新聞中心

EEPW首頁 > 光電顯示 > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > LED技術(shù)知識分享:LED芯片的制作中襯底知識大全

LED技術(shù)知識分享:LED芯片的制作中襯底知識大全

作者: 時(shí)間:2013-11-23 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

外延片的生產(chǎn)制作過程是非常復(fù)雜,展完外延片,接下來就在每張外延片隨意抽取九點(diǎn)做測試,符合要求的就是良品,其它為不良品(電壓偏差很大,波長偏短或偏長等)。良品的外延片就要開始做電極(P極,N極),接下來就用激光切割外延片,然后百分百分撿,根據(jù)不同的電壓,波長,亮度進(jìn)行全自動(dòng)化分檢,也就是形成LED晶片(方片)。然后還要進(jìn)行目測,把有一點(diǎn)缺陷或者電極有磨損的,分撿出來,這些就是后面的散晶。此時(shí)在藍(lán)膜上有不符合正常出貨要求的晶片,也就自然成了邊片或毛片等。不良品的外延片(主要是有一些參數(shù)不符合要求),就不用來做方片,就直接做電極(P極,N極),也不做分檢了,也就是目前市場上的LED大圓片(這里面也有好東西,如方片等)。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/222038.htm

半導(dǎo)體制造商主要用拋光Si片(PW)和外延Si片作為IC的原材料。20世紀(jì)80年代早期開始使用外延片,它具有標(biāo)準(zhǔn)PW所不具有的某些電學(xué)特性并消除了許多在晶體生長和其后的晶片加工中所引入的表面/近表面缺陷。

歷史上,外延片是由Si片制造商生產(chǎn)并自用,在IC中用量不大,它需要在單晶Si片表面上沉積一薄的單晶Si層。一般外延層的厚度為2~20μm,而襯底Si厚度為610μm(150mm直徑片和725μm(200mm片)。

外延沉積既可(同時(shí))一次加工多片,也可加工單片。單片反應(yīng)器可生產(chǎn)出質(zhì)量最好的外延層(厚度、電阻率均勻性好、缺陷少);這種外延片用于150mm“前沿”產(chǎn)品和所有重要200mm產(chǎn)品的生產(chǎn)。

外延產(chǎn)品

外延產(chǎn)品應(yīng)用于4個(gè)方面,CMOS互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體支持了要求小器件尺寸的前沿工藝。CMOS產(chǎn)品是外延片的最大應(yīng)用領(lǐng)域,并被IC制造商用于不可恢復(fù)器件工藝,包括微處理器和邏輯芯片以及存儲器應(yīng)用方面的閃速存儲器和DRAM(動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲器)。分立半導(dǎo)體用于制造要求具有精密Si特性的元件?!捌娈悺?exotic)半導(dǎo)體類包含一些特種產(chǎn)品,它們要用非Si材料,其中許多要用化合物半導(dǎo)體材料并入外延層中。掩埋層半導(dǎo)體利用雙極晶體管元件內(nèi)重?fù)诫s區(qū)進(jìn)行物理隔離,這也是在外延加工中沉積的。

目前,200mm晶片中,外延片占1/3.2000年,包括掩埋層在內(nèi),用于邏輯器件的CMOS占所有外延片的69%,DRAM占11%,分立器件占20%.到2005年,CMOS邏輯將占55%,DRAM占30%,分立器件占15%.LED外延片--襯底材料

襯底材料是半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的基石。不同的襯底材料,需要不同的外延生長技術(shù)、芯片加工技術(shù)和器件封裝技術(shù),襯底材料決定了半導(dǎo)體照明技術(shù)的發(fā)展路線。襯底材料的選擇主要取決于以下九個(gè)方面:

1、結(jié)構(gòu)特性好,外延材料與襯底的晶體結(jié)構(gòu)相同或相近、晶格常數(shù)失配度小、結(jié)晶性能好、缺陷密度小

2、界面特性好,有利于外延材料成核且黏附性強(qiáng)

3、化學(xué)穩(wěn)定性好,在外延生長的溫度和氣氛中不容易分解和腐蝕

4、熱學(xué)性能好,包括導(dǎo)熱性好和熱失配度小

5、導(dǎo)電性好,能制成上下結(jié)構(gòu)

6、光學(xué)性能好,制作的器件所發(fā)出的光被襯底吸收小

7、機(jī)械性能好,器件容易加工,包括減薄、拋光和切割等

8、價(jià)格低廉

9、大尺寸,一般要求直徑不小于2英寸。

襯底的選擇要同時(shí)滿足以上九個(gè)方面是非常困難的。所以,目前只能通過外延生長技術(shù)的變更和器件加工工藝的調(diào)整來適應(yīng)不同襯底上的半導(dǎo)體發(fā)光器件的研發(fā)和生產(chǎn)。用于氮化鎵研究的襯底材料比較多,但是能用于生產(chǎn)的襯底目前只有三種,即藍(lán)寶石Al2O3和碳化硅SiC襯底以及Si襯底。

評價(jià)襯底材料必須綜合考慮下列因素:

1.襯底與外延膜的結(jié)構(gòu)匹配:外延材料與襯底材料的晶體結(jié)構(gòu)相同或相近、晶格常數(shù)失配小、結(jié)晶性能好、缺陷密度低;

2.襯底與外延膜的熱膨脹系數(shù)匹配:熱膨脹系數(shù)的匹配非常重要,外延膜與襯底材料在熱膨脹系數(shù)上相差過大不僅可能使外延膜質(zhì)量下降,還會(huì)在器件工作過程中,由于發(fā)熱而造成器件的損壞;

3.襯底與外延膜的化學(xué)穩(wěn)定性匹配:襯底材料要有好的化學(xué)穩(wěn)定性,在外延生長的溫度和氣氛中不易分解和腐蝕,不能因?yàn)榕c外延膜的化學(xué)反應(yīng)使外延膜質(zhì)量下降;

4.材料制備的難易程度及成本的高低:考慮到產(chǎn)業(yè)化發(fā)展的需要,襯底材料的制備要求簡潔,成本不宜很高。襯底尺寸一般不小于2英寸。LED襯底材料匯總

當(dāng)前用于GaN基LED的襯底材料比較多,但是能用于商品化的襯底目前只有三種,即藍(lán)寶石和碳化


上一頁 1 2 下一頁

關(guān)鍵詞: LED技術(shù) LED芯片

評論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉