新聞中心

EEPW首頁(yè) > 測(cè)試測(cè)量 > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > 集成在半導(dǎo)體測(cè)試中的重要性

集成在半導(dǎo)體測(cè)試中的重要性

作者: 時(shí)間:2012-05-10 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

在今年5月1日于美國(guó)加利福尼亞州伯克利(Berkeley)舉行的2006年VLSI測(cè)試研討會(huì)上,一個(gè)專家小組探究了可測(cè)試設(shè)計(jì)(DFT)的發(fā)展前景。我們的姊妹出版物EDN的執(zhí)行主編Ron Wilson報(bào)道說(shuō),討論的主要問(wèn)題是單點(diǎn)工具或DFT是否最佳(參考文獻(xiàn)1)。參加討論的專家所代表的公司包括Cadence Design Systems、Mentor Graphics、Synopsys、SynTest和Virage Logic,他們一致認(rèn)為:如欲建立DFT與設(shè)計(jì)工具、診斷工具、可制造性設(shè)計(jì)工具和ATE的聯(lián)系,那么將是不可或缺的。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/193894.htm

據(jù)Wilson報(bào)道,與會(huì)專家Sanjiv Taneja(Cadence公司負(fù)責(zé)Encounter Test產(chǎn)品線的副總裁)發(fā)表意見(jiàn)說(shuō):EDA行業(yè)是以一批單點(diǎn)工具起步的,而如今這些單點(diǎn)工具已經(jīng)發(fā)展到了適合一種“包容型”架構(gòu)(all-encompassing architecture)的水準(zhǔn)。

構(gòu)筑一個(gè)用于解決設(shè)計(jì)、測(cè)試和成品率問(wèn)題的包容型架構(gòu)是Magma Design Automation公司的目標(biāo)。該公司旨在利用其Talus平臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)采用65nm及更小工藝幾何尺寸制造的IC的快速設(shè)計(jì),這被該公司描述為一個(gè)從RTL至輸出設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)帶的“光刻實(shí)施流程”(lithography-aware implementation flow)。據(jù)Magma公司的一位高級(jí)市場(chǎng)主管Behrooz Zahiri稱,目前推出的是β版的Talus平臺(tái),用于解決定時(shí)、區(qū)域、功耗、信號(hào)完整性、DFT和可制造性方面的問(wèn)題。

當(dāng)我向Zahiri問(wèn)起該技術(shù)的有關(guān)情況時(shí),他告訴我:Talus的主要特點(diǎn)之一是自動(dòng)化程度有所提高。他把以往的EDA方法描述為“電子設(shè)計(jì)輔助”,為了把DFT、內(nèi)置自檢(BIST)、線負(fù)載建模、平面規(guī)劃以及有可能以單點(diǎn)工具的形式存在的其他功能連接在一起,需要進(jìn)行大量的腳本設(shè)計(jì)及其他的工作。他說(shuō):這樣的人工方法已呈難以為繼之勢(shì),因?yàn)槊宽?xiàng)設(shè)計(jì)的投資金額將有可能從130nm工藝節(jié)點(diǎn)時(shí)的500萬(wàn)美元攀升到45nm節(jié)點(diǎn)時(shí)的5000萬(wàn)美元。

Zahiri說(shuō):最初將提供兩種版本的Talus,即:Talus LX和PX,它們分別面向邏輯和結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。他說(shuō):將針對(duì)可制造性和成品率學(xué)習(xí)進(jìn)一步強(qiáng)化Talus。他表示,更多的細(xì)節(jié)信息在7月24日至28日于美國(guó)加利福尼亞州舊金山舉行的設(shè)計(jì)自動(dòng)化會(huì)議上公布于眾。

不過(guò),盡管有人在努力地把設(shè)計(jì)、測(cè)試和成品率控制組合成單一流程,但是,其他的替代方案也在接連面市。例如:Stratosphere Solutions公司剛剛首度推出了其StratoPro平臺(tái),按照該公司首席戰(zhàn)略主管Prashant Maniar的說(shuō)法,這個(gè)平臺(tái)是旨在“構(gòu)建符合集中化市場(chǎng)需求的獨(dú)創(chuàng)技術(shù)”的工作成果的一部分,在此場(chǎng)合中,它抑制了由參量可變性所導(dǎo)致的成品率下降。另外,Incentia Design Systems公司最近公布了其TimeCraft軟件的一個(gè)新版本,該軟件是專為改善面向90nm和65nm設(shè)計(jì)的靜態(tài)時(shí)序分析的準(zhǔn)確度和效率而設(shè)計(jì)的。

歸根結(jié)底,化的潮流是不可逆轉(zhuǎn)的,但是,旨在解決前沿工藝中出現(xiàn)的各種問(wèn)題的新型工具同樣也會(huì)不斷涌現(xiàn)。



關(guān)鍵詞: 集成 半導(dǎo)體測(cè)試

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉