GlobalFoundries20奈米制程取得重大進(jìn)展
Global Foundries(格羅方德半導(dǎo)體)在20奈米制程上有了重大進(jìn)展。透過(guò)利用EDA大廠包括Cadence Design Systems、Magma Design Automation、Mentor Graphics與Synopsys的流程,Global Foundries已經(jīng)成功制出測(cè)試晶片。Global Foundries并且已經(jīng)準(zhǔn)備就緒,要讓客戶(hù)評(píng)估該公司的20奈米設(shè)計(jì)樣品。
本文引用地址:http://2s4d.com/article/123643.htmGlobal Foundries執(zhí)行長(zhǎng)Ajit Manocha說(shuō),該公司20奈米制程的試制成功,也點(diǎn)燃了最新制程的戰(zhàn)火,未來(lái)晶圓代工廠角力戰(zhàn)將正式邁入20奈米新世紀(jì)。
20奈米制程是至今為止最先進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù)。今年初的時(shí)候,IBM也曾經(jīng)展示過(guò)全世界第一個(gè)20奈米制程晶圓,使用了HKMG和Gate-Last技術(shù)。三星也在七月中宣布完成了全球第一顆20奈米制程的測(cè)試晶片。
這四家EDA廠商都展示了他們的配置與布線(xiàn)工具及技術(shù)檔案都能夠支援20奈米制程相關(guān)的進(jìn)階規(guī)則。這些流程包括了雙重曝影技術(shù)的元件庫(kù)預(yù)備步驟,而這是一種復(fù)雜的平板印刷制程,對(duì)于20奈米以及更先進(jìn)制程的設(shè)計(jì)業(yè)者形成了新的挑戰(zhàn)。
這種20奈米測(cè)試晶片需要雙重曝影、且經(jīng)由各個(gè)EDA伙伴貢獻(xiàn)出一個(gè)大型的配置與布線(xiàn)設(shè)計(jì)。每項(xiàng)設(shè)計(jì)在制程晶片之前,都經(jīng)過(guò)Global Foundries徹底的效力驗(yàn)證,并以20奈米認(rèn)可驗(yàn)證臺(tái)進(jìn)行檢查。因同EDA廠商進(jìn)行早期且廣泛的20奈米合作,所有的設(shè)計(jì)都迅速結(jié)束,且已經(jīng)成功進(jìn)入晶片制作階段。
Global Foundries測(cè)試晶片和所有元件庫(kù)都將納入完整的流程腳本,可提供給所有希望評(píng)估20奈米制程技術(shù)的客戶(hù)。此外,Global Foundries也針對(duì)先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn),包括3DIC在內(nèi),與封測(cè)廠Amkor達(dá)成了更廣泛的合作關(guān)系。
評(píng)論