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美國商務(wù)部向美光科技提供 61 億美元資金,用于在該國生產(chǎn)芯片
- 12 月 11 日消息,美國商務(wù)部周二表示,作為2022 年《芯片和科學(xué)法案》的一部分,美光科技已獲得高達 61.65 億美元(當(dāng)前約 448.07 億元人民幣)的撥款,用于在美國制造半導(dǎo)體。該機構(gòu)表示,這筆資金將支持美光的“二十年愿景”,即在紐約投資約 1000 億美元、在愛達荷州投資 250 億美元用于新工廠,并創(chuàng)造約 20,000 個新工作崗位。美國商務(wù)部還表示,美光將根據(jù)某些里程碑的完成情況逐步獲得上述資金。此外,美國商務(wù)部還宣布已與美光科技達成初步協(xié)議,將額外提供 2.75 億美元資金,用于擴建
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提高下一代DRAM器件的寄生電容性能
- 摘要隨著傳統(tǒng)DRAM器件的持續(xù)縮小,較小尺寸下寄生電容的增加可能會對器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響,未來可能需要新的DRAM結(jié)構(gòu)來降低總電容,并使器件發(fā)揮出合格的性能。本研究比較了6F2蜂窩動態(tài)隨機存取存儲器 (DRAM) 器件與4F2垂直通道訪問晶體管 (VCAT) DRAM結(jié)構(gòu)的寄生電容。結(jié)果表明,與6F2結(jié)構(gòu)相比,4F2結(jié)構(gòu)顯著降低了節(jié)點接觸 (NC) 與位線 (BL) 之間的寄生電容。盡管4F2器件其他組件之間的寄生電容相比6F2器件略有增加,但它們?nèi)蕴幱谥С制骷_成目標(biāo)性能的合格水平。相比6F2器件,4F
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在2025年DRAM位元產(chǎn)出增長下,供應(yīng)商需謹(jǐn)慎規(guī)劃產(chǎn)能以保持盈利
- DRAM產(chǎn)業(yè)歷經(jīng)2024年前三季的庫存去化和價格回升,價格動能于第四季出現(xiàn)弱化。TrendForce集邦咨詢資深研究副總吳雅婷表示,由于部分供應(yīng)商在今年獲利后展開新增產(chǎn)能規(guī)劃,預(yù)估2025年整體DRAM產(chǎn)業(yè)位元產(chǎn)出將年增25%,成長幅度較2024年大。根據(jù)TrendForce集邦咨詢最新調(diào)查,DRAM產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)越趨復(fù)雜,除現(xiàn)有的PC、Server、Mobile、Graphics和Consumer DRAM外,又新增HBM品類。吳雅婷指出,三大DRAM原廠中,SK hynix(SK海力士)因HBM產(chǎn)品
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北京君正:21nm DRAM新工藝預(yù)計年底推出
- 近日,北京君正在接受機構(gòu)調(diào)研時就DRAM的新工藝情況表示,21nm和20nm都有在研,預(yù)計21nm的今年年底會推出,20nm預(yù)計將于明年中前后推出,后續(xù)還會繼續(xù)進行更新工藝的產(chǎn)品研發(fā)。關(guān)于存儲中各類市場的收入占比情況,北京君正表示,汽車市場占比大概40%以上,工業(yè)和醫(yī)療今年市場景氣度差一些,去年占比超過30%,今年大概不到30%,剩下大約20%多的是通信和消費等其他領(lǐng)域。存儲產(chǎn)品價格方面,北京君正的存儲產(chǎn)品主要面向行業(yè)市場,這個市場的價格變動特點和消費類市場不同,這幾年行業(yè)市場存儲價格高點是2022年,2
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郭明錤剖析英特爾 Lunar Lake 失敗原因
- 11 月 6 日消息,天風(fēng)證券分析師郭明錤昨日(11 月 5 日)在 Medium 上發(fā)布博文,深入分析了英特爾 Lunar Lake 失敗的前因后果。IT之家此前報道,是英特爾近期宣布在 Lunar Lake (LNL) 之后,將不再把 DRAM 整合進 CPU 封裝。雖此事近來成為焦點,但業(yè)界早在至少半年前就知道,在英特爾的 roadmap 上,后續(xù)的 Arrow Lake、Nova Lake、Raptor Lake 更新、Twin Lake、Panther Lake 與 Wildcat La
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研華新一代CXL 2.0內(nèi)存,數(shù)據(jù)中心效率大革新!
- 2024 年 10 月,研華科技宣布推出新一代SQRAM CXL 2.0 Type 3 內(nèi)存模塊。Compute Express Link (CXL) 2.0 是內(nèi)存技術(shù)的下一代進化產(chǎn)品,可通過高速、低延遲的互連實現(xiàn)內(nèi)存擴展和加速,滿足大型 AI 訓(xùn)練和高性能計算集群的需求。 CXL 2.0 建立在 CXL 規(guī)范的基礎(chǔ)上,引入了內(nèi)存共享和擴展等高級功能,使異構(gòu)計算環(huán)境中的資源利用效率更高,在當(dāng)今高性能計算領(lǐng)域引起了廣泛關(guān)注。通過E3.S 2T規(guī)格擴展內(nèi)存在傳統(tǒng)的內(nèi)存架構(gòu)中,固定的內(nèi)存分配常常導(dǎo)致資源利用率
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鎧俠即將發(fā)布三大創(chuàng)新研究成果
- 自鎧俠官網(wǎng)獲悉,鎧俠(Kioxia)宣布其多項創(chuàng)新研究成果,將于今年12月7日至11日在美國舊金山舉行的IEEE國際電子器件大會(IEDM)上發(fā)表。聲明中稱,鎧俠旨在不斷創(chuàng)新以滿足未來計算和存儲系統(tǒng)的需求。此次發(fā)布包括以下三大創(chuàng)新技術(shù):氧化物半導(dǎo)體通道晶體管DRAM(OCTRAM):該技術(shù)由鎧俠聯(lián)合南亞科技共同開發(fā),通過改進制造工藝,開發(fā)出一種垂直晶體管,提高了電路集成度。OCTRAM技術(shù)有望大幅降低DRAM的功耗,使其在人工智能、5G通信等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。高容量交叉點MRAM(磁阻隨機存取存儲器
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HBM對DRAM廠的貢獻逐季攀升
- TrendForce指出,隨著AI服務(wù)器持續(xù)布建,高帶寬內(nèi)存(HBM)市場處高成長階段,平均售價約是DRAM產(chǎn)品的三至五倍,待下一代HBM3e量產(chǎn),加上產(chǎn)能擴張,營收貢獻將逐季上揚。TrendForce指出,HBM市場仍處于高成長階段,由于各大云端廠商持續(xù)布建AI服務(wù)器,在GPU算力與內(nèi)存容量都將升級下,HBM成為其中不可或缺的一環(huán),帶動HBM規(guī)格容量上升。如NVIDIA Blackwell平臺將采用192GB HBM3e內(nèi)存、AMD的MI325更是提升到288GB以上。由于HBM生產(chǎn)難度高、良率仍有顯著
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三星開發(fā)出其首款24Gb GDDR7 DRAM,助力下一代人工智能計算
- 三星電子今日宣布,已成功開發(fā)出其首款24Gb GDDR7[1]?DRAM(第七代圖形雙倍數(shù)據(jù)傳輸率存儲器)。GDDR7具備非常高的容量和極快的速率,這使得它成為眾多下一代應(yīng)用程序的理想選擇之一。三星半導(dǎo)體24Gb GDDR7 DRAM憑借高容量和卓越性能,24Gb GDDR7將廣泛應(yīng)用于需要高性能存儲解決方案的各個領(lǐng)域,例如數(shù)據(jù)中心和人工智能工作站,這將進一步擴展圖形 DRAM 在顯卡、游戲機和自動駕駛等傳統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域之外的應(yīng)用范圍。三星電子存儲器產(chǎn)品企劃團隊執(zhí)行副總裁裴永哲(Bae YongCh
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SK海力士CXL優(yōu)化解決方案成功搭載于全球最大開源操作系統(tǒng)Linux
- 2024年9月23日,SK海力士宣布,公司已將用于優(yōu)化CXL*(Compute Express Link)存儲器運行的自研軟件異構(gòu)存儲器軟件開發(fā)套件(HMSDK)*中主要功能成功搭載于全球最大的開源操作系統(tǒng)Linux*上。SK海力士表示:“CXL作為繼HBM之后的下一代面向AI的存儲器產(chǎn)品而備受矚目,公司自主研發(fā)的CXL優(yōu)化軟件HMSDK,其性能已獲得國際認(rèn)可,并成功應(yīng)用于全球最大的開源操作系統(tǒng)Linux中。這標(biāo)志著不僅是如HBM等超高性能硬件實力方面,公司的軟件競爭力也獲得廣泛認(rèn)可,具有重大意義?!蔽磥?/li>
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TrendForce:內(nèi)存下半年價格恐摔
- 根據(jù)TrendForce最新調(diào)查,消費型電子需求未如預(yù)期回溫,中國大陸地區(qū)的智能型手機,出現(xiàn)整機庫存過高的情形,筆電也因為消費者期待AI PC新產(chǎn)品而延遲購買,市場持續(xù)萎縮。此一現(xiàn)象,導(dǎo)致以消費型產(chǎn)品為主的內(nèi)存現(xiàn)貨價走弱,第二季價格較第一季下跌超過30%。盡管現(xiàn)貨價至8月份仍與合約價脫鉤,但也暗示合約價可能的未來走向。TrendForce表示,2024年第二季模塊廠在消費類NAND Flash零售通路的出貨量,已大幅年減40%,反映出全球消費性內(nèi)存市場正遭遇嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。內(nèi)存產(chǎn)業(yè)雖一向受周期因素影響,但202
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SK海力士成功開發(fā)出全球首款第六代10納米級DDR5 DRAM
- 2024年8月29日,SK海力士宣布,全球首次成功開發(fā)出采用第六代10納米級(1c)工藝的16Gb(Gigabit,千兆比特)DDR5 DRAM。由此,公司向世界展現(xiàn)了10納米出頭的超微細化存儲工藝技術(shù)。SK海力士強調(diào):“隨著10納米級DRAM技術(shù)的世代相傳,微細工藝的難度也隨之加大,但公司以通過業(yè)界最高性能得到認(rèn)可的第五代(1b)技術(shù)力為基礎(chǔ),提高了設(shè)計完成度,率先突破了技術(shù)極限。公司將在年內(nèi)完成1c DDR5 DRAM的量產(chǎn)準(zhǔn)備,從明年開始供應(yīng)產(chǎn)品,引領(lǐng)半導(dǎo)體存儲器市場發(fā)展?!惫疽?b DRAM
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第二季DRAM產(chǎn)業(yè)營收季增24.8%,預(yù)期第三季合約價將上調(diào)
- 根據(jù)TrendForce集邦咨詢調(diào)查,受惠主流產(chǎn)品出貨量擴張帶動多數(shù)業(yè)者營收成長,2024年第二季整體DRAM(內(nèi)存)產(chǎn)業(yè)營收達229億美元,季增24.8%。價格方面,合約價于第二季維持上漲,第三季因國際形勢等因素,預(yù)估Conventional DRAM(一般型內(nèi)存)合約價漲幅將高于先前預(yù)期。觀察Samsung(三星)、SK hynix(SK海力士)和Micron(美光科技)第二季出貨表現(xiàn),均較前一季有所增加,平均銷售單價方面,三大廠延續(xù)第一季合約價上漲情勢,加上臺灣地區(qū)四月初地震影響,以及HBM
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imec采用High-NA EUV技術(shù) 展示邏輯與DRAM架構(gòu)
- 比利時微電子研究中心(imec),在荷蘭費爾德霍溫與艾司摩爾(ASML)合作建立的高數(shù)值孔徑極紫外光(high-NA EUV)微影實驗室中,利用數(shù)值孔徑0.55的極紫外光曝光機,發(fā)表了曝光后的圖形化組件結(jié)構(gòu)。在單次曝光后,9納米和5納米(間距19納米)的隨機邏輯結(jié)構(gòu)、中心間距為30納米的隨機通孔、間距為22納米的二維特征,以及間距為32納米的動態(tài)隨機存取內(nèi)存(DRAM)專用布局全部成功成形,采用的是由imec與其先進圖形化研究計劃伙伴所優(yōu)化的材料和基線制程。透過這些研究成果,imec證實該微影技術(shù)的生態(tài)系
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外媒:三星推出超薄型手機芯片LPDDR5X DRAM
- 8月7日消息,隨著移動設(shè)備功能的不斷增強,對內(nèi)存性能和容量的要求也日益提高。據(jù)外媒gsmarena報道,三星電子近日宣布,公司推出了業(yè)界最薄的LPDDR5X DRAM芯片。這款12納米級別的芯片擁有12GB和16GB兩種封裝選項,專為低功耗RAM市場設(shè)計,主要面向具備設(shè)備端AI能力的智能手機。gsmarena這款新型芯片的厚度僅為0.65毫米,比上一代產(chǎn)品薄了9%。三星估計,這一改進將使其散熱性能提高21.2%。gsmarena三星通過優(yōu)化印刷電路板(PCB)和環(huán)氧樹脂封裝技術(shù),將LPDDR5X的厚度
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