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EUV 光刻機 俄羅斯 疊加芯片
通用汽車(GM)已經恢復了2022款雪佛蘭Bolt EV和EUV的生產，現(xiàn)在它們可以獲得新電池組的供應，而這些電池組應該不會有火災隱患。此前，雪佛蘭Bolt因潛在的電池火災而被召回，該次召回影響到了所有的車型，導致Bolt EV和EUV汽車的生產自去年8月起完全凍結?！拔覀兊哪繕耸腔謴筒⑻孤实卣f超過業(yè)務指標，”雪佛蘭營銷副總裁Steve Majoros在昨日的新聞電話會議上說道。Bolt的復出計劃包括趕上新的2022款Bolt EV和EUV訂單（2023年的訂單將于7月開始）、將在MLB開幕日投放的新電視
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EUV 雪佛蘭
（原標題：光刻機巨頭阿斯麥CEO：不賣EUV給中國大陸“是政府們的選擇”）【文/觀察者網 呂棟】“這不是我們的選擇，而是政府們（《瓦森納協(xié)定》成員國）的選擇?！比涨埃商m光刻機巨頭阿斯麥CEO溫彼得再次就向中國大陸出口EUV光刻機一事解釋道。他今年1月曾表示，中國不太可能獨立復制出（replicate）頂尖的光刻技術，但也別那么絕對，“他們肯定會嘗試”。觀察者網注意到，由于最先進的EUV設備無法向中國大陸出口，溫彼得自2021年以來曾多次發(fā)聲。2021年4月，他曾喊話美國政府，對華出口管制不僅不能阻礙中國
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阿斯麥CEO EUV 光刻機
前不久的Intel投資者會議上，英特爾發(fā)布了先進工藝的路線圖，從去年的Intel 7工藝開始一路推進到Intel 18A工藝，酷睿處理器從12代一直持續(xù)到16代酷睿，甚至17代酷睿都在準備中了，2025年上市。? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?不僅工藝規(guī)劃的很好，而且這一次Intel更有信心，因為多代工藝實際上提前量產了，具體如下：Intel
4工藝是Intel第一個
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EUV Intel 先進工藝
芯片行業(yè)一直是困擾全球的“卡脖子”領域，而其中核心的光刻機技術被幾家公司牢牢的攥在手里。想要在芯片領域有長足的進步，光刻機這種核心設備就要有所突破。而之前美國通過自身在全球市場的控制能力，通過修改法案等手段一直將光刻機設備和技術限制對中國進行輸出。但近期光刻機頭部企業(yè)ASML則明確表態(tài)將會盡其所能向中國市場提供一切他們能夠提供的技術，其中DUV光刻機將會不需要認可許可即可向中方企業(yè)提供。ASML光刻機除此之外，ASML表示在當前法律框架之下，他們除了EUV光刻機無法向中方企業(yè)提供，其他產品都可以正常發(fā)售。
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ASML EUV 光刻機
據(jù)《連線》雜志報道，在美國康涅狄格州郊區(qū)的一間潔凈室中，ASML的工程師們正在為一臺單臺造價1.5億美元的新機器制造關鍵部件，該部件是新一代EUV系統(tǒng)的組成部分，會采用一些新技術來最大限度地減少其使用的光波長，包括縮小芯片的特征尺寸并提升性能。ASML的工程師正在裝配系統(tǒng)組件（圖片來自ASML）
要知道，當前的EUV機器已經像一輛公共汽車那么大，包含10萬個零部件和兩公里長的電纜，運輸這些組件需要40個貨運集裝箱、三架貨機和20輛卡車，能夠買得起這種設備的公
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ASML EUV 光刻機
9月2日消息，荷蘭阿斯麥的新一代極紫外（EUV）光刻機每臺有公共汽車大小，造價1.5億美元。其前所未有的精度可以讓芯片上的元件尺寸在未來幾年繼續(xù)縮小?！ ≡谖挥诿绹的腋裰萁紖^(qū)的一間大型潔凈室里，工程師們已經開始為一臺機器制造關鍵部件，這臺機器有望讓芯片制造行業(yè)沿著摩爾定律至少再走上10年時間?！ ∵@臺極紫外光刻機是由荷蘭阿斯麥公司制造的。阿斯麥于2017年推出世界上第一臺量產的極紫外光刻機，在芯片制造領域發(fā)揮著至關重要的作用，已經被用于制造iPhone手機芯片以及人工智能處理器等最先進的芯片。阿斯
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阿斯麥 EUV 光刻機
三星、SK海力士及美光確定未來會用EUV工藝，其中美光的EUV工藝內存在2024年量產。芯研所8月21日消息，CPU、GPU為代表的邏輯工藝制程進入7nm之后，EUV光刻工藝不可或缺。目前內存停留在10nm工藝級別。三星、SK海力士及美光也確定未來會用EUV工藝，其中美光的EUV工藝內存在2024年量產。美光CEO Sanjay Mehrotra日前在采訪中確認，美光已將EUV技術納入DRAM技術藍圖，將由10nm世代中的1γ（gamma）工藝節(jié)點開始導入。美光EUV工藝DRAM將會先在臺中A3廠生產，預
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美光 EUV DRAM
SK海力士公司在7月12日表示，本月已經開始生產10納米8Gb LPDDR4移動DRAM —— 他們將在該內存芯片生產中應用極紫外（EUV）工藝，這是SK海力士首次在其DRAM生產中應用EUV。根據(jù)SK海力士的說法，比起前一代規(guī)格的產品，第四代在一片晶圓上產出的DRAM數(shù)量增加了約25%，成本競爭力很高。新的芯片將在今年下半年開始供應給智能手機制造商，并且還將在2022年初開始生產的DDR5芯片中應用10納米EUV。世界第三大DRAM制造商SK海力士發(fā)布聲明，正式啟用EUV光刻機閃存內存芯片，批量生產采用
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EUV DRAM
芯片雖小，制造難度卻很大，而且芯片制造的關鍵設備光刻機的缺乏，更是成為限制我國高端芯片的一大難題。尤其是近兩年華為事件的不斷發(fā)酵，讓我國半導體芯片領域的問題越加明顯，那就是在芯片制造的設備上，我國依然受制于人的問題相當嚴重。為什么ASML加速來華？北大教授的發(fā)聲很現(xiàn)實，國產光刻機突破在即雖然華為研發(fā)出基于5nm工藝的麒麟9000芯片，令一眾對手刮目相看，但是沒有臺積電為其代工生產，沒有屬于中國自己的高端光刻機，就等同于一張“紙老虎”。作為中國大陸最先進的芯片制造企業(yè)中芯國際，因為沒有高端光刻機，至今仍然沒
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EUV 光刻機 ASML
據(jù)韓媒援引業(yè)內人士消息，三星電子已決定在美國得克薩斯州奧斯丁設立EUV半導體工廠，以滿足日益增長的小型芯片需求和美國重振半導體計劃。該工廠將采用5nm制程，計劃于今年Q3開工，2024年投產，預計耗資180億美元，同時也是三星電子首次在韓國之外設立EUV產線。去年，臺積電去宣布將在美國建設芯片工廠，建成之后將采用5nm工藝為相關的客戶代工芯片，目標是2024年投產。最新消息稱，臺積電管理層目前正在討論，他們在美國的下一座芯片工廠，是否采用更先進的3nm制程工藝，為相關的客戶代工芯片。
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三星 5nm EUV 芯片廠
本周一，外媒援引韓國產業(yè)通商資源部一份有關半導體產業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略文件報道稱，光刻機制造商阿斯麥將投資2.12億美元，在京畿道華城建設極紫外光刻機再制造廠和培訓中心。在報道阿斯麥將在華城建設極紫外光刻機再制造廠和培訓中心時，外媒還提到，雖然三星電子、SK海力士已引進了阿斯麥生產的極紫外光刻機，但他們獲得的數(shù)量同臺積電相比，有不小的差距?！ ⊥饷皆趫蟮乐刑岬?，阿斯麥目前已生產的極紫外光刻機，70%是賣給了臺積電，留給其他廠商的就只有30%?！ “⑺果準悄壳叭蛭ㄒ荒苤圃鞓O紫外光刻機的廠商，他們已推出了TWIN
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阿斯麥 極紫光刻機 EUV 臺積電
做為國內最大也是最先進的半導體制造公司，中芯國際在先進工藝上的進展引人關注，其中7nm及以下節(jié)點非常重要，這還牽涉到EUV光刻機。 日前有股民在互動平臺上詢問，稱有報道指出中芯國際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝，要求中芯國際澄清。 對此，中芯國際表示，公司不針對傳言進行評論?！ 闹行緡H官網的介紹來看，該公司提到的最先進工藝還是14nm，接下來的是N+1、N+2工藝，但沒有指明具體的工藝節(jié)點。 中芯國際聯(lián)合CEO趙海軍曾表示，經過三年的積累，F(xiàn)inFET工藝已經取得了不錯的成績，N+1已經
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EUV 光刻機 中芯國際
藍色巨人出手就是王炸?！ ?月6日消息，IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導體芯片。 核心指標方面，IBM稱該2nm芯片的晶體管密度（MTr/mm2，每平方毫米多少百萬顆晶體管）為333.33，幾乎是臺積電5nm的兩倍，也比外界預估臺積電3nm工藝的292.21 MTr/mm2要高?！ ?nm晶圓近照 換言之，在150平方毫米也就是指甲蓋大小面積內，就能容納500億顆晶體管?！ ⊥瑫r，IBM表示，在同樣的電力消耗下，其性能比當前7nm高出45%，輸出同樣性能則減少75%的功耗。 實際上，I
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IBM 2nm EUV
近日，中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產設備的消息引發(fā)關注。針對雙方此次合作，有媒體報道稱“除了EUV光刻機，中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機?！钡沁@一說法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術的現(xiàn)有協(xié)議相關。 可能很多網友看到這里有點蒙圈，這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，而DUV是“深紫外線”的意思，通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級，實際上也是如此?！ SML澄清與中
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中芯國際 ASML DUV EUV
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