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瑞晶預(yù)計(jì)提前轉(zhuǎn)進(jìn)30納米制程

  •   DRAM報(bào)價(jià)直逼歷史低價(jià),在DRAM產(chǎn)業(yè)籠罩一片低氣壓時(shí),瑞晶的制程轉(zhuǎn)進(jìn)速度仍是一馬當(dāng)先,原本預(yù)定2011年底前旗下所有產(chǎn)能都全數(shù)轉(zhuǎn)進(jìn)30納米制程,日前目標(biāo)已提前達(dá)陣,但因母公司爾必達(dá)(Elpida)應(yīng)部分客戶需要40納米制程產(chǎn)品,因此保留2萬片產(chǎn)能在40納米,在制程轉(zhuǎn)進(jìn)成功后,預(yù)計(jì)成本可進(jìn)一步下滑,雖然相較于目前DRAM報(bào)價(jià)仍是虧錢,但仍是臺(tái)廠中競(jìng)爭(zhēng)力最強(qiáng)的業(yè)者。   瑞晶一向是臺(tái)系DRAM廠中制程轉(zhuǎn)換速度最快的業(yè)者,旗下8萬片12寸晶圓廠領(lǐng)先在2011年轉(zhuǎn)進(jìn)40納米制程,日前又在30納米制程上搶
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海力士半導(dǎo)體明年一季度開始量產(chǎn)30納米芯片

  •   海力士半導(dǎo)體發(fā)言人Park Seong Ae周四表示,公司將從明年第一季度開始量產(chǎn)30納米芯片。   這一表態(tài)證實(shí)了韓國網(wǎng)絡(luò)新聞媒體edaily此前的相關(guān)報(bào)道。
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中芯45億美元打造國內(nèi)最大高端芯片基地

  •   昨日,內(nèi)地最大集成電路制造商中芯國際,與東湖開發(fā)區(qū)正式聯(lián)姻。中芯國際將注資45億美元,助光谷打造國內(nèi)最大高端芯片生產(chǎn)基地。   中芯國際是內(nèi)地規(guī)模最大、技術(shù)最先進(jìn)的集成電路晶圓代工企業(yè)。早在2006年,中芯國際就開始   
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景氣雖不明 海力士仍持續(xù)投資30納米制程

  •   雖然在經(jīng)濟(jì)前景不明的情況下,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)景氣亦受到連帶影響,不過全球排名第2的半導(dǎo)體大廠海力士(Hynix)仍計(jì)劃對(duì)轉(zhuǎn)進(jìn)30納米制程持續(xù)加碼,以增加和三星電子(Samsung Electronics)、日本爾必達(dá)(Elpida)等大廠競(jìng)爭(zhēng)的優(yōu)勢(shì)。   
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爾必達(dá)12月將啟動(dòng)30納米DRAM量產(chǎn)

  •   據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》周三報(bào)道,爾必達(dá)計(jì)劃在今年12月開始量產(chǎn)40納米以下的DRAM芯片,此舉預(yù)計(jì)可節(jié)省生產(chǎn)成本約30%。爾必達(dá)即將量產(chǎn)的DRAM芯片線寬僅略大于30納米,比三星電子的最新制程更小。至目前為止,三星仍是全球首家跨入40納米制程以下的公司。   報(bào)道稱呢個(gè),爾必達(dá)已開發(fā)出的“雙重曝光 (double-patterning)”新技術(shù),能用現(xiàn)有的設(shè)備來達(dá)成更精細(xì)制程,而無需進(jìn)行大規(guī)模的資本投資。   爾必達(dá)位于日本廣島的工廠,將于12月率先量產(chǎn)新DRAM芯片;瑞晶電子
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爾必達(dá)停止研發(fā)PRAM

  •   日刊工業(yè)新聞報(bào)導(dǎo),由于擴(kuò)展應(yīng)用范圍及降低成本不易,爾必達(dá)(Elpida)計(jì)劃停止研發(fā)相位變化隨機(jī)存取存儲(chǔ)器 (PRAM)。   爾必達(dá)監(jiān)于30納米技術(shù)已是DRAM產(chǎn)品細(xì)微化的技術(shù)極限,遂轉(zhuǎn)而研發(fā)PRAM,甚至已送樣容量為128MB的產(chǎn)品,然爾必達(dá)社長(zhǎng)本幸雄認(rèn)為PRAM成本很難降到比Flash低,且應(yīng)用范圍難以擴(kuò)大,故決定停止研發(fā)該產(chǎn)品。日后研發(fā)重心將轉(zhuǎn)至矽穿孔(Through Silicon Via;TSV) 3D IC技術(shù)。   爾必達(dá)于2009年內(nèi)已開始量產(chǎn)40納米技術(shù)DRAM產(chǎn)品,緊接著將朝
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三星電子增加下半年在半導(dǎo)體業(yè)務(wù)投資

  •   電子行業(yè)報(bào)紙ETnews周五報(bào)導(dǎo)稱,預(yù)計(jì)韓國三星電子下半年在一個(gè)半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)施上投資至少1萬億韓元(合7.9億美元)。   該報(bào)未指明消息來源稱,三星下半年在芯片業(yè)務(wù)方面的資本支出料為8,000億韓元左右。   三星半導(dǎo)體事業(yè)群總裁勸五鉉周四在一次業(yè)內(nèi)活動(dòng)上稱,三星預(yù)計(jì)下半年投資“略高于”上半年。   該公司多次拒絕透露今年的資本投資計(jì)劃規(guī)模,或是迄今的已投資額。   ETnews報(bào)稱,芯片業(yè)務(wù)下半年的投資將側(cè)重于引進(jìn)更先進(jìn)的生產(chǎn)技術(shù),比如采用40納米制程生產(chǎn)DRAM和
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NAND Flash再刮大風(fēng) 30納米世代競(jìng)賽起跑

  •   全球NAND Flash需求仍相當(dāng)疲弱,盡管東芝(Toshiba)宣布增產(chǎn)重創(chuàng)市場(chǎng)信心,然存儲(chǔ)器業(yè)者透露,由于東芝43納米制程N(yùn)AND Flash芯片日前打入蘋果(Apple)iPhone供應(yīng)鏈,推測(cè)其增產(chǎn)系為蘋果供貨做準(zhǔn)備,近期更需關(guān)注的是,三星電子(Samsung Electronics)除采用既有42納米制程應(yīng)戰(zhàn),亦開始準(zhǔn)備最新版35納米制程N(yùn)AND Flash芯片,且已陸續(xù)送樣給控制芯片廠,這不僅將對(duì)東芝和英特爾(Intel)、美光(Micron)聯(lián)盟造成壓力,亦將影響NAND Flash市場(chǎng)
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全球閃存市場(chǎng)達(dá)254億美元 廠商Q4投身30nm制程

  •   據(jù)外電報(bào)道,NAND Flash(閃存)制造廠制程技術(shù)持續(xù)不斷推進(jìn),集邦科技表示,各Flash制造廠自今年第四季起將陸續(xù)轉(zhuǎn)進(jìn)30納米制程技術(shù)。   根據(jù)美光預(yù)估,今年全球NAND Flash市場(chǎng)可望增長(zhǎng)至254億美元規(guī)模,除了目前一般數(shù)字影音播放器、UFD(通用串行總線閃存儲(chǔ)存驅(qū)動(dòng)器)、記憶卡等應(yīng)用外,也相當(dāng)看好移動(dòng)儲(chǔ)存市場(chǎng)的發(fā)展?jié)摿Α?   為降低生產(chǎn)成本,強(qiáng)化競(jìng)爭(zhēng)力,NAND Flash制造廠持續(xù)不斷進(jìn)行制程技術(shù)微縮,其中IM Flash陣營已宣示,34納米制程技術(shù)將于今年第四季投產(chǎn)。韓國三星電
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30納米介紹

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