國產ArF光刻膠取得重大突破：可用于7nm工藝

作為半導體卡脖子的技術之一，很多人只知道光刻機，卻不知道光刻膠的重要性，這個市場也是被日本及美國公司壟斷，TOP5廠商占了全球85％的份額。

國產光刻膠此前只能用于低端工藝生產線中，能做到G 線（436nm）、I 線 （365nm）水平，目前主要在用的ArF光刻膠還是靠進口，EUV光刻膠目前還沒有公司能生產，基本上都控制在日本公司手中。

不過EUV光刻膠也不是急需的，因為國內目前還沒有EUV工藝量產，193nm的ArF光刻膠更加重要，目前國內有多家公司正在攻關中，這種光刻膠可以用于28nm到7nm工藝的先進工藝。

近日，南大光電在互動平臺表示，公司的ArF光刻膠正在按計劃進行客戶測試，這意味著國內的ArF光刻膠技術取得了重要突破，從研發(fā)開始走向生產。

根據(jù)南大光電公司之前的 消息，公司于2017年開始研發(fā)“193nm 光刻膠項目”，已獲得國家“02 專項”的相關項目立項，公司計劃通過3年的建設、投產及實現(xiàn)銷售，達到年產25噸 193nm（ArF干式和浸沒式）光刻膠產品的生產規(guī)模，產品將滿足集成電路行業(yè)需求標準。