論壇的另一場專題演說中，EDA供貨商Cadence Design Systems旗下Silicon Realization部門的資深研發(fā)副總裁徐季平(Chi-Ping Hsu)，簡報(bào)了半導(dǎo)體制程從32/28納米節(jié)點(diǎn)過渡到22/20納米節(jié)點(diǎn)的制程技術(shù)研發(fā)成本增加幅度;他舉例指出，如果32/28納米節(jié)點(diǎn)縮需成本是12億美元，來到22/20納米節(jié)點(diǎn)，該成本規(guī)模將增加至21至30億美元。

　　至于芯片設(shè)計(jì)成本，則會(huì)從32納米節(jié)點(diǎn)所需的5,000萬至9,000萬美元，在22納米節(jié)點(diǎn)增加至1.2億至5億美元。徐季平并指出，在32納米節(jié)點(diǎn)，芯片銷售量需要達(dá)到3,000至4,000萬顆，才能打平成本;但到了20納米節(jié)點(diǎn)，該門坎會(huì)提高至6,000萬至1億顆。

　　FinFET是一種 3D晶體管技術(shù)，目前正初步獲得芯片制造商的采用;大廠英特爾(Intel)則是將其3D晶體管技術(shù)稱為「三閘(tri-gate)」，業(yè)界預(yù)計(jì)該公司將在今年底推出采用3D晶體管技術(shù)所生產(chǎn)的22納米芯片樣品。

　　蔣尚義表示，22納米節(jié)點(diǎn)會(huì)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)采用平面晶體管技術(shù)(planar transistor)的最后一個(gè)世代：「在此之后，該技術(shù)就會(huì)功成身退?！?/p>