日本電子信息領域技術戰(zhàn)略地圖（一）半導體技術子領域

　　自1980年建立以來，日本新能源產(chǎn)業(yè)技術綜合開發(fā)機構(NEDO)在日本技術發(fā)展領域發(fā)揮著獨特的作用。作為日本最大的公共研發(fā)管理組織，它是聯(lián)系官、產(chǎn)、學、研的重要樞紐(如下圖)。它的主要活動包括推進先進技術的研發(fā)、新能源和節(jié)能技術的推廣和國際合作項目。

　　NEDO每年都要在各先進技術領域中征集新技術課題，予以研究支持。在征集技術課題的計劃中，NEDO會明確立題的目的和重要性、新課題的范圍或研發(fā)方向、相關的技術戰(zhàn)略圖、以及已有的相關項目，從中我們可以看到日本在先進技術領域的研發(fā)重點和動向。以下將簡介2009年度NEDO在電子信息領域的技術課題征集計劃中的技術戰(zhàn)略圖，涉及半導體、網(wǎng)絡、存儲記憶體、軟件等領域。

　　一、日本半導體技術戰(zhàn)略地圖制定背景

　　日本制定半導體技術戰(zhàn)略的原因主要有三個方面：

　　一是日本將半導體技術定位為泛在社會的基礎，是產(chǎn)業(yè)內非常重要的核心產(chǎn)品，可以提高信息家電、汽車、產(chǎn)業(yè)設備、醫(yī)療設備等各種產(chǎn)品的附加價值。

　　二是半導體技術的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化是一個系統(tǒng)化工程，經(jīng)費巨大，需要各方面的合作，包括政府主導與企業(yè)的合作、企業(yè)間的產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟等。

　　三是日本需要提高半導體產(chǎn)業(yè)內的發(fā)展競爭力，并在全球激烈的市場競爭中取得勝利。

　　日本的半導體技術戰(zhàn)略圖是在國際半導體發(fā)展路線圖(ITRS)的基礎上，結合該國產(chǎn)業(yè)發(fā)展需要，抽取了日本所需的的重要半導體技術，以低耗電技術為中心，同時考慮了納米、新材料以及硅以外的半導體技術的深度應用，以及制造工程的因素，進行細化。

　　日本認為半導體技術未來的發(fā)展趨勢是微型化、高性能化、低耗電、新材料新技術的應用(Beyond CMOS)。因此第二代以或者更后面幾代的半導體技術的研發(fā)值得關注。

　　日本已有的半導體技術相關項目有：1、“第二代半導體材料、過程基礎技術的開發(fā)(MIRAI)項目”(2001~2010年)。其中開發(fā)的成果-Selete技術轉移給有限公司，取得了顯著的效果。2、考慮制造時過程的變化而進行設計的“第二代過程友好設計技術開發(fā)”(2006~2010年)，以及在半導體中引入了新思想的“半導體應用芯片項目”(2005~2009年)都正在實施當中。

　　這次半導體戰(zhàn)略有以下幾方面的思考：1、將半導體技術按照業(yè)務類型進行分類。2、對半導體的安全性、可靠性、省電性等進行重要技術的分類整理。因此按照技術動向的發(fā)展，對LSTP設備技術、裝配技術、制造技術、配線技術的內容進行修改。?

　　二、日本半導體技術戰(zhàn)略地圖研究領域

　　在日本半導體技術戰(zhàn)略地圖上，將研究領域分為兩大塊，一是系統(tǒng)LSI(SoC)領域，性能目標是高速、多功能、低耗電，制造目標是低成本、QTAT(快速周期)、生產(chǎn)種類繁多。二是非CMOS領域，性能目標是：性能超越硅，超高速、大功率密度、低耗電、具有新功能等。

　　每個領域設置若干項目，層次依次為大項目、中項目、中項目細分或小項目。系統(tǒng)LSI(SoC)領域共有10項大項目，非CMOS領域有2項。以下各表列出的是重點項目，其中斜體字的是小項目。

　　(一)、系統(tǒng)LSI(SoC)

　　1、(大項目)LSTP(低待機功率)設置技術