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nxe:3800e euv 文章 最新資訊

臺積電:5nm EUV工藝已在量產、明年推出增強版

  • 24日,臺積電舉辦了第26屆技術研討會,并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺積電的說法,5nm工藝規(guī)劃了兩代,分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV(極紫外光刻)技術,并且已經在大規(guī)模量產之中。相較于N7,N5的功耗降低了30%、性能提升了15%,邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版,仍在開發(fā)中,規(guī)劃2021年量產,相較于第一代5nm,功耗進一步降低10%、性能提升5%,據稱面向高性能計算平臺做了優(yōu)化。據手頭資料,臺積電的5nm有望應用在蘋果A14芯片(包括Apple Silicon PC處
  • 關鍵字: 臺積電  5nm  EUV  

臺積電采購30臺EUV光刻機沖刺7/5nm,ASML就近設立培訓中心

  • 臺積電在高端制程技術上沖鋒陷陣,已經成為光刻機龍頭 ASML 在 EUV 機臺上的最大采購客戶,累計已經購買了 30 臺 EUV 設備。日前,ASML 繼在韓國成立 EUV 技術培訓中心后,也在臺積電先進制程的重鎮(zhèn)臺灣臺南,成立 EUV 技術培訓中心。一臺EUV系統需要50個工程師操作一臺造價逾一億歐元的精密 EUV 系統,重量高達 180&nbs
  • 關鍵字: EUV  臺積電  ASML  

Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻:捍衛(wèi)摩爾定律

  • 日前,中國國際半導體技術大會(CSTIC)在上海開幕,為期19天,本次會議重點是探討先進制造和封裝。其中,光刻機一哥ASML(阿斯麥)的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進工藝的設備,EUV技術已經被廣泛認為是突破摩爾定律瓶頸的關鍵因素之一。Yen援引統計數據顯示,截至2019年第四季度,ASML當年共售出53臺EUV NXE:3400系列EUV光刻機,使用EUV機器制造的芯片產量已經達到1000萬片。他說,EUV已經成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
  • 關鍵字: Intel  臺積電  ASML  EUV  光刻  摩爾定律  

華為、蘋果7/5nm需求大 臺積電狂加EUV訂單

  • 2020年因為全球經濟的問題,本來電子行業(yè)會下滑,但是晶圓代工場合不降反升,臺積電Q1季度營收大漲了30%,牢牢坐穩(wěn)了全球晶圓代工一哥的位置。由于華為、蘋果等公司的7nm及5nm工藝需求大,臺積電目前正在瘋狂增加EUV產能。臺積電2018年量產了7nm工藝,不過第一代7nm沒有EUV工藝加持,2019年的7nm EUV工藝才由華為的麒麟990 5G處理器首發(fā),而今年的5nm工藝則會全面上馬EUV工藝。根據臺積電之前公布的數據,7nm及7nm EUV工藝目前每月的產能達到了11萬片晶圓/月,而5nm工藝的月
  • 關鍵字: 華為  蘋果  5nm  臺積電  EUV  

三星新建5nm晶圓廠:先進EUV技術 2021年投產

  • 隨著時間邁入2020年中,以臺積電和三星為代表的芯片半導體也從7nm逐步向5nm進發(fā),實際上麒麟1020和蘋果A14芯片就是基于臺積電5nm工藝,表現相較7nm將會更上一層樓。很明顯在7nm時代,三星是落后于臺積電的,不過這家巨頭似乎想在5nm時代彎道超車,近日據媒體報道,三星宣布將于漢城南部的平澤市建造全新的5nm晶圓廠。該工廠是三星在韓國國內的第六條晶圓代工產線,將應用先進的極紫外光微影(ExtremeUltravioletlithography,EUV)制程技術,拿7nmEUV工藝對比,三星5nmE
  • 關鍵字: 三星  5nm  EUV  

EUV光刻機斷貨 臺積電5nm工藝搶三星頭彩:A14/麒麟1020首發(fā)

  • 臺積電上周發(fā)布了3月及Q1季度財報,營收同比大漲了42%,淡季不淡。不過接下來的日子半導體行業(yè)可能不太好過了,ASML的EUV光刻機已經斷貨,要延期交付,好在臺積電今年已經在5nm工藝上搶先三星了。根據ASML之前的報告,3月底他們下調了1季度營收預期到24-25億美元,差不多減少了1/4左右的營收,毛利率也下滑到了45-46%之間。此外,ASML的EUV光刻機也因為種種原因斷貨了,雖然訂單沒有取消,但是交付要延期了,三星、臺積電今年都不太容易快速擴張EUV產能。不過臺積電在這次危機中更有優(yōu)勢地位,他們包
  • 關鍵字: EUV  臺積電5nm  

三星首次將EUV技術應用于DRAM生產

  • 據ZDnet報道,三星宣布,已成功將EUV技術應用于DRAM的生產中。
  • 關鍵字: 三星  EUV  DRAM  

三星率先為DRAM芯片導入EUV:明年將用于DDR5/LPDDR5大規(guī)模量產

  • 當前在芯片制造中最先進的EUV(極紫外光刻)工藝被三星率先用到了DRAM內存顆粒的生產中。這家韓國巨頭今日宣布,已經出貨100萬第一代10nm EUV級(D1x)DDR4 DRAM模組,并完成全球客戶評估,這為今后高端PC、手機、企業(yè)級服務器等應用領域開啟新大門。得益于EUV技術,可以在精度更高的光刻中減少多次圖案化的重復步驟,并進一步提升產能。三星表示,將從第四代10nm級(D1a)DRAM或高端級14nm級DRAM開始全面導入EUV,明年基于D1a大規(guī)模量產DDR5和LPDDR5內存芯片,預計會使12
  • 關鍵字: 三星  DRAM  EUV  

引入EUV技術的6nm,才是真正的6nm

  • 只有引入EUV技術的6nm才是真正的6nm,而這項技術也將伴隨未來可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
  • 關鍵字: EUV  6nm  光刻機  

泛林集團發(fā)布應用于EUV光刻的技術突破

  • 近日,泛林集團發(fā)布了一項用于EUV光刻圖形化的干膜光刻膠技術。泛林集團研發(fā)的這項全新的干膜光刻膠技術,結合了泛林集團在沉積、刻蝕工藝上的領導地位及其與阿斯麥?(ASML) 和比利時微電子研究中心?(imec)?戰(zhàn)略合作的成果,它將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產率和良率。泛林集團的干膜光刻膠解決方案提供了顯著的EUV光敏性和分辨率優(yōu)勢,從而優(yōu)化了單次EUV光刻晶圓的總成本。由于領先的芯片制造商已開始將EUV光刻系統應用于大規(guī)模量產,進一步提升生產率和分辨率將幫助他們以更合理
  • 關鍵字: EUV  光刻  

泛林集團在提高EUV光刻分辨率、生產率和良率取得技術突破

  • 泛林集團與阿斯麥 (ASML) 和比利時微電子研究中心 (imec) 共同研發(fā)的全新干膜光刻膠技術將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產率和良率。
  • 關鍵字: 泛林  EUV  干膜光刻膠技術  

2021年ASML將推下一代EUV光刻機 面向2nm、1nm工藝

  • 作為全球唯一能生產EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機,主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產的5nm工藝,預計今年出貨35臺EUV光刻機。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時,支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產能也從之前的125WPH(每小時處理晶圓數)提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
  • 關鍵字: ASML  EUV  

麒麟820處理器要來,6納米+EUV工藝,手有技術氣自華!

  • hello,大家好,歡迎來到阿洛伊科技華為將于2月24日21:00舉行在線新品發(fā)布會。在疫情爆發(fā)期間,手機制造商選擇在網上舉行發(fā)布會。據悉,此次發(fā)布會的主題是“共同未來”。從海報上看,本次大會將涵蓋多個類別,包括折疊手機、筆記本電腦、平板電腦、智能手表、智能家居等,不過,據媒體透露,本次大會將會有一個驚喜,即將發(fā)布最新的旗艦SOC麒麟820處理器。與上一代麒麟810相比,該處理器有哪些升級?讓我們看看。麒麟820處理器將采用cortex A76架構。不采用最新的cortex a77架構的主要原因是,ARM
  • 關鍵字: 麒麟820  6納米  EUV  

臺積電遇強大對手!6nm、7nm EUV開啟全面量產,中國仍需努力!

  • 告別了諾基亞、HTC、黑莓等手機,目前的智能手機陣營也就是安卓和蘋果,而智能手機儼然就是人們的第二個精神生命,手機不離手已經成為了一種現象,但是對于智能手機來說,除了軟件以外,最重要最核心的就是手機芯片了!但是在全世界來說,能夠生產高端芯片的廠商少之又少,主要還是因為納米級制程工藝的技術壁壘,誰能夠率先突破制程工藝,誰都將會在半導體芯片上拔得頭籌,對于中國來說,這一塊仍然非常的滯后,當然了如果說臺積電也是中國的話,那么中國其實還是領先的!但是畢竟臺積電一直以來是中國臺灣企業(yè),但其實其也一直受限于美國的政策
  • 關鍵字: 臺積電  EUV  

面向3nm及以下工藝,ASML新一代EUV光刻機曝光

  • 很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產,與此同時,臺積電和三星的3nm工藝也在持續(xù)的研發(fā)當中。而對于5nm及以下工藝來說,都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實現。而目前全球只有一家廠商能夠供應EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。很快,臺積電和三星的5nm工藝即將量產,與此同時,臺積電和三星的3nm工藝也在持續(xù)的研發(fā)當中。而對于5nm及以下工藝來說,都必須依靠EUV(極紫外)光刻機才能實現。而目前全球只有一家廠商能夠供應EUV光刻機,那就是荷蘭的ASML。目前ASML出貨的EUV光刻機主要是NXE:340
  • 關鍵字: 3nm  EUV  
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