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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 65nm

三部委：對小于65nm邏輯電路等免征進口關(guān)稅

  • 3月29日訊，財政部、海關(guān)總署、稅務(wù)總局發(fā)布關(guān)于支持集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)發(fā)展進口稅收政策的通知。其中，免征進口關(guān)稅的情形包括，對集成電路線寬小于65納米（含,下同）的邏輯電路、存儲器生產(chǎn)企業(yè),以及線寬小于0.25微米的特色工藝（即模擬、數(shù)?；旌稀⒏邏?、射頻、功率、光電集成、圖像傳感、微機電系統(tǒng)、絕緣體上硅工藝）集成電路生產(chǎn)企業(yè)，進口國內(nèi)不能生產(chǎn)或性能不能滿足需求的自用生產(chǎn)性（含研發(fā)用,下同）原材料、消耗品，凈化室專用建筑材料、配套系統(tǒng)和集成電路生產(chǎn)設(shè)備（包括進口設(shè)備和國產(chǎn)設(shè)備）零配件等。原文如下：財政部
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打造中國本土半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈

  • 　　隨著中國已經(jīng)成為全球最大的半導(dǎo)體單一市場，中國本土半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已經(jīng)形成了從設(shè)計、制造及應(yīng)用完整的產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈。來自中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)的重要廠商共聚SEMICON China 2013，研討如何進一步加強中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的優(yōu)勢及競爭力。 　　上海先進半導(dǎo)體制造股份有限公司業(yè)務(wù)發(fā)展資深經(jīng)理胡照林介紹了上海先進模擬代工發(fā)展之路。他提到上海先進主要有三條生產(chǎn)線，其中Fab1和Fab2的5寸/6寸生產(chǎn)線加工最小線寬為0.6um，主要工藝包括Bipolar、BiCMOS、EEPROM、HVMOS、BCD;2003
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基于65nm工藝數(shù)字IC物理設(shè)計中信號串?dāng)_的預(yù)防

  • 摘要：數(shù)字集成電路的不斷發(fā)展和制造工藝的不斷進步，使得物理設(shè)計面臨著越來越多的挑戰(zhàn)。特征尺寸的減小，使得后端設(shè)計過程中解決信號完整性問題是越來越重要?；ミB線間的串?dāng)_就是其中的一個，所以在后端設(shè)計的流程
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應(yīng)對65nm以下測量技術(shù)挑戰(zhàn)

  • 半導(dǎo)體工業(yè)目前已經(jīng)進入65納米及以下技術(shù)時代，關(guān)鍵特征通常為納米級，如此小特征的制造工藝要求特殊的測量儀器...
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Synopsys宣布提供DesignWareTM數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器IP

  • 　　全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)計、驗證和制造軟件及知識產(chǎn)權(quán)(IP)供應(yīng)商新思科技有限公司日前宣布：該公司所提供經(jīng)芯片生產(chǎn)驗證的DesignWareTM數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器IP，已被應(yīng)用于中芯國際廣受歡迎的65納米低漏電(Low Leakage)工藝技術(shù)。這可幫助設(shè)計工程師更有效地提升其芯片的功率，并在集成設(shè)計上達(dá)事半功倍之效。
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Microsemi發(fā)布全新65nm嵌入式快閃平臺

  • 　　致力實現(xiàn)智能化的安全互連世界的半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)先供應(yīng)商─美高森美公司(Microsemi Corporation)宣布，旗下SoC產(chǎn)品部門(原為愛特公司Actel Corporation)發(fā)布全新65nm嵌入式快閃平臺，以用于構(gòu)建公司下一代基于快閃的可定制系統(tǒng)級芯片(system-on-chip, SoC)。美高森美的低功耗智能混合信號和系統(tǒng)關(guān)鍵系列SoC具有四輸入查找表(look up table, LUT)架構(gòu)，將會集中使用現(xiàn)代化的65nm嵌入式快閃工藝。
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Microsemi發(fā)布65nm嵌入式快閃平臺

  • 　　致力實現(xiàn)智能化的安全互連世界的半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)先供應(yīng)商─美高森美公司(Microsemi Corporation)宣布，旗下SoC產(chǎn)品部門(原為愛特公司Actel Corporation)發(fā)布全新65nm嵌入式快閃平臺，以用于構(gòu)建公司下一代基于快閃的可定制系統(tǒng)級芯片(system-on-chip, SoC)。美高森美的低功耗智能混合信號和系統(tǒng)關(guān)鍵系列SoC具有四輸入查找表(look up table, LUT)架構(gòu)，將會集中使用現(xiàn)代化的65nm嵌入式快閃工藝。相比前一代產(chǎn)品，器件密度能夠提高一個數(shù)量級，性
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美國再次放寬對華高技術(shù)產(chǎn)品出口 65nm以下刻蝕設(shè)備不再受限

  • 　　在SEMI及會員公司的共同努力下，經(jīng)過9個月的等待，美國聯(lián)邦政府正式實施放寬刻蝕設(shè)備的出口條件，原來180nm的技術(shù)審核指標(biāo)被正式放寬到了65nma。
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基于65nm FPGA的多模無線基站的高端應(yīng)用

  • 電子產(chǎn)品世界,為電子工程師提供全面的電子產(chǎn)品信息和行業(yè)解決方案,是電子工程師的技術(shù)中心和交流中心,是電子產(chǎn)品的市場中心,EEPW 20年的品牌歷史,是電子工程師的網(wǎng)絡(luò)家園
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Cadence劉國軍：65nm及以下芯片設(shè)計要破傳統(tǒng)

  • 　　幾年前，65nm芯片設(shè)計項目已經(jīng)在中國陸續(xù)開展起來。中國芯片設(shè)計企業(yè)已逐步具備65nm芯片的設(shè)計能力。同時，由于65nm與以往更大特征尺寸的設(shè)計項目確實有很大不同，因此，對一些重要環(huán)節(jié)需要產(chǎn)業(yè)上下游共同關(guān)注。 　　關(guān)注一 如何確保IP質(zhì)量 　　雖然IP問題與65nm芯片設(shè)計并不直接相關(guān)，由于他們的一些客戶在實際設(shè)計項目中遇到的比較大的問題之一就是IP質(zhì)量問題，因此應(yīng)該引起業(yè)界的關(guān)注。 　　隨著芯片設(shè)計采用更先進的工藝技術(shù)，芯片規(guī)模越來越大，對IP的需求越來越多。 　　目前不同IP來源，不同代工
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基于FPGA的65nm芯片的設(shè)計方案

  • 基于FPGA的65nm芯片的設(shè)計方案,　　隨著工藝技術(shù)向65nm以及更小尺寸的邁進，出現(xiàn)了兩類關(guān)鍵的開發(fā)問題：待機功耗和開發(fā)成本。這兩個問題在每一新的工藝節(jié)點上都非常突出，現(xiàn)在已經(jīng)成為設(shè)計團隊面臨的主要問題。在設(shè)計方法上從專用集成電路(ASIC)和
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中芯國際宣布65nm制程已進入量產(chǎn)階段 55nm研發(fā)進行中

  • 　　大陸SMIC中芯國際公司本月3日宣布，自去年第三季度以來，公司已售出了1萬片65nm制程晶圓產(chǎn)品，此舉標(biāo)志著公司65nm制程產(chǎn)品已經(jīng)成功實現(xiàn)量 產(chǎn)。目前中芯國際的65nm制程芯片產(chǎn)品是由其位于北京的12英寸工廠生產(chǎn)的，該廠的月產(chǎn)能到今年年底可達(dá)25000片，另外公司還宣稱今年的資本投資額 將達(dá)到3.3億美元，這筆投資金額中的大部分將用于北京廠和上海廠的產(chǎn)能拓展項目。 　　中芯國際65nm制程產(chǎn)品目前涉及的產(chǎn)品應(yīng)用主要包括Wi - Fi，藍(lán)牙，高清電視，影音解碼器, 應(yīng)用處理器以及TD-SCDMA
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中國半導(dǎo)體業(yè)再次發(fā)起沖擊

  • 　　沉寂了一段時間后，中國半導(dǎo)體業(yè)又重新開始沖剌，表現(xiàn)為上海華力12英寸項目啟動及中芯國際擴充北京12英寸生產(chǎn)線產(chǎn)能至4.5萬片，包括可能在北京再建一條12英寸生產(chǎn)線等。 　　然而，從國外媒體來的訊息表示的觀點有些不同。如美國Information Network認(rèn)為中國半導(dǎo)體業(yè)在政府資金支持下，在未來的5年內(nèi)將投資250億美元，可能再次掀起高潮。但也不排除，有的市場分析公司對于投資的回報率存有質(zhì)疑，其實這一切才是正常的。因為中國半導(dǎo)體業(yè)是屬于戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè)，不是完全可用市場機制，單一的經(jīng)濟規(guī)律來解釋得通。
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65nm將成為大陸芯片制造主流

  • 　　一度沉寂的大陸芯片制造行業(yè)最近忽然熱鬧起來，巧的是都與65nm技術(shù)息息相關(guān)。 　　Intel早在2009年就宣布，正在建設(shè)中的大連工廠Fab 68將采用65nm工藝技術(shù)。65nm工藝是目前美國政府批準(zhǔn)的在海外可采用的最高級別生產(chǎn)技術(shù)。這座12英寸晶圓廠預(yù)計今年建成投產(chǎn)。Intel大連芯片廠投資總額25億美元，是Intel在亞洲建立的首個300毫米晶圓制造工廠。 　　另一條消息是，北京相關(guān)政府與部門將投資50-60億美元，支持中芯北京300mm新廠的建設(shè)與新技術(shù)的開發(fā)，產(chǎn)能在短期內(nèi)將從目前的2000
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imec中國成立 與華力合作項目正式簽約

  • 　　5月25日，imec中國正式在上海張江高科技園區(qū)成立。同時，與華力微電子在先進芯片制程工藝技術(shù)上的合作開發(fā)項目也正式簽約。 　　imec與中國的合作已有十年的歷史，隨著中國在先進制程上的不斷投入，中國已經(jīng)成為imec潛在的一個重要市場。imec中國今后將會進一步加強與中國企業(yè)、高校和科研院所在微電子技術(shù)轉(zhuǎn)讓與許可、聯(lián)合研發(fā)以及培訓(xùn)等領(lǐng)域的合作。目前imec中國只有五名員工，隨著今后越來越多的合作協(xié)議的簽訂，imec中國將會吸引更多的研發(fā)人員與當(dāng)?shù)仄髽I(yè)展開更加緊密地合作。 　　imec中國成立當(dāng)天，
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65nm介紹

半導(dǎo)體制造工藝，指集成電路內(nèi)電路與電路間的距離。在處理器領(lǐng)域，制造工藝可以看作是處理器核心中每一個晶體管的大小。早期制作工藝采用微米作為單位，隨著近兩年工藝技術(shù)的進步，包括處理器、內(nèi)存、顯卡等芯片的制作工藝已經(jīng)全面采用更小的納米單位，而65nm工藝是處理器領(lǐng)域中先進的制造工藝。 在生產(chǎn)中一般采用的生產(chǎn)方式是光刻，光刻是在掩模板上進行的，宏觀上講，只要提高掩模板的分辨律就能刻出更多MOS管了， [ 查看詳細(xì) ]

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