3月29日訊，財政部、海關總署、稅務總局發(fā)布關于支持集成電路產業(yè)和軟件產業(yè)發(fā)展進口稅收政策的通知。其中，免征進口關稅的情形包括，對集成電路線寬小于65納米（含,下同）的邏輯電路、存儲器生產企業(yè),以及線寬小于0.25微米的特色工藝（即模擬、數?；旌稀⒏邏?、射頻、功率、光電集成、圖像傳感、微機電系統(tǒng)、絕緣體上硅工藝）集成電路生產企業(yè)，進口國內不能生產或性能不能滿足需求的自用生產性（含研發(fā)用,下同）原材料、消耗品，凈化室專用建筑材料、配套系統(tǒng)和集成電路生產設備（包括進口設備和國產設備）零配件等。原文如下：財政部
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65nm 邏輯電路
隨著中國已經成為全球最大的半導體單一市場，中國本土半導體產業(yè)已經形成了從設計、制造及應用完整的產業(yè)供應鏈。來自中國半導體產業(yè)鏈各環(huán)節(jié)的重要廠商共聚SEMICON China 2013，研討如何進一步加強中國半導體產業(yè)的優(yōu)勢及競爭力。
上海先進半導體制造股份有限公司業(yè)務發(fā)展資深經理胡照林介紹了上海先進模擬代工發(fā)展之路。他提到上海先進主要有三條生產線，其中Fab1和Fab2的5寸/6寸生產線加工最小線寬為0.6um，主要工藝包括Bipolar、BiCMOS、EEPROM、HVMOS、BCD;2003
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半導體 65nm
摘要：數字集成電路的不斷發(fā)展和制造工藝的不斷進步，使得物理設計面臨著越來越多的挑戰(zhàn)。特征尺寸的減小，使得后端設計過程中解決信號完整性問題是越來越重要?；ミB線間的串擾就是其中的一個，所以在后端設計的流程
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設計 信號 預防 物理 IC 65nm 工藝 數字 基于
半導體工業(yè)目前已經進入65納米及以下技術時代，關鍵特征通常為納米級，如此小特征的制造工藝要求特殊的測量儀器...
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65nm
全球領先的半導體設計、驗證和制造軟件及知識產權(IP)供應商新思科技有限公司日前宣布：該公司所提供經芯片生產驗證的DesignWareTM數據轉換器IP，已被應用于中芯國際廣受歡迎的65納米低漏電(Low Leakage)工藝技術。這可幫助設計工程師更有效地提升其芯片的功率，并在集成設計上達事半功倍之效。
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Synopsys 65nm 數據轉換器
致力實現智能化的安全互連世界的半導體技術領先供應商─美高森美公司(Microsemi Corporation)宣布，旗下SoC產品部門(原為愛特公司Actel Corporation)發(fā)布全新65nm嵌入式快閃平臺，以用于構建公司下一代基于快閃的可定制系統(tǒng)級芯片(system-on-chip, SoC)。美高森美的低功耗智能混合信號和系統(tǒng)關鍵系列SoC具有四輸入查找表(look up table, LUT)架構，將會集中使用現代化的65nm嵌入式快閃工藝。
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Microsemi 65nm FPGA
致力實現智能化的安全互連世界的半導體技術領先供應商─美高森美公司(Microsemi Corporation)宣布，旗下SoC產品部門(原為愛特公司Actel Corporation)發(fā)布全新65nm嵌入式快閃平臺，以用于構建公司下一代基于快閃的可定制系統(tǒng)級芯片(system-on-chip, SoC)。美高森美的低功耗智能混合信號和系統(tǒng)關鍵系列SoC具有四輸入查找表(look up table, LUT)架構，將會集中使用現代化的65nm嵌入式快閃工藝。相比前一代產品，器件密度能夠提高一個數量級，性
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Microsemi 65nm SoC
在SEMI及會員公司的共同努力下，經過9個月的等待，美國聯邦政府正式實施放寬刻蝕設備的出口條件，原來180nm的技術審核指標被正式放寬到了65nma。
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刻蝕設備 65nm
電子產品世界,為電子工程師提供全面的電子產品信息和行業(yè)解決方案,是電子工程師的技術中心和交流中心,是電子產品的市場中心,EEPW 20年的品牌歷史,是電子工程師的網絡家園
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65nm TD-SCDMA FPGA 多模無線基站
幾年前，65nm芯片設計項目已經在中國陸續(xù)開展起來。中國芯片設計企業(yè)已逐步具備65nm芯片的設計能力。同時，由于65nm與以往更大特征尺寸的設計項目確實有很大不同，因此，對一些重要環(huán)節(jié)需要產業(yè)上下游共同關注。
關注一 如何確保IP質量
雖然IP問題與65nm芯片設計并不直接相關，由于他們的一些客戶在實際設計項目中遇到的比較大的問題之一就是IP質量問題，因此應該引起業(yè)界的關注。
隨著芯片設計采用更先進的工藝技術，芯片規(guī)模越來越大，對IP的需求越來越多。
目前不同IP來源，不同代工
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Cadence 芯片 65nm
基于FPGA的65nm芯片的設計方案, 隨著工藝技術向65nm以及更小尺寸的邁進，出現了兩類關鍵的開發(fā)問題：待機功耗和開發(fā)成本。這兩個問題在每一新的工藝節(jié)點上都非常突出，現在已經成為設計團隊面臨的主要問題。在設計方法上從專用集成電路(ASIC)和
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設計 方案 芯片 65nm FPGA 基于
大陸SMIC中芯國際公司本月3日宣布，自去年第三季度以來，公司已售出了1萬片65nm制程晶圓產品，此舉標志著公司65nm制程產品已經成功實現量 產。目前中芯國際的65nm制程芯片產品是由其位于北京的12英寸工廠生產的，該廠的月產能到今年年底可達25000片，另外公司還宣稱今年的資本投資額 將達到3.3億美元，這筆投資金額中的大部分將用于北京廠和上海廠的產能拓展項目。
中芯國際65nm制程產品目前涉及的產品應用主要包括Wi - Fi，藍牙，高清電視，影音解碼器, 應用處理器以及TD-SCDMA
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中芯國際 65nm 55nm
沉寂了一段時間后，中國半導體業(yè)又重新開始沖剌，表現為上海華力12英寸項目啟動及中芯國際擴充北京12英寸生產線產能至4.5萬片，包括可能在北京再建一條12英寸生產線等。
然而，從國外媒體來的訊息表示的觀點有些不同。如美國Information Network認為中國半導體業(yè)在政府資金支持下，在未來的5年內將投資250億美元，可能再次掀起高潮。但也不排除，有的市場分析公司對于投資的回報率存有質疑，其實這一切才是正常的。因為中國半導體業(yè)是屬于戰(zhàn)略產業(yè)，不是完全可用市場機制，單一的經濟規(guī)律來解釋得通。
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中芯國際 65nm 半導體
一度沉寂的大陸芯片制造行業(yè)最近忽然熱鬧起來，巧的是都與65nm技術息息相關。
Intel早在2009年就宣布，正在建設中的大連工廠Fab 68將采用65nm工藝技術。65nm工藝是目前美國政府批準的在海外可采用的最高級別生產技術。這座12英寸晶圓廠預計今年建成投產。Intel大連芯片廠投資總額25億美元，是Intel在亞洲建立的首個300毫米晶圓制造工廠。
另一條消息是，北京相關政府與部門將投資50-60億美元，支持中芯北京300mm新廠的建設與新技術的開發(fā)，產能在短期內將從目前的2000
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芯片制造 晶圓制造 65nm
5月25日，imec中國正式在上海張江高科技園區(qū)成立。同時，與華力微電子在先進芯片制程工藝技術上的合作開發(fā)項目也正式簽約。
imec與中國的合作已有十年的歷史，隨著中國在先進制程上的不斷投入，中國已經成為imec潛在的一個重要市場。imec中國今后將會進一步加強與中國企業(yè)、高校和科研院所在微電子技術轉讓與許可、聯合研發(fā)以及培訓等領域的合作。目前imec中國只有五名員工，隨著今后越來越多的合作協議的簽訂，imec中國將會吸引更多的研發(fā)人員與當地企業(yè)展開更加緊密地合作。
imec中國成立當天，
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imec CMOS 65nm
65nm介紹
半導體制造工藝，指集成電路內電路與電路間的距離。在處理器領域，制造工藝可以看作是處理器核心中每一個晶體管的大小。早期制作工藝采用微米作為單位，隨著近兩年工藝技術的進步，包括處理器、內存、顯卡等芯片的制作工藝已經全面采用更小的納米單位，而65nm工藝是處理器領域中先進的制造工藝。
在生產中一般采用的生產方式是光刻，光刻是在掩模板上進行的，宏觀上講，只要提高掩模板的分辨律就能刻出更多MOS管了， [
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