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可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布Hyper NA EUV光刻機：死胡同不遠了

  • 6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機，同時正在研究更強大的Hyper NA EUV光刻機，預計可將半導體工藝推進到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機孔徑數(shù)值只有0.33，對應產(chǎn)品命名NXE系列，包括已有的3400B/C、3600D、3800E，以及未來的4000F、4200G、4X00。該系列預計到2025年可以量產(chǎn)2nm，再往后就得加入多重曝光，預計到2027年能實現(xiàn)1.4nm的量產(chǎn)。High NA光刻機升級到了
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ASML：EUV光刻機已近極限 追趕技術(shù)還是另辟蹊徑？

  • ASML首席財務官達森（Roger Dassen）表示，EUV技術(shù)路線發(fā)展受歐美限制，且光刻機已接近技術(shù)極限，此一技術(shù)路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進行技術(shù)跟隨？還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術(shù)路徑？將面臨艱難的抉擇。 據(jù)《芯智訊》報導，臺積電已經(jīng)訂購了High NA EUV（高數(shù)值孔徑極紫外光）光刻機，ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結(jié)束，預計在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關(guān)設(shè)備訂單。ASML預測其設(shè)備的市場需求有望一路走強至2026年，這主要是受益于各國
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臺積電今年將拿到最新款光刻機

  • 6月6日消息，據(jù)外媒報道稱，ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進的光刻機，單臺造價達3.8億美元。報道中提到，ASML首席財務官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師，公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數(shù)值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統(tǒng)。英特爾此前已經(jīng)訂購了最新的高NA EUV設(shè)備，第一臺設(shè)備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠。目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設(shè)備。據(jù)悉，這些機器每臺造價3.5億歐元（3.8億美元），重量相當于兩架空中客車A
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EUV光刻機“忙瘋了”

  • 據(jù)市場消息，目前，ASML High NA EUV光刻機僅有兩臺，如此限量版的EUV關(guān)鍵設(shè)備必然無法滿足市場對先進制程芯片的需求，為此ASML布局步伐又邁一步。當?shù)貢r間6月3日，全球最大的半導體設(shè)備制造商阿斯麥（ASML）宣布，攜手比利時微電子研究中心（IMEC），在荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven）開設(shè)聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室（High NA EUV Lithography Lab），并由雙方共同運營。推動摩爾定律關(guān)鍵因素：High NA EUV技術(shù)據(jù)業(yè)界信息，High NA EUV技術(shù)是
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ASML和IMEC啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室

  • 自ASML官網(wǎng)獲悉，6月3日，比利時微電子研究中心（imec）與阿斯麥（ASML）宣布在荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven）開設(shè)聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室（High NA EUV Lithography Lab），由ASML和imec共同運營。聲明中稱，經(jīng)過多年的構(gòu)建和集成，該實驗室已準備好為領(lǐng)先的邏輯和存儲芯片制造商以及先進材料和設(shè)備供應商提供第一臺原型高數(shù)值孔徑EUV掃描儀（TWINSCAN EXE：5000）以及周圍的處理和計量工具。據(jù)悉，該聯(lián)合實驗室的開放是High-NA EUV大批量生
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臺積電CEO秘訪ASML，High-NA EUV光刻機競賽提前打響？

  • 5月26日，臺積電舉辦“2024年技術(shù)論壇臺北站”的活動，臺積電CEO魏哲家罕見的沒有出席，原因是其秘密前往荷蘭訪問位于埃因霍溫的ASML總部，以及位于德國迪琴根的工業(yè)激光專業(yè)公司TRUMPF。ASML CEO Christophe Fouquet和其激光光源設(shè)備供應商TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller近日通過社交媒體透露了魏哲家秘密出訪的行蹤。Christophe Fouquet表示他們向魏哲家介紹了最新的技術(shù)和新產(chǎn)品，包括High-NA EUV設(shè)備將如何實現(xiàn)未來
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美光計劃投資約300億元在日本新建DRAM廠

  • 據(jù)日媒報道，美光科技計劃投入6000億-8000億日圓（約合人民幣277-369億元）在日本廣島縣興建新廠，用于生產(chǎn)DRAM芯片。這座新廠房將于2026年初動工，并安裝極紫外光刻（EUV）設(shè)備。消息稱最快2027年底便可投入營運。報道稱，此前，日本政府已批準多達1920億日圓補貼，支持美光在廣島建廠并生產(chǎn)新一代芯片。去年，日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省曾表示，將利用這筆經(jīng)費協(xié)助美光科技生產(chǎn)芯片，這些芯片將是推動生成式AI、數(shù)據(jù)中心和自動駕駛技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵。
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High-NA EUV光刻機或?qū)⒊蔀橛⑻貭柕霓D(zhuǎn)機

  • 上個月英特爾晶圓代工宣布完成了業(yè)界首臺High-NA EUV光刻機組裝工作。隨后開始在Fab D1X進行校準步驟，為未來工藝路線圖的生產(chǎn)做好準備。
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臺積電美國設(shè)廠貴又慢？工程師揭關(guān)鍵：EUV機臺組裝超乎想象

  • 臺積電熊本廠已在2月底開幕，美國亞利桑那州新廠卻從2024年遞延至2025年量產(chǎn)，美國一名結(jié)構(gòu)工程師撰文指出，在美國蓋晶圓廠的速度比世界其他地方慢，建造成本也比世界其他地區(qū)高出30%到4倍。而蓋晶圓廠比想象中復雜，以ASML的一臺先進EUV曝光機為例，可能裝在40個貨柜中，需要漫長而仔細的組裝過程。美國進步中心（Institute of Progress）學者、結(jié)構(gòu)工程師波特（Brian Potter）以如何建造一座價值200億美元的半導體廠為題撰文指出，隨著摩爾定律的發(fā)展，芯片已變得越來越小、越來越便宜
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財經(jīng)專家揭秘臺積電「抗震神器」：1鈴聲預告出大事

  • 花蓮外海3日上午發(fā)生規(guī)模7.2大地震，臺積電昨晚間發(fā)聲明，震后10小時內(nèi)，晶圓廠設(shè)備的復原率已超過70％，雖少數(shù)設(shè)備受損并影響部分產(chǎn)線生產(chǎn)，但主要機臺包含所有極紫外（EUV）光刻設(shè)備皆無受損。對此，財經(jīng)專家黃世聰表示，臺積電晶圓廠的機臺，使用的是美國航天等級、連美軍都在用的阻尼器，且下方還有抗震減壓的機臺，把地震影響降到最小，且臺積電工程師訓練有素，只要發(fā)生地震、聽到公司手機響起臺積電之歌的鈴聲，就知道出大事、要趕回公司。臺積電產(chǎn)能牽動全球科技業(yè)，強震后外界關(guān)注影響。臺積電昨晚發(fā)布聲明，在3日地震發(fā)生后僅
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臺積電曝EUV主要機臺沒受損 美媒示警：強震后面臨考驗

  • 昨日花蓮發(fā)生規(guī)模7.2地震，外媒高度關(guān)注是否對中國臺灣護國神山臺積電造成影響，臺積電表示，部分廠區(qū)的少數(shù)設(shè)備受損，但所有極紫外（EUV）光刻設(shè)備等主要機臺皆無受損?！度A爾街日報》撰文指出，臺積電坐落在世界上最大地震熱點之一的中國臺灣，在昨日強震后將受到考驗。報導指出，在此次地震中臺積電是幸運的，因為其主要設(shè)施地點位在北、中、南部，與東部的震央距離相對較遠，這次臺積電新竹、龍?zhí)逗椭衲系瓤茖W園區(qū)的最大震度為5級 ，臺中和臺南科學園區(qū)的最大震度4級。雖然臺積電工廠建筑物完好無損，但用于制造半導體的設(shè)備和材料非常
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中國臺灣地震影響全球半導體業(yè) 一文看懂如何撼動芯片供應鏈

  • 3日早上7點58分左右，中國臺灣花蓮發(fā)生規(guī)模7.2地震，擾亂臺積電在內(nèi)的公司營運，臺積電對此表示，雖然部分廠區(qū)的少數(shù)設(shè)備受損并影響部分產(chǎn)線生產(chǎn)，但主要機臺包含所有極紫外（EUV）光刻設(shè)備皆無受損。許多外媒則示警，這凸顯了臺積電和全球芯片供應鏈處在地震的風險與威脅之中。 根據(jù)《商業(yè)內(nèi)幕》報導，這場7.2強震凸顯了全球芯片供應鏈和臺積電的脆弱性，臺積電是世界上最大的芯片制造商，全球大約90%的最先進處理器芯片都是臺積電生產(chǎn)，而且中國臺灣也是小型芯片生產(chǎn)商的所在地。報導示警，如果大地震能夠擾亂臺積電，那么更具破
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High-NA EUV光刻機入場，究竟有多強？

  • 光刻機一直是半導體領(lǐng)域的一個熱門話題。從早期的深紫外光刻機（DUV）起步，其穩(wěn)定可靠的性能為半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅實基礎(chǔ)；再到后來的極紫外光刻機（EUV）以其獨特的極紫外光源和更短的波長，成功將光刻精度推向了新的高度；再到如今的高數(shù)值孔徑光刻機（High-NA）正式登上歷史舞臺，進一步提升了光刻的精度和效率，為制造更小、更精密的芯片提供了可能。ASML 官網(wǎng)顯示，其組裝了兩個 TWINSCAN EXE:5000 高數(shù)值孔徑光刻系統(tǒng)。其中一個由 ASM 與 imec 合作開發(fā)，將于 2024 年安裝在 A
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ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻機引入部分 High-NA 機型技術(shù)

  • 3 月 27 日消息，據(jù)荷蘭媒體 Bits&Chips 報道，ASML 官方確認新款 0.33NA EUV 光刻機 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻機的技術(shù)，運行效率得以提升。根據(jù)IT之家之前報道，NXE:3800E 光刻機已于本月完成安裝，可實現(xiàn) 195 片晶圓的每小時吞吐量，相較以往機型的 160 片提升近 22%。下一代光刻技術(shù) High-NA（高數(shù)值孔徑） EUV 采用了更寬的光錐，這意味著其在 EUV 反射鏡上的撞擊角度更寬，會導致影響晶圓吞吐量的光損失。
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ASML正計劃搬離荷蘭？向外擴張轉(zhuǎn)移業(yè)務成為最優(yōu)解

  • 據(jù)路透社報道，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃將公司搬離荷蘭。荷蘭政府緊急成立了一個名為“貝多芬計劃”的特別工作組，由首相馬克·呂特親自領(lǐng)導，以確保ASML繼續(xù)在荷蘭發(fā)展。消息還稱，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴張或遷移，法國或是選擇之一。針對最近“搬離荷蘭”等傳言，ASML發(fā)言人對媒體稱他們在考慮公司的未來，但沒有透露具體的想法。ASML為何要搬離荷蘭？憑借先天的地理位置及海港內(nèi)陸網(wǎng)絡，荷蘭一直為歐洲的交通樞紐，國家經(jīng)濟高度依賴國際貿(mào)易，2022年最新出口額占全國GDP之比超
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