低功耗高增益CMOS LNA的設(shè)計
0 引言
本文引用地址:http://2s4d.com/article/89748.htm快速增長的無線通信市場使得無線通信技術(shù)向著低成本、低功耗、高集成度的方向發(fā)展,同時CMOS技術(shù)已經(jīng)發(fā)展到深亞微米水平,這使CMOS器件的高頻特性得以進(jìn)一步改善,目前已能與SiGe器件和GaAs器件相媲美。此外,CMOS器件功耗極低且集成度高,因而深亞微米CMOS技術(shù)在無線通信系統(tǒng)中具有應(yīng)用潛力。低噪聲放大器(LNA)是無線通信系統(tǒng)射頻接收機(jī)前端的關(guān)鍵模塊,在接收并放大信號的過程中起著關(guān)鍵性的作用,其增益、噪聲、線性度等都將直接影響著整個接收機(jī)的性能。典型的接收機(jī)的接收信號強度在-120~-20 dBm間。因此,所設(shè)計的LNA應(yīng)具備的性能是:在低功耗的前提下能提供足夠大的增益,以克服后繼級(如混頻器)的噪聲干擾;優(yōu)良的噪聲性能以減小對系統(tǒng)動態(tài)范圍的影響;較高的反向隔離度,防止信號的泄漏并增強系統(tǒng)的穩(wěn)定性;良好的線性度,足以抑制干擾和防止靈敏度下降;良好的輸入匹配以利于信號的有效傳輸。由于這些性能指標(biāo)之問常會有矛盾,彼此不能兼顧,所以設(shè)計過程中宜采用折衷方案,兼顧各項性能指標(biāo)的均衡設(shè)置。
常見的CMOS LNA有差分輸入、共柵、共源-共柵等3種結(jié)構(gòu)。根據(jù)文獻(xiàn)[2]對這3種結(jié)構(gòu)LNA的優(yōu)缺點分析,本次設(shè)計的LNA采用經(jīng)典的共源-共柵級間匹配結(jié)構(gòu),設(shè)計的重點是提高增益和降低功耗,且實現(xiàn)片上全集成,同時還要保持良好的噪聲性能和線性度等性能指標(biāo)。為此,文中采用TSMC 0.18μm CMOS RF工藝,設(shè)計了一款工作在中心頻率2.4 GHz下的低功耗、高增益、全集成CMOS LNA。
1 CMOS LNA的電路設(shè)計
1.1 輸入阻抗匹配及噪聲分析
基于CMOS工藝的LNA設(shè)計一般采用經(jīng)典的共源-共柵級聯(lián)結(jié)構(gòu),如圖1所示。這種結(jié)構(gòu)有利于減小Miller效應(yīng),并增加反向隔離度。該結(jié)構(gòu)由兩個MOS器件VT1和VT2組成,其中VT1作為主放大器件為電路提供足夠大的增益,共柵接法的VT2用來減小VT1的柵-漏極寄生電容引起的Miller效應(yīng)。
不考慮溝道電導(dǎo)對于輸入匹配的影響時,利用源極電感Ls和柵極電感Lg可以實現(xiàn)輸入阻抗匹配。LNA的輸入阻抗為
式中:gm為VT1的跨導(dǎo);ω為中心角頻率;Cgs為VT1的柵-源極電容。設(shè)輸入信號角頻率為ω0,調(diào)諧輸入回路使之在工作頻率f0處發(fā)生串聯(lián)諧振,則有諧振角頻率計算式為
諧振時Zi為
由于信號源內(nèi)阻Rs為純電阻,所以通過調(diào)整Ls之值就可使輸入阻抗匹配至50 Ω。
該共源-共柵電路結(jié)構(gòu)利用輸入阻抗Zi實現(xiàn)與信號源的阻抗匹配,無須外接電阻,從而保證輸入端匹配條件下不引入額外的噪聲干擾。文獻(xiàn)[4]中給出源極電感負(fù)反饋的噪聲模型和計算噪聲的公式
式中:RL、Rg分別代表柵極電感Lg的寄生電阻和VT1的柵極電阻;ωT為截止頻率;γ是與工藝有關(guān)的一個噪聲參數(shù)。工藝參數(shù)γ、α和反饋電感Ls的品質(zhì)因數(shù)QL的表達(dá)式分別為
式中:c為柵-漏極噪聲的相關(guān)系數(shù);δ是另一個與工藝相關(guān)的噪聲參數(shù),且δ=2γ;gd0為VT1零偏置時的跨導(dǎo)。工程中用dB為單位來表示噪聲的大小,即噪聲系數(shù)為
分析式(4)可知,QL存在一個最佳值,使LNA的噪聲為最小
1.2 LNA的電路結(jié)構(gòu)設(shè)計
本次設(shè)計的LNA電路的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)見圖2。NMOS器件VT1的源極接反饋電感Ls形成源極去耦電路,VT1的柵極接電感Lg,所有電感均采用片上螺旋電感。為了減小輸入與輸出之間的相互耦合作用,共柵接法的VT2提供了良好的隔離作用,并抑制VT1的Miller效應(yīng),但由于VT1的輸出阻抗與VT2的輸入阻抗均為容性,因此在兩級之間增加一個電感La匹配以提高增益。電容C1用于將射頻信號與直流信號隔開;選擇適當(dāng)?shù)碾娙軨1,使其容抗對于信號頻率可忽略不計,C1的電容量設(shè)為Cgs的6倍;通過調(diào)整電感、電容參數(shù)值可以改變輸入電路的諧振頻率。
該LNA的偏置電路由NMOS器件VT3、基準(zhǔn)電流源Iref及電阻Rb組成。VT3與VT1構(gòu)成一個電流鏡,VT3的溝道寬度W3做得較小,兩者之間的關(guān)系為:VT1溝道寬度W1=20 W3以減小噪聲,并使偏置電路的附加功耗減為最小。Rb用來減少VT3的柵-源極電容效應(yīng),其阻值選取為3 kΩ。
在設(shè)計過程中首先計算出VT1的最佳溝道寬度,以獲得良好的噪聲性能。由于VT2對噪聲的影響可以忽略不計,所以只需優(yōu)化VT1的溝道寬度就可以得到較好的噪聲性能。由于
將式(10)代人式(4)中可得到VT1的溝道最佳寬度W1的計算式
式中:COX、L分別是VT1的單位面積柵氧化層電容、VT1的溝道有效長度。
然后計算電路的電流值,以估算出電路的功耗Pd。由于低功耗設(shè)計要求電路的電流值小于2 mA,而電路中的工作電流IVDD與Pd的關(guān)系式為
所以由電源電壓VDD=1.8 V計算得:IDM1=IDM2=20IDM3=IVDD/1.05,其中IDM1、IDM2和IDM3分別是MOS器件VT1、VT2和VT3的漏極電流。
最后用與輸入相關(guān)的三階交調(diào)(TI)來度量LNA的線性度。當(dāng)MOS器件VT1和VT2被偏置于飽和區(qū)時,輸入TI點(third-order intercept point)IIP3與(UCS-UTH)成正比,即MOS器件的線性度隨著驅(qū)動電壓的增加而提高,式中UGS、UTH分別為VT2的柵-源極直流電壓和閾值電壓。根據(jù)文獻(xiàn)[6]中提出的一種快速估計IIP3的方法,可計算出所設(shè)計電路的IIP3值。
該LNA輸出端電容CL用于隔離直流;負(fù)載電感Ld與寄生電容Cd發(fā)生諧振,所以提高了輸出阻抗和LNA的增益。經(jīng)過推導(dǎo),該LNA的電壓增益Au的計算式為
2 仿真及流片測試結(jié)果
運用TSMC 0.18μm CMOS工藝,采用HSPICE仿真軟件對圖2所設(shè)計LNA進(jìn)行了性能仿真,MOS器件寬長比參數(shù)及電感取值如表1所示。表1中(W/L)1、 (W/L)2、 (W/L)3分別為VT1、VT2、VT3的寬長比。圖3是所設(shè)計LNA的性能仿真曲線,其中圖3(a)為噪聲指數(shù)仿真曲線,由于輸入阻抗匹配(50 Ω)為硬指標(biāo),而此時噪聲匹配不為最佳匹配,即得到的噪聲指數(shù)要比最小值略大,但所設(shè)計的LNA在中心頻率2.4 GHz處可達(dá)到較好的噪聲匹配;圖3(b)為功率增益的仿真曲線,雖然降低功耗在一定程度上影響提高增益,但工藝上的改進(jìn)和級問電感的匹配使設(shè)計的LNA在中心頻率f0處的功率增益為16.8 dB,仍能很好地克服后繼電路的噪聲影響,同時也達(dá)到了設(shè)計目的。圖3(c)和(d)分別為反向隔離度與線性度的仿真曲線,反向隔離度與輸入反射系數(shù)分別小于-62和-14.3,可見實現(xiàn)了功率正向傳輸和良好的輸入匹配。
所設(shè)計的版圖如圖4所示。由于此版圖采用TSMC 0.18μm CMOS工藝中的RF模型,共有3層金屬,所以電容為金屬-金屬極板結(jié)構(gòu),它由第3層和第2層金屬構(gòu)成,其面積由第3層金屬之面積決定;而電感呈現(xiàn)8邊形結(jié)構(gòu),采用頂層(第3層)金屬形成,且做在隔離環(huán)中,此隔離環(huán)接地,用以減小寄生效應(yīng)。因設(shè)計中所有的電感均為片上集成電感,面積較大,故將電感放置于4個角落,使其有一定的尺寸間距從而避免干擾。芯片的面積約為0.7 mm×0.8 mm。
表2列出了所設(shè)計的LNA電路的仿真和測試數(shù)據(jù),由此驗證了所設(shè)計電路的性能,它滿足了當(dāng)電源電壓為1.8 V時低功耗和高增益的要求,因此說明了利用0.18μm CMOS工藝可以實現(xiàn)頻率為2.4 GHz射頻小信號的放大功能。
3 結(jié)論
通過理論分析以及HSPICE仿真和流片測試,在綜合考慮各項性能指標(biāo)的前提下設(shè)計出符合要求的2.4 GHz的低功耗高增益CMOS LNA,其中所有電感都采用Q值較低的片上螺旋電感。為獲得較大的增益且抑制Miller效應(yīng),放大電路部分仍采用經(jīng)典的共源一共柵級問匹配結(jié)構(gòu);在盡量減少引入噪聲源方面實現(xiàn)了片上50 Ω的輸入阻抗匹配;并實現(xiàn)了片上全集成。HSPICE仿真及流片測試結(jié)果表明,設(shè)計的LNA有較高的功率增益、較大的反向隔離度和較低的功耗,滿足了低功耗高增益的設(shè)計要求。隨著最小線寬減至納米量級及電感制作工藝的改進(jìn),0.18μm CMOS工藝可全部利用片上電感設(shè)計成單片全集成結(jié)構(gòu)的LNA,因而電路結(jié)構(gòu)簡單,符合RF IC芯片的微型要求,所以論文的測試結(jié)果對于高增益、低功耗、全集成RF放大電路的設(shè)計,特別是對通信系統(tǒng)用數(shù)一?;旌洗笠?guī)模集成電路的芯片設(shè)計具有指導(dǎo)意義。
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