面對(duì)大陸攻勢(shì) 三星海力士強(qiáng)化3D NAND投資
據(jù)韓國(guó)經(jīng)濟(jì)報(bào)導(dǎo),大陸半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在政府的強(qiáng)力支援下,清華紫光與武漢新芯采行攻擊性投資策略,迫使南韓、日本、美國(guó)等主要半導(dǎo)體業(yè)者也紛紛強(qiáng)化投資。
本文引用地址:http://2s4d.com/article/201608/295202.htm市調(diào)業(yè)者DRAM eXchange表示,全球半導(dǎo)體市場(chǎng)中,NAND Flash事業(yè)從2011~2016年以年均復(fù)合成長(zhǎng)率(CARG)47%的速度成長(zhǎng);清華紫光以新成立的長(zhǎng)江存儲(chǔ)進(jìn)行武漢新芯的股權(quán)收購(gòu),成立長(zhǎng)江存儲(chǔ)科技有限責(zé)任公司,未來(lái)可能引發(fā)NAND Flash市場(chǎng)版圖變化。
清華紫光擁有清華大學(xué)的人脈,在社會(huì)上擁有一定的影響力,武漢新芯擁有技術(shù)方面的競(jìng)爭(zhēng)力,兩者合并將為大陸記憶體產(chǎn)業(yè)發(fā)展開(kāi)啟新的局面,同時(shí)也會(huì)對(duì)全球記憶體市場(chǎng)帶來(lái)莫大影響。
先前武漢新芯與美國(guó)材料半導(dǎo)體業(yè)者Spansion共同研發(fā)3D NAND Flash技術(shù),擁有量產(chǎn)32層堆疊晶片的技術(shù)能力,目前武漢新芯則計(jì)劃投資240億美元興建晶圓廠。
面對(duì)大陸的積極追趕,三星電子(Samsung Electronics)持續(xù)進(jìn)行西安工廠的相關(guān)投資,同時(shí)也加緊興建位于南韓的平澤工廠,欲將其打造為全球最大規(guī)模的單一產(chǎn)線,用于投入3D NAND Flash量產(chǎn)。三星在平澤廠區(qū)的投資金額上看15.6兆韓元(約140億美元)。
SK海力士(SK Hynix)在南韓利川興建的M14工廠,預(yù)定從2017年第1季起,進(jìn)行3D NAND Flash二階段量產(chǎn)。目前M11與M12產(chǎn)線已用于生產(chǎn)3D NAND Flash,若再加上M14產(chǎn)線,3D NAND產(chǎn)能可望進(jìn)一步提升。
東芝(Toshiba)與威騰(WD)合作,計(jì)劃在日本三重縣四日市新廠房的第二產(chǎn)線量產(chǎn)3D NAND產(chǎn)品;四日市工廠曾因2010年大地震中斷記憶體產(chǎn)品生產(chǎn)。至于美光(Micron)則計(jì)劃擴(kuò)大新加坡10X工廠生產(chǎn)NAND Flash產(chǎn)品,同時(shí)與華亞科合作,加緊追趕東芝與三星。
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