俄羅斯正在開發(fā)可替代光刻機的芯片制造工具

近期，俄羅斯國際新聞通訊社報道，俄羅斯在開發(fā)可以替代光刻機的芯片制造工具。據(jù)悉，圣彼得堡理工大學的研究人員開發(fā)出了一種“光刻復合體”，可用于蝕刻生產(chǎn)無掩模芯片，這將有助于俄羅斯在微電子領域技術領域獲得主動權。

該設備綜合體包括用于無掩模納米光刻和等離子體化學蝕刻的設備，其中一種工具的成本為500萬盧布（約36.7萬元人民幣），另一種工具的成本未知。

開發(fā)人員介紹，傳統(tǒng)光刻技術需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。該裝置由專業(yè)軟件控制，可實現(xiàn)完全自動化，隨后的另外一臺設備可直接用于形成納米結(jié)構(gòu)，但也可以制作硅膜，例如用于艦載超壓傳感器。

這不是俄羅斯首次對外公布有關光刻機的消息， 2022年10月，俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所就宣布朝光刻機領域展開工作，該研究所希望能開發(fā)俄羅斯首臺本土光刻機，用以生產(chǎn)7納米拓撲芯片。對此，業(yè)界認為，這需要數(shù)年時間才能實現(xiàn)。