張忠謀：臺積電將向14nm以下工藝挺進

　　臺積電CEO兼董事長張忠謀近日在加州圣何塞的一次技術會議上表示，臺積電將會和整個半導體產(chǎn)業(yè)一起，向14nm以下的制造工藝進軍。

　　張忠謀認為，2011-2014年間的全球半導體市場的發(fā)展速度不會很快，原因有很多，其中之一就是受摩爾定律制約，技術發(fā)展的速度會趨于緩慢。

　　張忠謀表示，2xnm時代眼下很快就要到來，1xnm時代也會在可預見的未來內成為現(xiàn)實，而臺積電或許無法在他的任期內走向1xnm，但肯定會竭盡全力將半導體制造技術帶向新的水平。

　　臺積電2010年間的資本支出預算高達48億美元，全公司員工總數(shù)也會從2萬人增至2.9萬人，這都是為了應對難度越來越高的半導體工藝而做成的努力。

　　張忠謀還指出，臺積電對全球芯片市場2010-2011年間的估計不會有很大變化：連續(xù)下滑兩年后今年有望增長22%，不過明年只有7%。

　　臺積電目前還在完善40nm，下一站將是28nm，再往后是跳過22nm而走向20nm。