傳Intel Xe獨(dú)顯已亮機(jī)測試：14nm工藝 可戰(zhàn)GTX 1050

在周五的財(cái)報(bào)會(huì)議上，Intel首次了透露了旗下高性能Xe獨(dú)顯的進(jìn)度， CEO司睿博宣布DG1 GPU達(dá)成了一個(gè)重要里程碑。

與此同時(shí)，從AMD跳槽到Intel的圖形及視覺技術(shù)市場總監(jiān)Chris Hook也發(fā)了一條推——It's alive，直譯起來意思是“它還活著”，但是這條推文實(shí)際上應(yīng)該是暗示Intel的Xe GPU已經(jīng)點(diǎn)亮測試了。

此前Intel高級副總Raja Koduri暗示明年6月份的臺北電腦展上會(huì)發(fā)布Xe獨(dú)顯，但后面又有消息說還是2020年下半年發(fā)布，只不過明年何時(shí)發(fā)布，現(xiàn)在這個(gè)時(shí)間點(diǎn)都應(yīng)該是流片驗(yàn)證了，因?yàn)榇笮托酒髌?yàn)證到發(fā)布通常需要一年左右的時(shí)間，Chris Hook的alive暗示DG1獨(dú)顯已經(jīng)進(jìn)入測試階段了。

根據(jù)之前的爆料，Intel的DG1獨(dú)顯將基于Xe架構(gòu)，不過這是一款LP低功耗方向的顯卡，搭配GDDR6顯存，定位在GTX 1050級別的，后者是NVIDIA Pascal架構(gòu)的中低端顯卡，浮點(diǎn)性能1.9TFLOPS左右。

考慮到Intel目前的Gen11核顯的浮點(diǎn)性能已經(jīng)達(dá)到了1TFLOPS以上，Xe架構(gòu)會(huì)更先進(jìn)一代，之前說是核顯級的Gen12（也是Xe架構(gòu)）性能再次翻倍，所以DG1達(dá)到2TFLOPS級別的性能應(yīng)該沒壓力。

不過DG1獨(dú)顯的工藝可能有點(diǎn)特殊，爆料顯示是14nm工藝，而Intel之前的暗示都是說Xe獨(dú)顯使用10nm工藝的。

話說回來，DG1如果是定位在入門級獨(dú)顯市場，那么使用成熟、低成本而且高性能的14nm工藝實(shí)際上更合適，所以不排除Intel在Xe獨(dú)顯上使用14nm工藝作為中低端GPU的生產(chǎn)工藝。

當(dāng)然，2021年的時(shí)候Intel還會(huì)生產(chǎn)7nm工藝的Xe顯卡，不過這是給數(shù)據(jù)中心準(zhǔn)備的高性能GPU，這樣一來Intel的Xe顯卡就集齊14mm、10nm、7nm三種工藝了。