ICCAD盛大開幕 華虹宏力“芯”動亮相
2017年11月16-17日,“中國集成電路設計業(yè)2017年會暨北京集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展高峰論壇”(“2017年ICCAD年會”)在北京稻香湖景酒店舉辦。全球領先的200mm純晶圓代工廠──華虹半導體有限公司(股份代號:1347.HK)之全資子公司上海華虹宏力半導體制造有限公司(“華虹宏力”)精彩亮相。在這場多方矚目的行業(yè)盛會上,華虹宏力積極響應“創(chuàng)新驅(qū)動,引領發(fā)展”的大會主題,向客戶及合作伙伴展示了其差異化特色工藝及最新技術解決方案。
本文引用地址:http://2s4d.com/article/201711/371674.htm11月的北京,氣溫已然低迷。原本清冽的稻香湖畔,卻因“2017年ICCAD年會”的召開而頗顯熾熱。本屆大會深入探討了集成電路產(chǎn)業(yè)面臨的機遇和挑戰(zhàn)。當下,我國集成電路產(chǎn)業(yè)正蓬勃發(fā)展,華虹宏力作為半導體制造企業(yè)的代表,將持續(xù)發(fā)展特色工藝,助力中國“芯”騰飛。
華虹宏力以特色引領創(chuàng)新,在嵌入式非易失性存儲器、功率器件、模擬及混合信號、電源管理IC、射頻和微機電系統(tǒng)(MEMS)等晶圓代工領域享有領先地位。全系列的嵌入式存儲器工藝平臺組合中,專為物聯(lián)網(wǎng)打造的0.11微米超低漏電(ULL)嵌入式閃存平臺,N/P管靜態(tài)漏電<1pA/μm,并支持RF-CMOS設計;95納米單絕緣柵非易失性嵌入式存儲器,包括eFlash、eEEPROM、OTP工藝平臺,助力客戶在MCU應用市場提高競爭力,95納米的低本高效MTP(Multiple-Time Programming)工藝平臺也在加速研發(fā)中;90納米eFlash/eEEPROM工藝平臺則將加固公司在智能卡領域的優(yōu)勢。聚焦功率器件市場,華虹宏力的深溝槽超級結(Deep Trench Super Junction,DT-SJ)及場截止型IGBT(Field Stop,F(xiàn)S IGBT)工藝平臺在業(yè)界廣受認可,其中,第三代DT-SJ實現(xiàn)了超低導通電阻,超高開關速度的特性;1700V IGBT技術已開發(fā)完成,適用于高端工業(yè)及新能源汽車的IGBT技術也指日可待。華虹宏力還可提供全套的電源管理芯片代工方案,擁有全系列的BCD/CDMOS和CMOS模擬工藝平臺,涵蓋1微米到0.13微米,1.8V到700V。正處于戰(zhàn)略準備階段的第二代BCD700V工藝平臺,將在原先基礎上減少2層光罩,并優(yōu)化DMOS性能。針對射頻技術,華虹宏力提供硅襯底全系列工藝解決方案,包括RF SOI、與邏輯工藝兼容的RF CMOS、SiGe BiCMOS以及IPD等。0.2微米射頻SOI工藝設計套件(PDK)頗受好評,能有效幫助客戶提高設計效率。研發(fā)團隊還在持續(xù)研發(fā)0.13微米射頻SOI等射頻相關技術,以響應智能手機出貨量的增長及未來5G移動通信的發(fā)展。
大會期間,華虹宏力戰(zhàn)略、市場與發(fā)展部門部長胡湘俊以“智能時代,暢想芯機遇”為題發(fā)表演講:5G、人工智能等新興領域已開始發(fā)酵,面對“芯”時代,華虹宏力如何走好特色創(chuàng)新之路?演講現(xiàn)場,高潮迭起,精彩不斷。
華虹宏力執(zhí)行副總裁孔蔚然博士在展會現(xiàn)場接受了《半導體制造》專訪。
此次,華虹宏力展臺還特別設置了互動游戲,吸引了大量圍觀。除了有趣的大轉盤游戲讓參與者叫好外,“拍照集贊”的創(chuàng)意游戲也刷爆朋友圈,收獲滿滿人氣。
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