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三星侵犯大學(xué)專利,賠償金或高達4億美元

作者: 時間:2018-06-20 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

  近日,德克薩斯州聯(lián)邦陪審團作出一項裁決:電子因侵犯韓國技術(shù)學(xué)院一項專利技術(shù),需向后者支付賠償金或?qū)⒏哌_4億美元。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/201806/381874.htm

  據(jù)了解,韓國技術(shù)學(xué)院曾向法院提起訴訟,指控電子侵犯了其鰭片晶體管技術(shù)()制程工藝相關(guān)的專利技術(shù)。然而向陪審團表示,它與韓國技術(shù)學(xué)院合作開發(fā)了這項技術(shù),并否認侵犯了相關(guān)專利技術(shù)。三星還對這項專利的有效性提出了質(zhì)疑。就在三星對此不屑一顧時,其對手英特爾公司開始向這項技術(shù)的發(fā)明者取得許可授權(quán),圍繞三星是否侵權(quán)的力量博弈發(fā)生了改變,三星才開始重視這個事件的嚴重性。

  據(jù)悉,三星的這一侵權(quán)行為被裁定為“有意為之”,這意味著法官可以將三星所需支付的賠償金額增加到陪審團規(guī)定的三倍。



關(guān)鍵詞: 三星 FinFET

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