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場效應(yīng)管工作原理- -場效應(yīng)管工作原理也瘋狂
- 一、場效應(yīng)管的工作原理- -概念 場效應(yīng)管(FET)是場效應(yīng)晶體管(field-effect transistor)的簡稱,由于它僅靠半導體中的多數(shù)載流子導電,也稱為單極性場效應(yīng)管,是一種常見的利用輸入回路的電場效應(yīng)來控制輸出回路電流的一種電壓控制性半導體器件,場效應(yīng)管不但具有雙極性晶體管體積小、重量輕、壽命長等優(yōu)點,而且輸入回路的內(nèi)阻高達107~1012Ω,噪聲低,熱穩(wěn)定性好,抗輻射能力強,且比后者耗電省,這些優(yōu)點使之從20世紀60年代誕生起就廣泛地應(yīng)用于各種電子電路之中。 二、
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高增益高線性度CMOS偶次諧波混頻器設(shè)計
- 混頻器是無線收發(fā)機中的核心模塊, 對整個系統(tǒng)的性能具有很大影響。線性度、轉(zhuǎn)換增益是衡量一個混頻器性能的重要指標。 在接收機中, 混頻器具有一定的轉(zhuǎn)換增益可以降低混頻器后面各級模塊設(shè)計的難度, 有利于提高系統(tǒng)噪聲性能和靈敏度。線性度決定了混頻器能處理的最大信號強度。隨著現(xiàn)代通訊系統(tǒng)對性能要求越來越高, 無論是應(yīng)用于接收機系統(tǒng)的下變頻器(本文指的混頻器) , 還是應(yīng)用于發(fā)射機系統(tǒng)中的上變頻器都要求具有較高的線性度。因此設(shè)計具有高增益和高線性度的混頻器就成為業(yè)界一直研究的熱點。 在CMOS電路設(shè)
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你造嗎? 四大MOSFET實用技巧
- MOSFET是一個時代產(chǎn)物,隨著MOSFET技術(shù)的進展,特別是大電流、小封裝、低功耗的單芯片MOSFET出現(xiàn),它的開關(guān)速度快/輸入阻抗大/熱穩(wěn)定性好等等優(yōu)點,已經(jīng)成為工程師們的首選。 在EEPW論壇呆久了,看了好多網(wǎng)友問起MOS管的事情,有很多童靴對MOS管的使用不是很熟悉,今天有空給大家說幾個關(guān)于MOSFET的技巧的幾個實用技巧的事情。 為了把問題說的明白些,還是有必要把MOS管的身世先介紹一下。 MOSFET管是FET的一種(另一種是JFET),可以被制造成增強型或耗盡型,P溝道
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LED驅(qū)動設(shè)計小Tips:不可不知的5大關(guān)鍵點
- 1、芯片發(fā)熱 這主要針對內(nèi)置電源調(diào)制器的高壓驅(qū)動芯片。假如芯片消耗的電流為2mA,300V的電壓加在芯片上面,芯片的功耗為0.6W,當然會引起芯片的發(fā)熱。驅(qū)動芯片的最大電流來自于驅(qū)動功率MOS管的消耗,簡單的計算公式為I=cvf(考慮充電的電阻效益,實際I=2cvf,其中c為功率MOS管的cgs電容,v為功率管導通時的gate電壓,所以為了降低芯片的功耗,必須想辦法降低c、v和f.如果c、v和f不能改變,那么請想辦法將芯片的功耗分到芯片外的器件,注意不要引入額外的功耗。再簡單一點,就是考慮更好的
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一種低電壓、低功耗模擬電路設(shè)計簡介
- 因為MOS晶體管的襯底或者與源極相連,或者連接到VDD或VSS,所以經(jīng)常被用作一個三端設(shè)備。由于未來CMOS技術(shù)的閾值電壓并不會遠低于現(xiàn)有標準,于是采用襯底驅(qū)動技術(shù)進行模擬電路設(shè)計就成為較好的解決方案[1].襯底驅(qū)動技術(shù)的原理是:在柵極和源極之間加上足夠大的固定電壓,以形成反型層,輸入信號加在襯底和源極之間,這樣閾值電壓就可以減小或從信號通路上得以避開。襯底驅(qū)動MOS晶體管的原理類似于結(jié)型場效應(yīng)晶體管,也就是一個耗盡型器件,它可以工作在負、零、甚至略微正偏壓條件下[2].由于襯底電壓影響與反型層(即導電溝
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移動電源方案技術(shù)深度剖析連載一:小米10400
- 引言: 鑒于目前網(wǎng)絡(luò)上移動電源方案知識甚少,而移動電源最核心的技術(shù)恰恰就在方案,從今開始特在移動電源網(wǎng)開設(shè)移動電源方案技術(shù)篇連載,對目前市面主流品牌,暢銷產(chǎn)品等移動電源方案一一深度剖析,與移動電源設(shè)計師和技術(shù)迷們一起分享!我們首款產(chǎn)品就選目前最熱門的小米10400mAh移動電源吧。 正文: 移動電源網(wǎng)獨家撰稿,轉(zhuǎn)載請保留出處鏈接?! 〈蠹液?我是來福,移動電源資深技術(shù)愛好者,鑒于目前網(wǎng)絡(luò)上移動電源方案知識甚少,而移動電源最核心的技術(shù)恰恰就在方案,從今開始特在移動電源網(wǎng)開設(shè)移動電源方案技術(shù)篇連載,
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mos介紹
MOS
金屬氧化物半導體
MOS
metal-oxide semiconductor
以襯底材料氧化物為絕緣層的金屬-絕緣層-半導體結(jié)構(gòu)。對于硅襯底來說,絕緣層是二氧化硅(SiO2)。場效應(yīng)晶體管、電容器、電阻器和其他半導體設(shè)備都是用這種結(jié)構(gòu)制造。MOS工藝包括CMOS,DMDS,NMOS,PMOS。
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