康寧推出EXTREME ULE玻璃，可支持High NA EUV光刻

10月3日消息，全球領(lǐng)先的材料廠商康寧近日宣布推出全新的超低膨脹 （ULE） 材料——EXTREME ULE 玻璃，可以支持芯片制造商利用最新的High NA（高數(shù)值孔徑 ）EUV光刻技術(shù)來大規(guī)模生產(chǎn)當(dāng)今最先進(jìn)、最復(fù)雜的微芯片。

據(jù)介紹，EXTREME ULE玻璃的一個(gè)關(guān)鍵特性是其極低的熱膨脹，可以幫助芯片制造商改進(jìn)光掩模（用于芯片設(shè)計(jì)的模板），使其能夠承受最高強(qiáng)度的極紫外 （EUV）光線 ，包括High NA EUV，該工藝需要極高的熱穩(wěn)定性和均勻的玻璃材料，以幫助確保一致的制造性能。

此外，EXTREME ULE玻璃其卓越的平整度有助于最大限度地減少“光掩模波紋”，從而減少芯片生產(chǎn)中不必要的變化。這些特性使高級(jí)薄膜和光刻膠的應(yīng)用成為可能，以提高產(chǎn)量和性能。

“隨著人工智能的興起，集成芯片制造的需求增長，玻璃創(chuàng)新比以往任何時(shí)候都更加重要，”康寧先進(jìn)光學(xué)副總裁兼總經(jīng)理Claude Echahamian說?！癊XTREME ULE 玻璃將有助于實(shí)現(xiàn)更高功率的 EUV 制造和更高的產(chǎn)量，從而擴(kuò)大康寧在不斷追求摩爾定律中的重要作用?！?/p>

康寧表示，EXTREME ULE 玻璃標(biāo)志著其 ULE（超低膨脹）玻璃產(chǎn)品組合的進(jìn)化，ULE 是一種二氧化鈦硅酸鹽玻璃材料，具有接近零的膨脹特性，長期以來一直用于 EUV 光掩模和光刻反射鏡。通過使用其創(chuàng)新的玻璃成型工藝，康寧希望減少生產(chǎn)過程中的能源使用和廢棄物，從而有助于為康寧的可持續(xù)發(fā)展承諾做出貢獻(xiàn)。

編輯：芯智訊-浪客劍